一种基板、用于基板定位的对位标记以及对位方法技术

本发明专利技术公一种用于基板定位的对位标记，包括第一对位单元，第一对位单元为由待定位点向两侧延伸的长条状结构；长条状结构长边所在的方向为第一方向，与第一方向垂直的为第二方向；在长条状结构上沿第二方向上设置有第二对位单元，第二对位单元包括多个第二对位结构，第二对位结构沿第一方向间隔设置。本发明专利技术还公开包括上述对位标记的基板，以及对位方法。本发明专利技术增加了定位标记的侦测范围，提升了基板定位中的粗对位的成功率。

A substrate, a contraposition mark for locating a substrate, and a counterpoint method

The invention discloses a substrate for positioning the alignment marker includes a first alignment unit, a strip-shaped structure unit is to be positioned at the first position extends to both sides; a strip-shaped structure long side in the direction of the first direction perpendicular to the first direction and second direction; in the long strip structure there are second para units arranged along the second direction, the second bit unit comprises a plurality of second bit structure, second interval counterpoint provided along a first direction. The invention also discloses a substrate including the alignment mark and a contraposition method. The invention increases the detection range of the positioning mark and improves the success rate of the coarse contraposition in the positioning of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种基板、用于基板定位的对位标记以及对位方法
本专利技术涉及显示面板生产领域，具体涉及一种用于基板的对位标记以及对位方法。
技术介绍
显示面板由于其本身结构较为精细，因此，显示面板的生产过程要求也较为精细。因此，在显示面板的生产过程中，很多站点对于位置精度有很高的要求，例如曝光、检测等。在现有技术中，高精度的定位一般分两个步骤，总结来说就是包括粗对位和细对位。一般来说，在粗对位正常的情况下，后续的采用高倍率镜头进行的细对位可以得到较为精确的对位结果。在进行粗对位和细对位的过程中，一般会在待对位物体表面设置对位标记(Mark)的方法来提高对位精度，从而提高定位精度。如图1和图2所示，为现有技术中粗对位步骤中的对位标记在基板上的分布图，图3为图1中的对位标记的放大图。由图1和图3可知，现有技术中的对位标记为十字标记2，一般设置在待对位结构1的边角位置，图1中为一种矩形结构的待对位结构。十字标记2位于矩形结构1的四个角上。其中的圆形3表示对位系统的镜头视野范围，在对位过程中，只有整个十字标记2必须完全位于圆形3内才能真正的完成对位过程。因此，对位标记的可侦测范围肯定要小于对位系统的镜头视野范围，一般情况下对位标记的可侦测范围是很小的，例如1mmx1mm(其中mm为长度单位毫米，1mmx1mm表示对位标记的可侦测范围为横向和纵向个1mm的范围，具体如图2所示的十字标记)。如图3所示，十字结构的中心21的坐标为(x，y)。在十字标记2完整出现在圆形3内，即十字标记2出现在对位系统的镜头视野中时，对位系统自动对准十字标记的中心21，记录该中心位置的坐标，从而完成粗对位步骤。由于现有技术中，基板放置位置的偏差量为2mm，受到现有技术中的光学系统的视野范围的限制，粗对位步骤中的十字结构2的侦测范围较小，因此，很容易出现如图2中所示的十字标记2没有出现在对位系统的镜头视野中的情况，从而造成粗对位步骤的失败。如果让镜头在对位标记周围移动搜索则增加对位时间，降低机台的产出。在现有的设备和光学系统不改变的情况下，增大粗对位对位标记的可侦测范围是一个较为困难的问题。
技术实现思路
为解决现有技术中的对位标记存在的侦测范围较小，容易造成粗对位失败的技术问题，本专利技术提供一种用于基板定位的定位标记及定位方法，还提供包括定位标记的基板，用以增加定位标记的侦测范围，提升粗对位的成功率。根据本专利技术的一个方面，提供一种用于基板定位的对位标记，包括第一对位单元，所述第一对位单元为由待定位点向两侧延伸的长条状结构；所述长条状结构长边所在的方向为第一方向，与第一方向垂直的为第二方向；在所述长条状结构上沿第二方向上设置有第二对位单元，所述第二对位单元包括多个第二对位结构，所述第二对位结构沿第一方向间隔设置。本专利技术中的对位标记设置有多个第二对位结构，因此，本专利技术中的对位标记扩大了对位标记在第一方向上的的侦测范围，从而提高了粗对位步骤成功的几率。根据本专利技术的一个实施例，多个所述第二对位结构沿所述第一方向上，关于待定位点对称分布。根据本专利技术的一个实施例，所述第二对位结构的个数为奇数，所述待定位点设置与位于中间的第二对位结构在第二方向的中心线上。根据本专利技术的一个实施例，位于所述待定位点同一侧的第二对位结构非等间隔设置。根据本专利技术的一个实施例，位于所述待定位点同一侧的第二对位结构，在所述长条状结构一侧的高度不同。根据本专利技术的一个实施例，位于所述待定位点同一侧的第二对位结构，在所述长条状结构一侧在第二方向上的高度，随着离带定位点的距离的增加而逐渐增大或减小。根据本专利技术的一个实施例，所述第二对位结构为矩形结构，所述矩形结构关于长条状结构在第一方向上的中心线对称。根据本专利技术的另一个方面，还提供了一种用于基板定位的对位方法，其特征在于，包括以下步骤：S10：在基板上设置以上所述的对位标记，S20：将对位镜头的视野范围调整到对位标记的位置，S30：对位系统对进入到对位镜头的视野范围内的对位标记进行分析，S40：根据步骤S30中的分析结构得到待定位点的坐标。根据本专利技术的一个实施例，所述步骤S30包括一下子步骤：S31：选取进入镜头视野范围的两个第二对位结构，S32：将对位镜头对准两个第二对位结构之间的中心位置，获得所述中心位置的坐标，S33：根据步骤S32中心位置的坐标以及第二对位结构的位置确定待定为点的坐标。根据本专利技术的另一个方面，还提供了一种基板，所述基板上设置有多个以上所述的用于基板定位的对位标记。附图说明在下文中将基于实施例并参考附图来对本专利技术进行更详细的描述。其中：图1是现有技术中粗对位步骤中的对位标记在基板上的分布图；图2是现有技术中粗对位步骤中的对位标记在基板上的分布图；图3是图1中的对位镜头的视野范围内的对位标记的放大图；图4是本专利技术实施中的用于基板定位的对位标记的结构示意图；图5是专利技术实施例中的用于基板定位的对位标记在对位系统的对位镜头下是示意图；图6是本专利技术实施例中的用于基板定位的对位方法流程图；图7是图6中的步骤S30的子步骤的流程图。在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术作进一步说明。本专利技术中的对位标记主要用于基板定位中的粗对位步骤。如图4所示，为本专利技术实施例中的一种用于基板定位的对位标记，包括第一对位单元41，其中待定位点40位于基板上，在设计对位标记时，第一对位单元由待定位点向两侧延伸，得到如图4所示的长条状结构，长条状结构长边所在的方向为第一方向，在实际应用中，第一方向可以为水平方向也可以为竖直方向，当然对于特殊的情况下还可以为其他任意方向，一般要求在第一方向上对位系统的精度较高，不易发生偏移，例如在曝光工序中，第一方向常为水平方向，待定位基板在一般为矩形结构，此时的第一方向一般与矩形结构其中的一边平行。如图3所示，在第一对位单元41沿第二方向上设置有第二对位单元42，所述第二对位单元有多个第二对位结构。第二对位结构沿第一方向间隔设置。优选的，如图4图5所示，多个第二对位结构沿所述第一方向上，关于待定位点40对称分布。在一些实施例中，第二对位结构的个数可以为偶数个，例如可以为2个、4个、6个或8个等，此时，将待定位点40位于两个第二对位结构中间的位置。优选的，第二对位结构的个数为奇数，例如可以为3个、5个、7个或9个等，此时待定位点40设置与位于中间的第二对位结构在第二方向的中心线上。如图4所示，定位点40位于中间第二对位结构420上。在一些实施中，当第二对位结构有两个以上时，相邻的第二对位结构之间的间隔设置为各不相同。优选的，在待定位点40一侧的第二对位结构，在所述长条状结构一侧在第二方向上的高度，随着离带定位点的距离的增加而逐渐增大或减小。如图4和图5所示，第二对位结构的个数为7个，中间一个，另外6个分三组关于中间一个对称设置。设置在中间的第二对位结构的高度最小为L0，关于待定位点对称设置的第一组第二对位结构421和421`的高度为L1，第二组第二对位结构422和422`的高度为L2，第三组第二对位结构423和423`的高度为L3，其中L0<L1<L2<L3。有规律的设置第二对位结构的高度，可以方便系统对于待定位点的位置的判断。如图4和图5所示的第二对位本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于基板定位的对位标记，其特征在于，包括第一对位单元，所述第一对位单元为由待定位点向两侧延伸的长条状结构；所述长条状结构长边所在的方向为第一方向，与第一方向垂直的为第二方向；在所述长条状结构上沿第二方向上设置有第二对位单元，所述第二对位单元包括多个第二对位结构，所述第二对位结构沿第一方向间隔设置。

【技术特征摘要】
1.一种用于基板定位的对位标记，其特征在于，包括第一对位单元，所述第一对位单元为由待定位点向两侧延伸的长条状结构；所述长条状结构长边所在的方向为第一方向，与第一方向垂直的为第二方向；在所述长条状结构上沿第二方向上设置有第二对位单元，所述第二对位单元包括多个第二对位结构，所述第二对位结构沿第一方向间隔设置。2.根据权利要求1所述的用于基板定位的对位标记，其特征在于，多个所述第二对位结构沿所述第一方向上，关于待定位点对称分布。3.根据权利要求2所述的用于基板定位的对位标记，其特征在于，所述第二对位结构的个数为奇数，所述待定位点设置与位于中间的第二对位结构在第二方向的中心线上。4.根据权利要求3所述的用于基板定位的对位标记，其特征在于，位于所述待定位点同一侧的第二对位结构非等间隔设置。5.根据权利要求4所述的用于基板定位的对位标记，其特征在于，位于所述待定位点同一侧的第二对位结构，在所述长条状结构一侧的高度不同。6.根据权利要求5所述的用于基板定位的对位标记，其特征在于，位于所述待定位点同一侧的第二对...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚成波，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42