一种光学高透消影膜及制备方法技术

本发明专利技术涉及到一种光学高透消影膜及制备方法，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：丙烯酸酯类100份；光引发剂0.5~1.0份；微粒子150~200份；第一溶剂250~900份。其中所述微粒子粒径为0.01‑0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10‑15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：丙烯酸酯类加硬树脂涂液100份；光引发剂0.1~0.5份；三甲基氯硅烷1~5份；第二溶液12.5~50份。所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂100份，二氧化硅5～15份，第三溶剂90～210份。

Optical high transparent film and preparation method thereof

The present invention relates to an optical high permeability vanishing film and preparation method, which comprises the optical transparent film, the film on the first surface of the composite with a thickness of 1 ~ 4 m of the hardened layer, the base film second on the surface of composite with thickness of 0.5 ~ IM layer 2 m among them, the; the IM layer comprises the following components: 100 quality acrylate; photoinitiator 0.5~1.0; 150~200 particles; the first solvent 250~900. The particle grain diameter of 0.01 0.3 m, including metal oxides, calcium fluoride and zinc sulfide, the proportion of three for (10 15): 3:2; the hardened layer comprises the following components: the quality of acrylate and hard resin coating solution 100; photoinitiator 0.1~0.5; three methyl chloride silane 1~5 parts; second solution 12.5~50. The acrylic resin plus hard resin coating liquid comprises the following components: 100 kinds of acrylic resin, silicon dioxide of about 5 to 15 parts, and the solvent of third to 210 parts.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到触控屏用涂膜，特别是涉及一种光学高透消影膜及制备方法。
技术介绍
透明导电膜应用于触控屏中，特别是静电容式触控屏，表面呈现的蚀刻纹对于视觉效果影响较大。市场上有通过相应地技术来降低蚀刻纹的可见度。例如通过单面多层高低折射层的叠加来制作导电膜的基膜，即消影膜；或通过双面多层涂覆高低折射层来制作消影膜；但以上技术存在一定问题点：涂层层数较多，太厚重，涂膜成本高，膜易龟裂；且透过率较低，在85％-90％之间。为了薄型化、轻量化、挠性化等，使用透明膜替代玻璃板，然而透明膜存在如下问题：容易透过水蒸气，易引起电子部件内部的元器件的劣化。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术的现状提供一种轻薄、耐湿热性好的光学高透消影膜。本专利技术所要解决的另一个技术问题上针对现有技术的现状提供一种轻薄、耐湿热性好的光学高透消影膜的制备方法。本专利技术解决上述技术问题所采用的技术方案为：该光学高透消影膜，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：其中所述微粒子粒径为0.01-0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10-15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂100份二氧化硅5～15份第三溶剂90-210份较好的，所述丙烯酸酯类选自乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯、乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化丙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯和己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯中的至少一种。更好地，所述丙烯酸酯类选自二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和/或二季戊四醇六丙烯酸酯。上述各方案中，所述丙烯酸酯类树脂优选自三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化丙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的至少一种。所述金属氧化物优选自氧化锆、氧化锌、氧化钛和氧化硅中的至少一种。上述各方案中，所述光引发剂优选为2-羟基2-甲基1-苯基丙酮、二苯基乙酮、二苯甲酮、苯甲酰甲酸甲酯或苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦。优选所述IM层的折射率为1.6％-1.85％，IM面硬度≥1H，加硬面硬度≥2H。上述各方案中的基膜可以根据需要选用现有技术中的任意一种，优选所述基膜为光学PET膜，厚度为25-50μm。较好的，所述第一溶剂、所述第二溶剂和第三溶剂均选自丙二醇单甲基醚、甲基乙基酮、甲苯、环己酮和醋酸乙酯中的至少一种。上述各方案中的光学高透消影膜的制备方法，其特征在于包括下述步骤：按比例取所述IM层的各组分，混合均匀即得到IM层涂液；按比例取所述加硬层的各组分，混合均匀即得到加硬层涂液；在基膜的第一表面上涂覆IM涂液，通过300mj/cm2的UV能量固化0.5～1.5min，即得到复合在基膜上的IM层；在PET的第二表面上涂覆上加硬层涂液，通过350mj/cm2的UV能量固化0.5～1.5min，即得到光学高透消影膜。与现有技术相比，本专利技术所提供的光学高透消影膜及制备方法消影膜的全光透过率≥92％、雾度＜1％，40℃95％RH时水蒸气透过率＜0.08g/(m2×24h×1atm)；其中硫化锌、氟化钙的添加改善IM层的折射率，并减少层与层之间光的折射损耗，能有效提高消影膜的全光透过率，能有效提高触控屏的视觉效果；三甲基氯硅烷的添加能有效抑制水蒸气的进入，耐湿热性优良，避免电子元器件的劣化；以上厚度范围内的IM层和加硬层相结合，提高了消影膜的挠曲性，避免了消影膜的龟裂，同时保证消影膜表面不被划伤。具体实施方式以下结合实施例对本专利技术作进一步详细描述。实施例1制备IM层涂液：100质量份的二季戊四醇五丙烯酸酯，20质量份粒径为0.08μm的硫化锌、30质量份粒径为0.01μm的氟化钙、100质量份粒径为0.3μm的氧化锌，用100质量份丙二醇单甲基醚作为稀释溶剂，再添加650质量份甲基乙基酮稀释，0.5质量份2-羟基2-甲基1-苯基丙酮，得到固含量为25％的IM层涂液。制备加硬层涂液：100质量份的丙烯酸类加硬树脂涂液，添加1质量份三甲基氯硅氧烷，50质量份甲苯和0.1质量份二苯甲酮，混合均匀后得到固含量为35.8％的加硬层涂液。其中丙烯酸类加硬树脂涂液为50质量份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、3质量份二氧化硅和47质量份甲苯的混合物。使用网纹辊在50μm厚的PET的第一表面上涂覆上IM层涂液，通过300mj/cm2的UV能量进行固化1min，得到1μmIM层，IM层的折射率为1.65％；然后使用网纹辊在PET的另一面涂覆加硬层涂液，通过350mj/cm2的UV能量进行固化1min，得到3μm加硬层，最终得到透明消影膜。实施例2制备IM层涂液：100质量份的二季戊四醇四丙烯酸酯，20质量份硫化锌(粒径0.05μm)、30质量份氟化钙(粒径0.1μm)、100质量份氧化钛(粒径0.2μm)，用100质量份醋酸乙酯作为稀释溶剂，再添加650质量份环己酮稀释和1.0质量份二苯基乙酮，混合均匀后即得到固含量为25％的IM层涂液。制备加硬层涂液：100质量份的丙烯酸酯类加硬树脂涂液，添加3质量份三甲基氯硅氧烷，30质量份环己酮和0.5质量份苯甲酰甲酸甲酯，混合均匀后得到固含量为28.5％的加硬层涂液。丙烯酸酯类加硬树脂涂液为32质量份二季戊四醇五丙烯酸酯、3质量份二氧化硅和65质量份环己酮的混合物。使用网纹辊在25μm厚的PET的第一表面涂覆IM层涂液，通过300mj/cm2的UV能量进行固化1min，得到0.5μm后的IM层，IM层的折射率为1.75％；然后使用网纹辊在PET的第二表面涂覆加硬层涂液，通过350mj/cm2的UV能量进行固化1min，形成4μm厚的加硬层，即得到透明消影膜。实施例3制备IM层涂液：取100质量份的二季戊四醇六丙烯酸酯，20质量份硫化锌(粒径0.05μm)、30质量份氟化钙(粒径0.1μm)、100质量份氧化锆(粒径0.3μm)、50质量份氧化锌(粒径0.2μm)，用100质量份丙二醇单甲基醚作为稀释溶剂，再添加650质量份甲基乙基酮稀释和0.8质量份2-羟基2-甲基1-苯基丙酮，混合均匀后即得到固含量为28.6％的IM层涂液。制备加硬层涂液：100质量份的丙烯酸酯类加硬树脂涂液，添加5质量份三甲基氯硅氧烷，15质量份甲基乙基酮和0.3质量份苯甲酰甲酸甲酯，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学高透消影膜，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：其中所述微粒子粒径为0.01‑0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10‑15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂         100份二氧化硅               5～15份第三溶剂               90～210份。

【技术特征摘要】
1.一种光学高透消影膜，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：其中所述微粒子粒径为0.01-0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10-15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂100份二氧化硅5～15份第三溶剂90～210份。2.根据权利要求1所述的光学高透消影膜，其特征在于所述丙烯酸酯类选自乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯、乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化丙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯和己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯中的至少一种。3.根据权利要求2所述的光学高透消影膜，其特征在于所述丙烯酸树脂选自二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和/或二季戊四醇六丙烯酸酯。4.根据权利要求1所述的光学高透消影膜，其特征在于所述丙烯...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆建贤，
申请(专利权)人：宁波大榭开发区综研化学有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33