The invention relates to a polishing agent and a preparation method thereof, belonging to the field of metal surface processing. The polishing agent for polishing agent, which includes chemical polishing and mechanical polishing, mechanical polishing of the functional components of SiC particles, AlN particles, diamond particles, and the average particle of the SiC particles, AlN particles, diamond particle size of 0.1 to 10 microns, and the ball is greater than 0.90. The above components have the characteristics of high strength, and the polishing particles are required to have a high degree of sphericity, which greatly reduces the damage of the surface. On the other hand, the chemical polishing component can further eliminate the damage caused by machining. The polishing agent provided by the invention can be used for polishing the surface of the stainless steel, and the polishing efficiency can be improved by more than 30%, and a smooth surface with a surface roughness of less than 0.045Ra can be obtained.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种抛光剂及其制备方法,属于金属表面加工领域。
技术介绍
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用以消除光泽(消光)。通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用金属圆板夹紧,其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。机械抛光。机械抛光是依靠非常细小的抛光粉的磨削、滚压作用,除去试样磨面上的极薄一层金属。化学抛光和机械抛光各有利弊,如化学抛光较适用于复杂表面的抛光,但是对金属表面具有一定的腐蚀作用;而机械抛光更适用于大而平的表面,但是机械抛光会带来一定程度的亚表面损伤。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种抛光剂,以解决上述问题。一种抛光剂,所述抛光剂按质量百分比,由10~25%固相组分与75%~90%液相组分组成,其中,所述固相组分按重量份,由下述组分组成:SiC颗粒10~30AlN颗粒20~55金刚石颗粒30~60所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径0.1~10微米,且圆球度大于0.90;所述液相组分按组分浓度,由下述组分组成:本专利技术所述抛光剂优选所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径2~5微米,且圆球度为0.90~0.95。本专利技术所述抛光剂优选所述 ...
【技术保护点】
一种抛光剂,其特征在于:所述抛光剂按质量百分比,由10~25%固相组分与75%~90%液相组分组成,其中,所述固相组分按重量份,由下述组分组成:SiC颗粒 10~30AlN颗粒 20~55金刚石颗粒 30~60所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径0.1~10微米,且圆球度大于0.90;所述液相组分按组分浓度,由下述组分组成:
【技术特征摘要】
1.一种抛光剂,其特征在于:所述抛光剂按质量百分比,由10~25%固相组分与75%~90%液相组分组成,其中,所述固相组分按重量份,由下述组分组成:SiC颗粒10~30AlN颗粒20~55金刚石颗粒30~60所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径0.1~10微米,且圆球度大于0.90;所述液相组分按组分浓度,由下述组分组成:2.根据权利要求1所述的抛光剂,其特征在于:所述SiC颗粒、AlN颗粒、金刚石颗粒的平均粒径2~5微米...
【专利技术属性】
技术研发人员:田绍洁,
申请(专利权)人:大连圣洁热处理科技发展有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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