一种紫外低透过率测量用衰减片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种紫外低透过率测量用衰减片，其具有玻璃基片(4)、以及依次沉积在所述玻璃基片(4)表面的第一薄膜层(1)、第二薄膜层(2)和第三薄膜层(3)，所述第一薄膜层(1)为含有掺杂3％Ga的ZnO的GZO层，所述第二薄膜层(2)为Ag层，所述第三薄膜层(3)为GZO层。以本实用新型专利技术衰减片透过率做中间量，将同一电压下样品和衰减片的透射相对能量的比值乘以衰减片透过率，间接得到样品的透过率，解决了溴钨灯光源测得的相对能量超过量程、伞布的透射能量数值小等原因造成的无法直接测得伞布透过率的问题，扩大了透过率可测波长范围。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学
，尤其涉及一种紫外低透过率测量用衰减片。
技术介绍
目前在测量伞布的透过率时，使用溴钨灯光源模拟太阳的紫外辐射。利用WG-8A型组合式光栅光谱仪，调整其分辨本领在1.0nm，获取波长范围在280～500nm的透射能量光谱。通过光栅光谱仪得到溴钨灯的相对能量光谱。再在入射光口放上待测样品——某品牌伞的伞布(其UPF>40)。保证伞布在平整、充分绷直状态下遮挡入射光口，再测样品透射的相对能量光谱。将相同波长下的样品透射的相对能量ET与溴钨灯光源的相对能量EB相比，得到伞布的能量透过率T，即：T＝ET/EB。通过《GB/T18830-2009纺织品防紫外线性能标准》(以下简称《GB/T18830》)中的UPF的计算公式进一步计算出紫外线防护系数。但是，由于溴钨灯光源测得的相对能量超过量程、伞布的透射能量数值小，无法直接测得伞布透过率。为了克服现有技术的上述缺陷，本技术提出了一种紫外低透过率测量用衰减片。
技术实现思路
本技术提出了一种紫外低透过率测量用衰减片，其具有玻璃基片、以及依次沉积在所述玻璃基片表面的第一薄膜层、第二薄膜层和第三薄膜层，所述第一薄膜层为含有掺杂3％Ga(镓)的ZnO(氧化锌)的GZO层，所述第二薄膜层为Ag(银)层，所述第三薄膜层为GZO层。本技术提出的所述紫外低透过率测量用衰减片中，所述第一薄膜层的厚度为20-60nm。本技术提出的所述紫外低透过率测量用衰减片中，所述第三薄膜层的厚度为20-60nm。本技术提出的所述紫外低透过率测量用衰减片中，所述第一薄膜层与所述第三薄膜层的厚度相等。本技术提出的所述紫外低透过率测量用衰减片中，所述第二薄膜层的厚度为8-15nm。本技术的有益效果在于：以本技术衰减片透过率做中间量，将同一电压下样品和衰减片的透射相对能量的比值乘以衰减片透过率，间接得到样品的透过率，解决了溴钨灯光源测得的相对能量超过量程、伞布的透射能量数值小等原因造成的无法直接测得伞布透过率的问题，扩大了透过率可测波长范围。附图说明图1是本技术衰减片的结构图。具体实施方式结合以下具体实施例和附图，对本技术作进一步的详细说明。实施本技术的过程、条件、实验方法等，除以下专门提及的内容之外，均为本领域的普遍知识和公知常识，本技术没有特别限制内容。如图1所示，本技术紫外低透过率测量用衰减片，其具有玻璃基片4、以及依次沉积在玻璃基片4表面的第一薄膜层1、第二薄膜层2和第三薄膜层3，第一薄膜层1为含有掺杂3％Ga的ZnO的GZO层，第二薄膜层2为Ag层，第三薄膜层3为GZO层。第一薄膜层1和第三薄膜层3的厚度为20-60nm。第一薄膜层1与第三薄膜层3的厚度相等或不相等均可。第二薄膜层2的厚度为8-15nm。制作本技术衰减片的步骤为：依次用洗洁精、去离子水、乙醇、丙酮、异丙醇浸泡玻璃基片4并置于超声清洗机内分别超声清洗20分钟，接着用氮气吹干，然后在140度温度下烘干玻璃基片4；用紫外臭氧除去玻璃基片4表面的有机物；用磁控溅射仪器在玻璃基片4表面溅射沉积GZO(掺杂3％Ga的ZnO)形成第一薄膜层1，在第一薄膜层1的表面溅射沉积Ag形成第二薄膜层2，最后在第二薄膜层2的表面溅射沉积GZO形成第三薄膜层3。使用本技术衰减片测量样品的紫外低透过率具体涉及如下步骤：首先得到光源相对能量EB，然后在入射光口放上衰减片，得到衰减片的透射能量ET′，并计算出衰减片的透过率T′，即：T′＝ET′/EB。测量了在加同一电压下的伞布和衰减片的相对能量光谱——ET、ET′，通过下式，间接计算出同一波长下的伞布的透过率，即提高光电倍增管所加电压，使ET′在合适的第一工作电压下，在紫外波段的最大值接近于光栅光谱仪的量程。ET、ET′的测量值与T′的测量值可以是来自于不同电压下的测量结果，但为了减少模数转换误差，尽量选择高电压下所测量的值来进行计算。例如本实施例中，测量在光电倍增管加600V负电压下的第一工作电压下，测得伞布和衰减片的透射相对能量ET、ET′，之后调节光电倍增管施加500V负高压，在第二工作电压下下测得的衰减片的透过率T′，由计算可得到的有效伞布透过率的波长范围在310～368nm。同理，在500V下测出ET、ET′，尽量选择高电压下测得的T′，最终测得伞布的透射率波长范围在357～398nm。本技术的保护内容不局限于以上实施例。在不背离技术构思的精神和范围下，本领域技术人员能够想到的变化和优点都被包括在本技术中，并且以所附的权利要求书为保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外低透过率测量用衰减片，其特征在于，其具有玻璃基片(4)、以及依次沉积在所述玻璃基片(4)表面的第一薄膜层(1)、第二薄膜层(2)和第三薄膜层(3)，所述第一薄膜层(1)为含有掺杂3％Ga的ZnO的GZO层，所述第二薄膜层(2)为Ag层，所述第三薄膜层(3)为GZO层。

【技术特征摘要】
1.一种紫外低透过率测量用衰减片，其特征在于，其具有玻璃基片(4)、以及依次沉积在所述玻璃基片(4)表面的第一薄膜层(1)、第二薄膜层(2)和第三薄膜层(3)，所述第一薄膜层(1)为含有掺杂3％Ga的ZnO的GZO层，所述第二薄膜层(2)为Ag层，所述第三薄膜层(3)为GZO层。2.如权利要求1所述的紫外低透过率测量用衰减片，其特征在于，所述第一薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡啸，孙圣，陈晓红，赵振杰，王春梅，沈国土，
申请(专利权)人：华东师范大学，
类型：新型
国别省市：上海;31