微尘检测机构制造技术

本发明专利技术涉及一种微尘检测机构，在一机体上设有一光学影像模块，且机体上设有一可供承载待检的光罩的载台模块，该载台模块位于光学影像模块下方、且可相对线性位移，本发明专利技术的特色在于机体于光学影像模块周缘设有至少二个相对等距、且等角的光源模块，所述的这些光源结构具有一可调整光源射出角度的激光发光件，使所述的这些激光发光件发出的光源能距焦于光学影像模块的检测范围内，且所述的这些激光光源组的光源接近或等于待检光罩的表面，如此，可提供有效的光源，以避免光源穿透透光件而产生影像干扰，且可供有效办视微尘的大小，能提升其检测的效率与准确率，减少不必要的误判状况，进一步可提高晶圆后续加工的合格率。

【技术实现步骤摘要】
微尘检测机构
本专利技术涉及一种透光件表面的检测
，具体而言是一种可减少透光件两侧表面影像相互干扰的微尘检测机构，以能快速、且准确判断微尘大小。
技术介绍
按，在现今半导体的制程中，是以微影(Photolithography)与蚀刻制程(EtchingProcess)来完成晶圆表面图案的制作，其中用以供微影制程使用的光罩(Mask)具有不可或缺的关键地位。光罩是一绘有特定图案的透光玻璃片，其中包含一具有图形(Pattern)的图案区，供利用一光源，将图案区上的图形转移至晶圆上的光阻，再经过蚀刻制程于晶圆表面完成图案。而光罩为了保护图案区上的图形，图案区的上方通常会设有一图罩护膜(Pellicle)，用来避免图案区上的图形遭受刮伤、污染或破坏。然而，光罩污染是一直存在发生的问题，在操作波长等于或小于248纳米长的光微影制程中，高解析度光罩特别容易受到污染。这些污染包含附着于光罩表面的微粒、结晶、又或雾化等现象，以这类受到污染的光罩应用于黄光微影制程中，其会直接影响光罩上的图形，进一步会造成晶圆制造积体电路的合格率降低。虽然清洗光罩表面可以解决前述的微尘污染问题，但过多的清洗次数不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微尘检测机构，其特征在于，其至少包含有：一机体，其具有一移动轴；一载台模块，其滑设于机体的移动轴，该载台模块可供承载待测的透光件沿机体的移动轴线性位移；一光学影像模块，其设于机体上，供该光学影像模块与该载台模块能够相对位移，该光学影像模块由至少一呈线性扫描的影像感测元件所组成，该至少一影像感测元件的线性扫描延伸轴与载台模块的移动轴呈垂直相交并形成有交点；以及至少二光源模块，其分设于机体的移动轴两侧中的至少一侧，该至少二光源模块分别具有一激光发光件，且至少二该激光发光件的光源射出点与该交点等距且等角，该至少二激光发光件的光源射出点与待测透光件检测表面的夹角角度介于0.5至6度之间。

【技术特征摘要】
1.一种微尘检测机构，其特征在于，其至少包含有：一机体，其具有一移动轴；一载台模块，其滑设于机体的移动轴，该载台模块可供承载待测的透光件沿机体的移动轴线性位移；一光学影像模块，其设于机体上，供该光学影像模块与该载台模块能够相对位移，该光学影像模块由至少一呈线性扫描的影像感测元件所组成，该至少一影像感测元件的线性扫描延伸轴与载台模块的移动轴呈垂直相交并形成有交点；以及至少二光源模块，其分设于机体的移动轴两侧中的至少一侧，该至少二光源模块分别具有一激光发光件，且至少二该激光发光件的光源射出点与该交点等距且等角，该至少二激光发光件的光源射出点与待测透光件检测表面的夹角角度介于0.5至6度之间。2.根据权利要求1所述的微尘检测机构，其特征在于：该至少二光源模块的激光发光件是波长600nm～700nm的红光激光二极管。3.根据权利要求1所述的微尘检测机构，其特征在于：该至少一影像感测元件距离待测透光件检测表面的焦距高度为280mm～320mm，将该线性滑轨的移动轴定义为X轴方向，将该影像感测元件的线性扫描延伸轴定义为Y轴方向，而该至少二光源模块的激光发光件的光源射出点与该交点之间的连线在X轴上的投影距离为300mm～320mm，且该至少二光源模块的激光发光件的光源射出点与该交点在Y轴上的投影距离为120mm～130。4.根据权利要求1所述的微尘检测机构，其特征在于：该微尘检测机构用于检测半导体光罩时，该至少一影像感测元件距离待测透光件检测表面的焦距高度为293mm～305mm，将该线性滑轨的移动轴定义为X轴方向，将该影像感测元件的线性扫描延伸轴定义为Y轴方向，而该至少二光源模块的激光发光件的光源射出点与该交点在X轴上的投影距离为307mm～311mm，且该至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明生，
申请(专利权)人：特铨股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71