【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新型的含氟聚合物。
技术介绍
近年来，在半导体集成电路的制造工序中，随着电路图形的细密化，人们需要高析像度且高感光度的光致抗蚀材料。电路图形越微细，越需要将曝光装置的光源波长缩短。虽然提出了采用聚乙烯基酚类树脂、脂环式丙烯酸类树脂、聚降冰片烯类树脂(例如，国际公开第01/63362号手册等)、氟类树脂(例如，国际公开第00/17712号手册等)等作为采用250nm以下的准分子激光(excimer lasers)的平板印刷术的抗蚀材料用原料聚合物，但是处于不能满足足够的析像度、感光度、高耐干蚀刻性的现状。本专利技术需要解决的问题是提供一种抗蚀材料用的原料聚合物，它能赋予作为抗蚀材料的优异的性质、特好的耐干蚀刻性。
技术实现思路
本专利技术是含氟聚合物，其特征在于，具有环化聚合下式(1)所示的含氟二烯而成的单体单元，CF2＝CR1-R3-C(R4)(R5)-R6-CR2＝CH2(1)式中，R1、R2分别独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数小于等于3的烷基或者碳原子数小于等于3的氟烷基；R3、R6分别独立地表示单键、氧原子、可具有醚性氧原子的碳原子数小于等于...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：川口泰秀，冈田伸治，武部洋子，横小路修，金子勇，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：
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