Particle beam irradiation apparatus of the present invention includes: (2), the accelerator beam injection pulse shape; the shielding member (5), with the accelerator (2) particle beam pulse shape from the object to the irradiation (4) radiation shielding function; data base (7). The accelerator (2) and 1 pulses in the number of particles in the driving condition stored in the particle beam time dependence; (8), the operation component according to the irradiation object (4) irradiation target cumulative number of particles and is stored in the database (7) of 1 in the number of particle particle pulse the beam in the time dependence of the shielding member (5) to calculate the shielding action time; and the shielding component (6), the control according to the operation component (8) shielding component operations (5) shielding action time control shielding member (5).
【技术实现步骤摘要】
粒子射线照射装置
本专利技术涉及治疗肿瘤等病灶的粒子射线治疗所使用的粒子射线照射装置。
技术介绍
粒子射线照射装置是将由加速器加速的氢离子、碳离子等射束状的粒子向对象物照射的装置。在将粒子射束向肿瘤等病灶部照射的情况下,为了将该病灶确实地除去,且不损伤其背后的健全的内脏器官,需要进行高精度的照射粒子数量的控制。在以往的粒子射线照射装置中,控制将脉冲状的粒子射束射出的加速器的加速频率等射束控制参数,控制每1个脉冲的粒子数量,且使用射束光闸,控制所照射的脉冲的数量(例如,参照专利文献1)。在先技术文献专利文献专利文献1:日本特开平11-233300号(3-4页、图1)
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是,在控制加速器的射束控制参数来控制每1个脉冲的粒子数量的以往的方法中,根据与预先确定的离散的射束控制参数和每1个脉冲的粒子数量相对应的表格,设定每1个脉冲的粒子数量。因此,所照射的粒子射线的累积粒子数量被限定为每1个脉冲的粒子数量或其倍数,难以设定为任意的值。本专利技术是为解决上述那样的课题而做出的,其目的在于得到一种能够将照射的粒子射线的累积粒子数量设定为任意的值的粒子射线照射装置。用于解决课题的手段本专利技术的粒子射线照射装置具备:加速器,其射出脉冲状的粒子射束;屏蔽构件,其具有将从该加速器射出的脉冲状的粒子射束向照射对象物的照射进行屏蔽的功能;数据库,其与加速器的驱动条件对应地存储粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性;运算构件,其根据向照射对象物照射的目标累积粒子数量和被存储在数据库中的粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性,算出屏蔽构件的屏蔽 ...
【技术保护点】
一种粒子射线照射装置,其特征在于,具备:加速器,其射出脉冲状的粒子射束;屏蔽构件,其具备将从该加速器射出的脉冲状的粒子射束向照射对象物的照射进行屏蔽的功能;数据库,其与所述加速器的驱动条件对应地存储所述粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性;运算构件,其根据向所述照射对象物照射的目标累积粒子数量和被存储在所述数据库中的所述粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性,算出所述屏蔽构件的屏蔽动作的时机;和屏蔽控制构件,其根据由所述运算构件算出的所述屏蔽构件的屏蔽动作的时机,控制所述屏蔽构件。
【技术特征摘要】
2015.11.11 JP 2015-221251;2016.07.25 JP 2016-145091.一种粒子射线照射装置,其特征在于,具备:加速器,其射出脉冲状的粒子射束;屏蔽构件,其具备将从该加速器射出的脉冲状的粒子射束向照射对象物的照射进行屏蔽的功能;数据库,其与所述加速器的驱动条件对应地存储所述粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性;运算构件,其根据向所述照射对象物照射的目标累积粒子数量和被存储在所述数据库中的所述粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性,算出所述屏蔽构件的屏蔽动作的时机;和屏蔽控制构件,其根据由所述运算构件算出的所述屏蔽构件的屏蔽动作的时机,控制所述屏蔽构件。2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置,其特征在于,还具备对于所述照射对象物二维地扫描所述粒子射线射束的扫描构件。3.如权利要求1或2所述的粒子射线照射...
【专利技术属性】
技术研发人员:井上启,坂本裕介,山本和男,
申请(专利权)人:三菱电机株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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