流体控制器制造技术

技术编号:15341793 阅读:132 留言:0更新日期:2017-05-16 23:58
本发明专利技术提供一种在确保耐久性的基础上,能够进行高精度的流量调整的流体控制器。本发明专利技术的流体控制器具备用于设定伴随着开闭的阀杆(8)的上下移动量的上限值的阀杆上下移动量上限值设定单元(10),还具备使伴随着开闭的阀杆(8)的上下移动量在上限值以下的范围内变化的阀杆上下移动量微调整单元(11)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流体控制器
本专利技术涉及一种流体控制器,尤其涉及一种适于在连续性地重复开闭的用途中使用的流体控制器。
技术介绍
作为一种在连续性地重复开闭的用途中使用的流体控制器,已知一种被称为直接接触式隔膜阀(专利文献1)。这样的流体控制器采取气动式,常用于半导体制造装置,要求能够应对高温且具有高耐久性。另外,其一般会在多条管线中使用,这种情况下,还要求消除每条气体管线的流量(Cv值)之间的差。在专利文献1的流体控制器中,为了确保其耐久性(连续开闭动作次数),还提出了将伴随着开闭的阀杆上下移动量(隔膜的变形量)设定为所需值。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利公开2007-64333号公报
技术实现思路
(一)要解决的技术问题根据各气体管线中的阀的位置和阀的个体差异,其各自的流量(Cv值)都稍微有所不同。尤其在半导体制造装置的情况下,靠近腔室使用的阀根据其Cv值,会直接影响所制造的半导体。然而,若配合气体管线等相应地逐个调整阀的Cv值,则可能会出现调整至比能够确保阀的耐久性的阀杆上下移动量更大的移动量的个体。由此,隔膜(和阀)的耐久性可能会降低。即,在确保耐久性的基础上,存在能够进行流量调整的情本文档来自技高网...
流体控制器

【技术保护点】
一种流体控制器,其特征在于,具备:设置有流体通路的主体、设置于主体上方的阀盖、设置于阀盖上方的壳体、开闭流体通路的阀体、通过上升或下降使阀体向打开或关闭方向移动的阀杆、以及使阀杆上下移动的致动器,在所述流体控制器中,具备:用于设定伴随着开闭的阀杆的上下移动量的上限值的阀杆上下移动量上限值设定单元、以及能够对伴随着开闭的阀杆的上下移动量在上限值以下的范围内进行调整的阀杆上下移动量微调整单元。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.25 JP 2014-2625341.一种流体控制器,其特征在于,具备:设置有流体通路的主体、设置于主体上方的阀盖、设置于阀盖上方的壳体、开闭流体通路的阀体、通过上升或下降使阀体向打开或关闭方向移动的阀杆、以及使阀杆上下移动的致动器,在所述流体控制器中,具备:用于设定伴随着开闭的阀杆的上下移动量的上限值的阀杆上下移动量上限值设定单元、以及能够对伴随着开闭的阀杆的上下移动量在上限值以下的范围内进行调整的阀杆上下移动量微调整单元。2.根据权利要求1所述的流体控制器,其特征在于,阀杆上下移动量微调整单元具有移动体,通过使手柄旋转而使所述移动体上下移动,阀杆上下移动量的上限值通过变更阀杆与壳体的距离而获得,阀杆上下移动量的微调整通过和阀杆成为一体的致动器驱动轴与移动体的距离的变化而获得。3.根据权利要求2所述的流体控制器,其特征在于,与阀杆成为...

【专利技术属性】
技术研发人员:谷川毅山路道雄药师神忠幸石桥圭介柳田保昌
申请(专利权)人:株式会社富士金
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1