显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示装置，包含基板、黑色矩阵以及定位标记。基板具有主动区以及位于该主动区至少一侧的周边区。黑色矩阵设置于基板的主动区。定位标记设置于基板的周边区，其中定位标记包含透明层、第一层以及第二层，依序设置于该基板上，第二层与该黑色矩阵的材料实质相同。

display device

The invention discloses a display device, which comprises a substrate, a black matrix and a positioning mark. The substrate has an active region and a peripheral region located at least one side of the active region. The black matrix is provided on the active region of the substrate. The positioning mark is arranged in the peripheral area of the substrate, wherein the positioning mark comprises a transparent layer, a first layer and a second layer, arranged on the base board in sequence, and the second layer is essentially the same as the material of the black matrix.

【技术实现步骤摘要】
显示装置
本专利技术是关于一种显示装置。
技术介绍
在平面显示技术中，基于制程上对位精度的考量，往往设置有对位标记(alignmentmark)以提升各个层体的对位精准度。现有技术中，在进行黑色矩阵材料层的图案化制程前，以制程机台抓取其底下膜层的对位标记(alignmentmark)。然而，有鉴于对位标记的辨识仰赖于黑色矩阵材料层的透光度，而显示面板的对比度又与黑色矩阵材料层的不透光度有关，此种设计难以同时兼顾显示面板的对位精准度与对比度。
技术实现思路
本专利技术的部分实施方式提供一种显示装置，其在设置黑色矩阵的过程中，使用单一光罩而形成多层对位标记，以达到精准对位，利于后续的制程对位。详言之，通过单一光罩而先后形成不同厚度的层体于透光对位标记上，同时制作黑色矩阵与具有对位精度的对位标记。不仅能够提升后续制程的对位精度，亦不需要额外的光罩与制程流程。根据本专利技术的部分实施方式，一种显示装置包含基板、黑色矩阵以及定位标记。基板具有主动区以及位于主动区至少一侧的周边区。黑色矩阵设置于基板的主动区。定位标记设置于基板的周边区，其中定位标记包含透明层、第一层以及第二层，依序设置于基板上，第二层与黑色矩阵的材料实质相同。于本专利技术的部分实施方式中，第一层与第二层的材料相同。于本专利技术的部分实施方式中，第一层的穿透率小于透明层的穿透率。于本专利技术的部分实施方式中，透明层为一透明导电层。于本专利技术的部分实施方式中，第一层的厚度比第二层的厚度为0.07至0.6。于本专利技术的部分实施方式中，显示装置更包含至少一透明电极，设置于基板的主动区，其中透明电极对应黑色矩阵的至少一开口，且透明电极与透明层的材料实质相同。根据本专利技术的部分实施方式，一种显示装置包含基板、黑色矩阵以及定位标记。基板具有主动区以及位于主动区至少一侧的周边区。黑色矩阵设置于基板的主动区。定位标记设置于基板的周边区，其中定位标记包含导电层、第一层以及第二层，第一层位于导电层与第二层之间，黑色矩阵的厚度与第二层的厚度实质上相同。于本专利技术的部分实施方式中，导电层为氧化铟锡。于本专利技术的部分实施方式中，第一层与第二层的材料相同，且第一层的厚度实质上小于第二层的厚度。于本专利技术的部分实施方式中，第一层以及第二层为负型光阻。附图说明图1A为根据本专利技术的部分实施方式的显示装置的上视示意图。图1B为图1A的线1B-1B的剖面示意图。图2A至图2F为根据本专利技术的部分实施方式的显示装置于多个制作阶段的剖面示意图。其中，附图标记：100：显示装置140：透明电极110：基板150：彩色滤光层110a：上表面152：彩色滤光单元120：黑色矩阵AA：主动区120a：上表面PA：周边区122：开口MK：光罩130：定位标记BE：挡光元件132：底层EP1：第一曝光图案134：第一层EP2：第二曝光图案134a：上表面BM1：第一黑色光阻层136：第二层BM2：第二黑色光阻层136a：上表面1B-1B：线具体实施方式以下将以图式揭露本专利技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本专利技术。也就是说，在本专利技术部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些现有惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式为之。图1A为根据本专利技术的部分实施方式的显示装置100的上视示意图。图1B图1A的线1B-1B的剖面示意图。同时参照图1A与第1B图。显示装置100包含基板110、黑色矩阵120以及定位标记130。基板110具有主动区AA以及位于主动区AA至少一侧的周边区PA。黑色矩阵120设置于基板110的主动区AA。定位标记130设置于基板110的周边区PA，其中定位标记130包含底层132、第一层134以及第二层136，依序设置于基板110上。换句话说，第一层134设置于底层132与第二层136之间。第二层136与黑色矩阵120的材料实质相同。于本专利技术的多个实施方式中，在对应黑色矩阵120的底面与顶面的范围之间，定位标记130具有至少两个层体(在此即为第一层134以及第二层136)。藉由此种设置，可以确保黑色矩阵120设置的精准度。具体而言，在制作显示装置的过程中，往往需通过定位以确保各个层体的位置准确度。本专利技术的多个实施方式中，在设置黑色矩阵120前，可能已配置有其他层体，这些层体具有标记符号(在此为底层132)以帮助后续层体的设置。然而，标记符号(在此为底层132)的辨识效果可能不好，例如过于透光或反光过强，而导致难以通过后续的层体辨识此标记符号(在此为底层132)。本专利技术的多个实施方式中，设计第一层134覆盖底层132，以提供高度差，进而在不使用额外光罩的情况下，改善制作黑色矩阵120时，定位标记130(在此为底层132与第一层134)的识别效果。后续，还可以通过定位标记130(在此为底层132、第一层134以及第二层136)，设置其他元件。于本实施方式中，底层132可接触基板110。底层132可为一透明层，具体而言，第一层134与第二层136的穿透率小于底层132的穿透率。于部分实施方式中，底层132为一透明导电层。举例而言，底层132的材料可以为金属薄膜或金属氧化物半导体(如氧化铟锡、氧化锌)薄膜等。于部分实施方式中，底层132可为一金属层，例如铜、铝、钼，而不以其穿透率为限。图2A至图2F为根据本专利技术的部分实施方式的显示装置100于多个制作阶段的剖面示意图。首先，参照图2A，提供基板110，并设置一透明导电层于基板110的主动区AA与周边区PA上。其后，经由图案化透明导电层，形成透明电极140与底层132，其中透明电极140位于主动区AA，底层132位于周边区PA。于此，主动区AA内的透明电极140可以为一整面连续的结构，而作为共通(COM)电极使用。于其他实施方式中，可以设置多个互相分离的透明电极140，这些互相分离的透明电极140可被独立操作。于部分实施方式中，底层132作为虚设的特征以仅供定位使用。于部分实施方式中，底层132不电性连接透明电极140或其他电路。于此，透明电极140与底层132的厚度TB大约为400埃至600埃。接着，参照图2B，可以旋涂方式(spincoating)设置第一黑色树脂层BM1于基板110的主动区AA与周边区PA上，并覆盖透明电极140与底层132。于部分实施方式中，第一黑色树脂层BM1较薄(例如大约为1000～8000埃)，以便于通过第一黑色树脂层BM1观察到底下的底层132的图案，进而使光罩MK对位。其后，以光罩MK以及挡光元件BE对第一黑色树脂层BM1进行曝光。光罩MK具有对应主动区AA的第一曝光图案EP1与对应周边区PA的第二曝光图案EP2。挡光元件BE能遮蔽光罩MK对应主动区AA的第一曝光图案EP1，而使光罩MK仅能以对应周边区PA的第二曝光图案EP2对第一黑色树脂层BM1进行曝光。于本专利技术的多个实施方式中，挡光元件BE至少能降低曝光光线的强度。举例而言，挡光元件BE能吸收一定波段的光线，该吸收波段至少部分重叠曝光光线的波长范围。当然，不应以此限制本专利技术的范围，挡光元件BE可以吸收、反射或散射曝光光线。在此，第一黑色树脂层BM1的材料选用可为负型光阻，而使第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示装置，其特征在于，包含：一基板，具有一主动区以及位于该主动区至少一侧的一周边区；一黑色矩阵，设置于该基板的该主动区；以及一定位标记，设置于该基板的该周边区，其中该定位标记包含一透明层、一第一层以及一第二层，依序设置于该基板上，而该第二层与该黑色矩阵的材料实质相同。

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，包含：一基板，具有一主动区以及位于该主动区至少一侧的一周边区；一黑色矩阵，设置于该基板的该主动区；以及一定位标记，设置于该基板的该周边区，其中该定位标记包含一透明层、一第一层以及一第二层，依序设置于该基板上，而该第二层与该黑色矩阵的材料实质相同。2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一层与该第二层的材料相同。3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一层的穿透率小于该透明层的穿透率。4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一层的厚度为1000～8000埃。5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一层与该第二层的厚度比值为0.07至0.6。6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，更包含：至少一透明电极，设置于该...

【专利技术属性】
技术研发人员：张心怡，邱大维，
申请(专利权)人：友达光电昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32