一种小型静磁场实验装置的使用方法制造方法及图纸

技术编号:15254384 阅读:58 留言:0更新日期:2017-05-02 20:42
本发明专利技术提供了一种小型静磁场实验装置的使用方法,使用的装置主要由磁头和回形支架组成。磁头是一个圆柱体形的强磁铁,回形支架是一个呈矩形的、截面呈圆或矩形的框,框的上部分是左右对称、不连接闭合的支架横梁。磁头能够相对支架横梁移动。其特征在于:操作步骤包括第一步,安装磁头,第二步,调整磁场。第三步,放置样品和实验。本发明专利技术有益效果是装置制作方便简单,成本低廉,通过调控磁铁间距离,能够定量实现对磁场强度的调控,专业性更强。

Method for using small static magnetic field experiment device

The invention provides a method for using a small static magnetic field experiment device. The utility model relates to a magnetic head, which is a strong magnet with a cylindrical shape, and is a rectangular, circular or rectangular frame with a cross section. The head can move relative to the support beam. The utility model is characterized in that the operation step comprises a first step, a magnetic head installation, a second step and a magnetic field adjustment. The third step, placing samples and experiments. The invention has the advantages that the device is convenient and simple to manufacture, and the cost is low. The utility model can realize the regulation of the intensity of the magnetic field by adjusting the distance between the magnets, and is more professional.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种小型可产生小范围磁场的仪器的使用方法,从使用上讲,是一种适合于实验室使用并提供可适当调控的小型静磁场实验装置的使用方法
技术介绍
人类很久以前就发现了磁场,我国古人最先发现并利用磁场制造了指南针,促进了世界航海的兴起。自1820年Ampere制造出世界上第一个电磁铁以来,磁场就成为现代科学研究的一个基本工具,尤其是将强磁场应用于科学研究后,科学界出现了很多新现象和新效应,并由此产生出许多新概念和新思想。但是现在大多的人造磁场都是电磁场,目前,磁仪器的研究方向是制造大型的高强度的巨型磁场,但对于实验室里一些需要尽可能排除干扰的精细实验,需要低强度、静磁场的实验中,例如,新材料的反应合成实验,植物种子、植物体磁场下的分化生长实验,活细胞的磁场感应实验等,这些新研究的电磁场仪器无法使用。所以,现在需要一种适用于实验室的小型的可产生小范围、可微调的磁场的小仪器。因此,需要一种适合于实验室使用,并提供可适当调控的小型静磁场实验装置及使用方法。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术的技术方案为:一种小型静磁场实验装置的使用方法,所使用的装置主要由磁头和回形支架组成。所述磁头是一个圆柱体形的强磁铁,磁头柱体一端的面圆,被加工成平整光滑的平面,磁头柱体另一端加工连接有一个同轴心的圆柱形中空套筒,中空套筒内壁加工有套筒螺纹。圆柱形磁铁用于产生磁场,套筒内部车出螺纹,用于磁铁与支架连接。所述回形支架是一个呈矩形的、截面呈圆或矩形的框,框的上部分是左右对称、不连接闭合的支架横梁。支架横梁的两个端头上加工有横梁螺纹,左右横梁螺纹分别各自与一个磁头的套筒螺纹相配合,即支架横梁上2个平端面相对的磁头左右对称。横梁螺纹用于连接套筒与支架,使套筒能够相对支架移动。并且在两个端头横梁螺纹处加工有到端头等距离长的2个标尺。标尺用于测量套筒移动距离从而获得磁铁距离,回形支架用于支撑整套装置。两个支架侧梁与支架横梁圆弧过渡相接,两个支架侧梁与支架底梁相接。支架底梁配有回形支架底座、回形支架横底座和回形支架横支柱。所述回形支架底座是一个矩形体,根据回形支架底座的宽a的尺寸等于或大于磁头的直径ϕ分为各个不同规格。所述回形支架底座与支架底梁接触面上加工有2个支架底梁嵌柱,支架底梁嵌柱能够嵌入支架底梁对应加工的凹槽中。所述回形支架横底座是2个矩形体,分别安置在回形支架水平放倒后的两个支架侧梁的正下方处;回形支架横底座向上的表面加工有横支柱嵌柱和支架底座嵌柱,分别能够嵌入回形支架横支柱对应加工的凹槽中,和回形支架底座对应加工的凹槽中。所述回形支架横支柱的高度与回形支架底座的宽a的规格一一对应,保证回形支架放倒后水平。其特征在于,操作步骤如下。第一步,安装磁头;根据实验要求的磁场大小,选取一对磁场强度大小一致的、端头平面磁极相反的磁头;先将一个选取好的磁头安装在回形支架一个支架横梁上,完全旋进磁头到中空套筒的长度全部套入支架横梁上,再将选取好的另外一个磁头安装在回形支架另外一个支架横梁上。然后,同时倒退磁头到两个标尺的“0”零刻度处。此时,两个磁头的端平面紧紧相贴合在一起。第二步,调整,根据实验样品的大小,和磁场要求的大小,分别旋钮两个磁头,使两个磁头逐渐分开,到合适相间距离后,将2个磁头固定到两个标尺的相同刻度。记录标尺读数,查标尺对应的磁场强度。也就是说,装置的每一对磁头相隔的标尺距离,我们都事先测量好磁场强度,绘制成表格,便于实验使用。或在下一步中,直接测定样品位置处的磁场强度。第三步,放置样品实验;根据实验样品大小,选择竖直放置装置;或选择水平放置装置,选配回形支架横支柱与回形支架底座的宽a的规格。将试验样品,放入2个磁头之间的空隙中,依据设定时间长度,观察测定试验样品的效果。实验期间,能够继续调整2个磁头之间的距离,改变磁场强度。上述技术方案中,所使用的装置,所述支架横梁上左右对称的2个磁头的套筒螺纹,其螺纹螺距一致,旋进最大距离一致,标尺测量值一致。保证了磁头旋进距离与标尺测量值一致。所述回形支架是由一个整体的软磁铁加工而成,或由同一种软磁铁精密加工紧密配合组装而成;所述中空套筒是由软磁铁制成;所述磁头根据其磁性强弱或磁头的直径ϕ尺寸大小分为不同的规格。本专利技术的目的是利用两块小型的圆形磁铁平行放置产生小型磁场,并通过在磁铁两边加上标有尺寸的可调螺旋来调控磁铁间距离,从而通过调控磁铁间距离,实现对磁场强度的调控作用。实现了制作一种适用于实验室的小型的、能够小范围产生可调磁场场强的磁场仪器。本专利技术技术特点是操作方便、又有专业性。本专利技术有下列有益效果:(1)制作方便简单,成本低廉。(2)专业性更强。(3)通过调控磁铁间距离,能够定量实现对磁场强度的调控。附图说明图1为本专利技术的磁头部件的主视示意图。图2为本专利技术的磁头部件的左剖视示意图。图3为本专利技术的主要部件主视示意图。图4为本专利技术的一种竖直使用装配的主视示意图。图5为本专利技术的一种水平使用装配的示意图。图6为本专利技术的回形支架横底座的装配剖视示意图。图中:1.磁头;2.套筒螺纹;3.中空套筒;4.回形支架;5.支架横梁;6.横梁螺纹;7.标尺;8.支架侧梁;9.支架底梁;10.回形支架底座;11.回形支架横底座;12.回形支架横支柱;13.横支柱嵌柱;14.支架底座嵌柱;15.支架底梁嵌柱。具体实施方式下面结合附图和实施例进一步对本专利技术加以说明。实施例一参照图1至图6的形状结构,一种小型静磁场实验装置,磁头1的磁场强度0.5T,2个磁头1圆形端平面NS极相对,直径ϕ=30mm。回形支架底座10的宽a=30mm。回形支架横底座11高5mm,回形支架横支柱12高10mm。2个磁头间距范围0.0mm至50mm。操作步骤如下。第一步,安装磁头。先将一个选取好的N极磁头安装在回形支架一个支架横梁上,完全旋进磁头到中空套筒的长度全部套入支架横梁上,再将选取好的另外一个S极磁头安装在回形支架另外一个支架横梁上。然后,同时倒退磁头到两个标尺的“0”零刻度处。此时,两个磁头的端平面紧紧相贴,吸合在一起。第二步,调整磁场。根据实验样品的大小,和磁场要求的大小,分别旋钮两个磁头,使两个磁头逐渐分开,将2个磁头固定到两个标尺的相同刻度“15”处,此时两磁头间距为30mm,记录标尺读数,查标尺对应的磁场强度。第三步,放置样品和实验。水平放置装置,将防有合成材料反应试验样品的1.5mL离心管,放入2个磁头之间的30mm空隙中,静置12h时间,金相显微镜观察测定试验样品的效果。然后,调整将2个磁头固定到两个标尺的相同刻度“8”处,此时两磁头间距为16mm,记录标尺读数,查标尺对应的磁场强度。再继续将1.5mL离心管样品放入2个磁头之间的16mm空隙中,静置12h时间,观察实验结果。实施例二参照图1至图6的形状结构,一种小型静磁场实验装置,磁头1的磁场强度1T,2个磁头1圆形端平面NS极相对,直径ϕ=50mm。回形支架底座10的宽a=70mm。回形支架横底座11高5mm,回形支架横支柱12高30mm。2个磁头间距范围0.0mm至150mm。水平放置装置,操作方法同实施例一,在2个磁头之间的20mm空隙中,放入待发芽花种样品。每24h观察记录一次实验效果。实施例三参照图1至图6的形状结构,一种小型静磁场实验本文档来自技高网...
一种小型静磁场实验装置的使用方法

【技术保护点】
一种小型静磁场实验装置的使用方法,使用的装置主要由磁头(1)和回形支架(4)组成;所述磁头(1)是一个圆柱体形的强磁铁,磁头(1)柱体一端的面圆,被加工成平整光滑的平面,磁头(1)柱体另一端加工连接有一个同轴心的圆柱形中空套筒(3),中空套筒(3)内壁加工有套筒螺纹(2);所述回形支架(4)是一个呈矩形的、截面呈圆或矩形的框,框的上部分是左右对称、不连接闭合的支架横梁(5),支架横梁(5)的两个端头上加工有横梁螺纹(6),左右横梁螺纹(6)分别各自与一个磁头(1)的套筒螺纹(2)相配合,即支架横梁(5)上2个平端面相对的磁头(1)左右对称;并且在两个端头横梁螺纹(6)处加工有到端头等距离长的2个标尺(7);两个支架侧梁(8)与支架横梁(5)圆弧过渡相接,两个支架侧梁(8)与支架底梁(9)相接;支架底梁(9)配有回形支架底座(10)、回形支架横底座(11)和回形支架横支柱(12);所述回形支架底座(10)是一个矩形体,根据回形支架底座(10)的宽a的尺寸等于或大于磁头(1)的直径ϕ分为各个不同规格;所述回形支架底座(10)与支架底梁(9)接触面上加工有2个支架底梁嵌柱(15),支架底梁嵌柱(15)能够嵌入支架底梁(9)对应加工的凹槽中;所述回形支架横底座(11)是2个矩形体,分别安置在回形支架(4)水平放倒后的两个支架侧梁(8)的正下方处;回形支架横底座(11)向上的表面加工有横支柱嵌柱(13)和支架底座嵌柱(14),分别能够嵌入回形支架横支柱(12)对应加工的凹槽中,和回形支架底座(10)对应加工的凹槽中;所述回形支架横支柱(12)的高度与回形支架底座(10)的宽a的规格一一对应,保证回形支架(4)放倒后水平;其特征在于,操作步骤如下:第一步,安装磁头(1);根据实验要求的磁场大小,选取一对磁场强度大小一致的、端头平面磁极相反的磁头(1);先将一个选取好的磁头(1)安装在回形支架(4)一个支架横梁(5)上,完全旋进磁头(1)到中空套筒(3)的长度全部套入支架横梁(5)上,再将选取好的另外一个磁头(1)安装在回形支架(4)另外一个支架横梁(5)上;然后,同时倒退磁头(1)到两个标尺(7)的“0”零刻度处,此时,两个磁头(1)的端平面紧紧相贴合在一起;第二步,调整;根据实验样品的大小,和磁场要求的大小,分别旋钮两个磁头(1),使两个磁头(1)逐渐分开,到合适相间距离后,将2个磁头(1)固定到两个标尺的相同刻度;记录标尺(7)读数查标尺(7)对应的磁场强度,或在下一步中,直接测定样品位置处的磁场强度;第三步,放置样品实验;根据实验样品大小,选择竖直放置装置;或选择水平放置装置,选配回形支架横支柱(12)与回形支架底座(10)的宽a的规格;将试验样品,放入2个磁头之间的空隙中,依据设定时间长度,观察测定试验样品的效果;实验期间,能够继续调整2个磁头(1)之间的距离,改变磁场强度。...

【技术特征摘要】
1.一种小型静磁场实验装置的使用方法,使用的装置主要由磁头(1)和回形支架(4)组成;所述磁头(1)是一个圆柱体形的强磁铁,磁头(1)柱体一端的面圆,被加工成平整光滑的平面,磁头(1)柱体另一端加工连接有一个同轴心的圆柱形中空套筒(3),中空套筒(3)内壁加工有套筒螺纹(2);所述回形支架(4)是一个呈矩形的、截面呈圆或矩形的框,框的上部分是左右对称、不连接闭合的支架横梁(5),支架横梁(5)的两个端头上加工有横梁螺纹(6),左右横梁螺纹(6)分别各自与一个磁头(1)的套筒螺纹(2)相配合,即支架横梁(5)上2个平端面相对的磁头(1)左右对称;并且在两个端头横梁螺纹(6)处加工有到端头等距离长的2个标尺(7);两个支架侧梁(8)与支架横梁(5)圆弧过渡相接,两个支架侧梁(8)与支架底梁(9)相接;支架底梁(9)配有回形支架底座(10)、回形支架横底座(11)和回形支架横支柱(12);所述回形支架底座(10)是一个矩形体,根据回形支架底座(10)的宽a的尺寸等于或大于磁头(1)的直径ϕ分为各个不同规格;所述回形支架底座(10)与支架底梁(9)接触面上加工有2个支架底梁嵌柱(15),支架底梁嵌柱(15)能够嵌入支架底梁(9)对应加工的凹槽中;所述回形支架横底座(11)是2个矩形体,分别安置在回形支架(4)水平放倒后的两个支架侧梁(8)的正下方处;回形支架横底座(11)向上的表面加工有横支柱嵌柱(13)和支架底座嵌柱(14),分别能够嵌入回形支架横支柱(12)对应加工的凹槽中,和回形支架底座(10)对应加工的凹槽中;所述回形支架横支柱(12)的高度与回形支架底座(10)的宽a的规格一一对应...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖晓玲徐文峰徐紫宸
申请(专利权)人:重庆科技学院
类型:发明
国别省市:重庆;50

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