【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及气相聚合器，更详细地说是涉及用聚合物原料并且使处于气相状态的单体和/或共聚用单体和固体状聚合催化剂及其它聚合必需的气相进行聚合反应，籍此生成粉状的聚合物(以下称“粉状聚合物”)的气相聚合装置主要构成部分的气相聚合器。作为一般的气相聚合装置，有在气相聚合器中具有分布板的流化床型。在这种流化床型气相聚合装置中，将单体或含有单体的气体(以下只要不特别事先说明，将其简单总称为气体)用气体导入管导入气相聚合器的下部，接着由配置在气相聚合器下部且具有多数个孔的气体分布板使上述导入的气体均一分布在气相聚合器内。该均一分散的气体在气相聚合器内上升，通过此时的气体上升流，一边使已经由聚合反应生成的粉状聚合物和固体状聚合催化剂等粉体流态化，一边形成一定的流化床(流动层)。在该流化床中，由气相的单体和固体状聚合催化剂等粉体进行接触而聚合，生成粉状聚合物。而流化床的厚度可由气体流动等加以控制。另外，在气相聚合器的上部，由气相聚合器接续排出气体的气体排出管。上述气体导入管及该气体排出管，相对于气相聚合器形成使气体循环的气相循环系统(例如环状管路)，在气体相循环系统中，配...
【技术保护点】
气相聚合装置，配备有将在用固体状聚合催化剂以气相进行聚合反应生成粉状聚合物的气相聚合用聚合器内未供聚合反应的未反应单体和其它气相由上述聚合器引出再度供给上述聚合器的气相循环系统，其特征在于，上述聚合器具备：将由上述循环系统送到其内部来的气相扩散分布到上述聚合器内的气体分布板，和置于该气体分布板下方、同时将由上述循环系统送到对着上述聚合器的导入口来的气相对着上述分布板的气流沿上述聚合器的内壁面进行分配的、上面呈倾斜形状的倾斜体。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：冈野俊博，岩月幸平，山本良一，菊池义明，大谷悟，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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