铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室，所述澄清室内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管，引相管的下端伸入澄清室的溶液内，且引相管的下端与澄清室底部保留有引相间隙，引相管的下端部处固设有刮板组；引相管的上端伸出澄清室的溶液，且引相管的上端通过导出管路连接有软管泵，软管泵的出口管路连接有搅拌槽，搅拌槽的下部通过排出管路连接有第三相储槽，搅拌槽的上部通过处理管路依次串联有压滤泵、压滤机和有机相储槽。本发明专利技术能够在不影响萃取运行情况下，清理沉积在澄清室底部的第三相。

Third phase cleaning device for copper solvent extraction clarification chamber

The invention discloses a third phase copper solvent extraction refining chamber cleaning device, including the clarification chamber is arranged in the third phase of the aggregation structure of the clarification chamber, the third phase aggregation hollow tube structure comprises lead phase, lower phase lead pipes extends into the solution clarification chamber within the tube and lead phase end and a clarifying chamber the bottom retain lead phase gap, a lower end of the guide tube is fixedly provided with a scraper phase group; upper phase lead pipe out the solution to clarify the chamber, and the upper lead phase pipe hose connected with the pump through the outlet pipe, outlet pipe hose pump connected with the mixing tank, mixing tank through the lower part of the discharge pipe is connected with the third phase storage tank, the upper stirring tank connected successively through the processing pipeline pump, filter press and the organic phase storage tank. The invention can clean the third phase which is deposited at the bottom of the clarification chamber without affecting the extraction operation.

【技术实现步骤摘要】
铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置
本专利技术属于铜溶剂萃取
，尤其涉及一种铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置。
技术介绍
第三相，即溶剂萃取过程中在有机相和水相之间形成的不相混溶的第二有机相。第三相的形成有多种原因，如萃取配合物在稀释剂中溶解度小而析出，萃取剂在稀释剂中溶解度小，温度降低，形成多种配合物等。第三相在铜溶剂萃取过程中不可避免，形成的第三相沉积在澄清池底部，而第三相的存在破坏了萃取过程，因此要设法消除。现有第三相清理方式会影响相比、影响分相，并且会造成由清理第三相引起的夹带，带来损失。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，能够在不影响萃取运行情况下，清理沉积在澄清室底部的第三相。为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室，所述澄清室内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管，引相管的下端伸入澄清室的溶液内，且引相管的下端与澄清室底部保留有引相间隙，引相管的下端部处固设有刮板组，刮板组由多个沿引相管外周均布排列设置的刮板组成，每个刮板均沿引相管的轴向布置，且每个刮板下边沿均朝向澄清室底部向下倾斜设置，每个刮板下边沿的外端部与澄清室底部抵接，每个刮板下边沿的内端部与引相管的下端平齐对接；引相管的上端伸出澄清室的溶液，且引相管的上端通过导出管路连接有软管泵，软管泵的出口管路连接有搅拌槽，搅拌槽的下部通过排出管路连接有第三相储槽，搅拌槽的上部通过处理管路依次串联有压滤泵、压滤机和有机相储槽。所述引相管上设置有拖动绳，拖动绳向外延伸至澄清室外部。所述拖动绳设置有两个，两个拖动绳分别设置在引相管的相对两侧。所述导出管路为柔性管。所述引相间隙的距离小于澄清室底部的第三相厚度。所述刮板设置有四个。所述压滤机为板框式压滤机。本专利技术的有益效果：本专利技术中第三相聚集结构在缓慢匀速移动过程中，可以在保证不影响相比、不影响分相情况下，高效聚集三相，同时低频启动软管泵抽取第三相，有效减少由第三相引起的夹带带来损失。本专利技术在不影响萃取运行情况下，实现清理沉积在澄清室底部的第三相，而且清理过的第三相被进行再次处理，实现资源回收，避免资源浪费，再次处理流程如下：抽取出的第三相在搅拌槽中经过搅拌沉淀后，下部物质被导入到第三相储槽，上部混合物经过压滤泵送入压滤机进行固液分离，分离后的有机相导入到有机相储槽。所述引相管上设置有拖动绳，拖动绳向外延伸至澄清室外部，拖动绳设置有两个，两个拖动绳分别设置在引相管的相对两侧。因铜溶剂萃取澄清室的面积较大，拖动绳的设置便于在澄清室外人工牵引引相管，方便作业。所述导出管路选用柔性管，降低引相管牵引时的阻碍，方便操作。所述引相间隙的距离小于澄清室底部的第三相厚度，进一步保证不影响相比、不影响分相。附图说明图1是本专利技术的流程原理图；图2是本专利技术中澄清室部位的结构示意图图3是本专利技术中第三相聚集结构的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式作详细说明，图中箭头方向表示介质流向。如图1至图3所示，本专利技术的铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室1，澄清室1内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管2，引相管2的下端伸入澄清室1的溶液内，且引相管2的下端与澄清室1底部保留有引相间隙，引相管2的下端部处固设有刮板组，刮板组由四个沿引相管2外周均布排列设置的刮板3组成，四个刮板3形成X状结构，每个刮板3均沿引相管2的轴向布置，且每个刮板3下边沿均朝向澄清室1底部向下倾斜设置，每个刮板3下边沿的外端部与澄清室1底部抵接，每个刮板3下边沿的内端部与引相管2的下端平齐对接；引相管2的上端伸出澄清室1的溶液，且引相管2的上端通过导出管路连接有软管泵4，软管泵4的出口管路连接有搅拌槽5，搅拌槽5的下部通过排出管路连接有第三相储槽6，搅拌槽5的上部通过处理管路依次串联有压滤泵7、压滤机8和有机相储槽9。所述引相管2上设置有拖动绳10，拖动绳10向外延伸至澄清室1外部。所述拖动绳10设置有两个，两个拖动绳10分别设置在引相管2的相对两侧。因铜溶剂萃取澄清室的面积较大，拖动绳10的设置便于在澄清室1外人工牵引引相管2，方便作业。所述引相间隙的距离小于澄清室1底部的第三相11厚度，进一步保证不影响相比、不影响分相。所述导出管路选用柔性管，降低引相管2牵引时的阻碍，方便操作。所述压滤机选用板框式压滤机。本专利技术中第三相聚集结构在拖动绳10的牵引下在缓慢匀速移动，在缓慢缓慢匀速移动过程中实现高效聚集三相，并且保证不影响相比、不影响分相，同时低频启动软管泵4经导出管路和引相管抽取第三相，有效减少由第三相引起的夹带带来损失。本专利技术在不影响萃取运行情况下，实现清理沉积在澄清1室底部的第三相，而且清理过的第三相被进行再次处理，实现资源回收，避免资源浪费，再次处理流程如下：抽取出的第三相在搅拌槽5中经过搅拌沉淀后，下部物质被导入到第三相储槽6，上部混合物经过压滤泵7送入压滤机8进行固液分离，分离后的有机相导入到有机相储槽9。以上实施例仅用以说明而非限制本专利技术的技术方案，尽管参照上述实施例对本专利技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解：依然可以对本专利技术进行修改或者等同替换，而不脱离本专利技术的精神和范围的任何修改或局部替换，其均应涵盖在本专利技术的权利要求范围当中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室，其特征在于：所述澄清室内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管，引相管的下端伸入澄清室的溶液内，且引相管的下端与澄清室底部保留有引相间隙，引相管的下端部处固设有刮板组，刮板组由多个沿引相管外周均布排列设置的刮板组成，每个刮板均沿引相管的轴向布置，且每个刮板下边沿均朝向澄清室底部向下倾斜设置，每个刮板下边沿的外端部与澄清室底部抵接，每个刮板下边沿的内端部与引相管的下端平齐对接；引相管的上端伸出澄清室的溶液，且引相管的上端通过导出管路连接有软管泵，软管泵的出口管路连接有搅拌槽，搅拌槽的下部通过排出管路连接有第三相储槽，搅拌槽的上部通过处理管路依次串联有压滤泵、压滤机和有机相储槽。

【技术特征摘要】
1.铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室，其特征在于：所述澄清室内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管，引相管的下端伸入澄清室的溶液内，且引相管的下端与澄清室底部保留有引相间隙，引相管的下端部处固设有刮板组，刮板组由多个沿引相管外周均布排列设置的刮板组成，每个刮板均沿引相管的轴向布置，且每个刮板下边沿均朝向澄清室底部向下倾斜设置，每个刮板下边沿的外端部与澄清室底部抵接，每个刮板下边沿的内端部与引相管的下端平齐对接；引相管的上端伸出澄清室的溶液，且引相管的上端通过导出管路连接有软管泵，软管泵的出口管路连接有搅拌槽，搅拌槽的下部通过排出管路连接有第三相储槽，搅拌槽的上部通过处理管路依次串联有压滤泵、压滤机和有机相储槽。2.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓勃，宋保启，薛永锋，江浩，杜冠华，雒彩军，许海敏，董宁宁，方亮，
申请(专利权)人：灵宝金源矿业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：河南,41