基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术的基板处理装置具有：刻度部件，其具有刻设为环状的刻度部；处理机构，其在进入区域与脱离区域之间的圆周方向的特定位置上，在片状基板上形成图案；第1图案检测装置，其在第1检测区域内，检测沿长度方向离散或连续地形成在片状基板上的特定图案；第1读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第1检测区域相同的方位上，并读取刻度部；第2图案检测装置，其在第2检测区域内，检测片状基板的特定图案；和第2读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第2检测区域相同的方位上，并读取刻度部。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术申请是，国际申请日为2013年03月08日、国际申请号为PCT/JP2013/056443、进入中国国家阶段的国家申请号为201380015932.7、专利技术名称为“基板处理装置、处理装置以及元件制造方法”的专利技术申请的分案申请。
本专利技术涉及基板处理装置、处理装置以及元件制造方法。另外，本专利技术涉及对位于圆筒部件的曲面上的被处理物体实施处理的处理装置以及元件制造方法。本申请基于2012年3月26日提出申请的日本特愿2012－069092号及2012年11月21日提出申请的日本特愿2012－255693号主张优先权，并在此援用其内容。
技术介绍
在光刻工序所使用的曝光装置中，已知下述专利文献所公开的那样的、使用圆筒状或者圆柱状的光罩对基板进行曝光的曝光装置(例如，参照专利文献1、专利文献2、专利文献3)。另外，还已知如下液晶显示元件制造用的曝光装置：与卷绕于能够旋转的输送辊上的具有挠性的被曝光体(膜带(filmtape)状)接近地，配置在内部配置有光源的圆筒状的光罩，使光罩和输送辊旋转，对被曝光体连续地曝光(例如，参照专利文献4)。不仅在使用板状的光罩的情况下，即使在使用圆筒状或者圆柱状的光罩对基板进行曝光的情况下，为了按照光罩的图案的像而良好地对基板进行曝光，也需要精确地获取光罩的图案的位置信息。因此，需要研究出能够精确地获取圆筒状或者圆柱状的光罩的位置信息、且能够精确地调整该光罩与基板的位置关系的技术。在专利文献3以及专利文献5中公开了如下结构：在圆筒状的光罩中的图案形成面的规定区域中，对图案以规定的位置关系形成位置信息获取用的标记(刻度、格子等)，利用编码器系统检测标记，由此获取图案形成面的周向中的图案的位置信息。在先技术文献专利文献专利文献1：日本特开平7－153672号专利文献2：日本特开平8－213305号专利文献3：国际公开公报WO2008/029917号专利文献4：日本实开昭60－019037号专利文献5：日本特开2008－76650号
技术实现思路
但是，在上述那样的现有技术中，存在以下这样的问题。通常，在测量旋转体(圆筒光罩等)的旋转方向的位置的编码器系统中，与和旋转体的旋转轴同轴地安装的刻度圆盘的刻度线(格子)相对地配置有光学读取头。在刻度板的刻度线和读取头沿无测量灵敏度(检测灵敏度)的方向、例如沿使刻度板和读取头之间的间隔变动的方向相对位移的情况下，虽然圆筒光罩和基板发生相对的位置偏移，但在编码器系统中也无法测量出。因此，可能在所曝光的图案中产生误差。这样的问题并不限于图案曝光时的问题，在对准时的标记测量等中也同样地会产生，另外，在具有旋转测量用的编码器系统且需要精密搬送基板的全部处理装置或检查装置中均有可能产生该问题。本专利技术的形态的目的在于，提供一种基板处理装置，通过高精度地测量光罩或基板的位置，而能够对基板实施高精细的处理(也包括检查等)。另外，在上述的专利文献3中，被转印有圆筒状的旋转光罩的图案的基板是半导体晶片那样的高刚性的基板，该基板被平坦地保持于可动平台上，沿与基板的表面平行的方向移动。另外，在将光罩图案连续地重复转印至具有挠性的长条的基板上的情况下，如专利文献4那样在将作为被处理物体的基板局部地卷绕于能够旋转的输送辊、即圆筒部件的外周面上且基板的表面仿照圆筒部件的曲面而被稳定保持的状态下，进行曝光，由此能提高量产性。如上所述，在对沿旋转的圆筒部件(基板的输送辊)的外周面被支承的具有挠性的被处理物体实施处理的处理装置中，要求通过抑制运算负荷并精密地掌握圆筒部件的位置(外周面的周向位置、旋转轴方向的位置等)而进行处理，来使处理的精度、例如图案的转印位置精度、重合精度等提高。本专利技术的其他形态的目的在于，提供一种处理装置以及元件制造方法，能够抑制运算负荷并且高精度地掌握圆筒部件的位置，而对位于圆筒部件的曲面上的被处理物体实施处理。根据本专利技术的第1方案，提供一种基板处理装置，其具有：旋转圆筒部件，具有距规定的中心线以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，使长条的基板的一部分卷绕于支承面且使其绕中心线旋转，由此，沿基板的长度方向传送基板；处理机构，在卷绕于旋转圆筒部件的支承面的基板的一部分中的、与支承面的周向相关的特定位置上，对基板实施规定的处理；刻度部件，具有刻度部，该刻度部与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并且被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构，与刻度部相对，并且，从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。根据本专利技术的第2方案，提供一种基板处理装置，其具有：光罩保持部件，沿着距规定的中心线为固定半径的圆筒面保持光罩图案，且能够绕中心线旋转；照明系统，在光罩保持部件的与圆筒面的周向相关的特定位置上，对光罩图案的一部分照射曝光用的照明光；曝光机构，具有支承感应性的基板的基板支承部件，且将由照明光的照射而从光罩图案的一部分产生的光束以规定的曝光形式投射至基板的被曝光面；刻度部件，具有刻度部，该刻度部与光罩保持部件一同绕中心线旋转，并且被刻设为环状，以测量光罩保持部件的支承面的周向位置变化、或者光罩保持部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构，与刻度部相对，并且，从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。根据本专利技术的第3方案，提供一种基板处理装置，其具有：旋转圆筒部件，具有距规定的中心线以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，且能够绕中心线旋转；基板搬送机构，在旋转圆筒部件的支承面中的周向的特定范围内，支承长条且具有挠性的基板，同时沿基板的长度方向搬送基板；图案检测装置，包括检测探针，该检测探针用于检测沿基板的长度方向离散或者连续地形成在基板上的特定图案，图案检测装置以使基于检测探针的检测区域设定在特定范围内的方式，配置在旋转圆筒部件的周围；刻度部件，具有刻度部，该刻度部与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并且被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构，与以环状刻设在刻度部件上的刻度部相对，并且，从中心线观察而配置在与检测区域大致相同方向，且读取刻度部。根据本专利技术的第4方案，提供一种处理装置，其具有：圆筒部件，具有距规定的轴以固定半径弯曲的曲面，且绕所述规定的轴旋转；能够读取的刻度部，沿着所述圆筒部件旋转的周向排列为环状，且与所述圆筒部件一同在所述轴的周围旋转；处理部，从所述轴观察而配置在所述圆筒部件的周围或者内部，且对被处理物体实施处理，该被处理物体位于所述周向中特定位置的所述曲面上；第1读取装置，从所述轴观察而配置在所述刻度部的周围，且配置在以所述轴为中心而使所述特定位置绕所述轴旋转大致90度的位置上，并读取所述刻度部；和第2读取装置，从所述轴观察而配置在所述圆筒部件的周围，且读取所述特定位置的所述刻度部。根据本专利技术的第5方案，提供一种处理装置，其具有：圆筒部件，具有距规定的轴以固定半径弯曲的曲面，且绕所述规定的轴旋转；能够读取的刻度部，沿着所述圆筒部件旋转的周向而排列为环状，且与所述圆筒部件一同在所述轴的周围旋转；处理部，从所述轴观察而配置在所述圆筒部件的周围或者内部，并对被处理物体实施处理，该被处理物体位于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其将具有挠性的长条的片状基板卷绕在能够绕中心轴旋转的旋转筒的圆筒状的外周面的一部分上而沿长度方向搬送，同时在由所述旋转筒支承的所述片状基板上形成图案，所述基板处理装置的特征在于，具有：刻度部件，其为了计测所述旋转筒的外周面的圆周方向上的位置变化而与所述旋转筒一同绕所述中心线旋转，并且具有刻设为环状的刻度部；处理机构，其在所述片状基板开始与所述旋转筒的外周面接触的进入区域与从所述外周面离开的脱离区域之间的圆周方向的特定位置上，在所述片状基板上形成图案；第1图案检测装置，其在沿着所述外周面的设定于所述进入区域与所述特定位置之间的第1检测区域内，检测沿所述长度方向离散或连续地形成在所述片状基板上的特定图案；第1读取机构，其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第1检测区域相同的方位，并读取所述刻度部；第2图案检测装置，其在沿着所述外周面的设定于所述特定位置与所述脱离区域之间、或设定于所述第1检测区域与所述特定位置之间的第2检测区域内，检测所述片状基板的所述特定图案；和第2读取机构，其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第2检测区域相同的方位，并读取所述刻度部。...

【技术特征摘要】
2012.03.26 JP 2012-069092;2012.11.21 JP 2012-255691.一种基板处理装置，其将具有挠性的长条的片状基板卷绕在能够绕中心轴旋转的旋转筒的圆筒状的外周面的一部分上而沿长度方向搬送，同时在由所述旋转筒支承的所述片状基板上形成图案，所述基板处理装置的特征在于，具有：刻度部件，其为了计测所述旋转筒的外周面的圆周方向上的位置变化而与所述旋转筒一同绕所述中心线旋转，并且具有刻设为环状的刻度部；处理机构，其在所述片状基板开始与所述旋转筒的外周面接触的进入区域与从所述外周面离开的脱离区域之间的圆周方向的特定位置上，在所述片状基板上形成图案；第1图案检测装置，其在沿着所述外周面的设定于所述进入区域与所述特定位置之间的第1检测区域内，检测沿所述长度方向离散或连续地形成在所述片状基板上的特定图案；第1读取机构，其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第1检测区域相同的方位，并读取所述刻度部；第2图案检测装置，其在沿着所述外周面的设定于所述特定位置与所述脱离区域之间、或设定于所述第1检测区域与所述特定位置之间的第2检测区域内，检测所述片状基板的所述特定图案；和第2读取机构，其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第2检测区域相同的方位，并读取所述刻度部。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，当由所述第2图案检测装置检测到所述第1图案检测装置所检测到的所述特定图案时，将由所述第1读取机构计测的位置与由所述第2读取机构计测的位置之间的差值，和对应于所述1检测区域与所述第2检测区域之间的圆周方向上的张开角的值进行比较，且在产生误差时，认为所述片状基板在所述旋转筒上发生了滑动或伸缩。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，通过所述处理机构在所述片状基板上形成图案的所述特定位置包括分别沿所述旋转筒的外周面的圆周方向、以及所述旋转筒的所述中心轴的方向以规定间隔错开的第1特定位置和第2特定位置，所述处理机构具有在所述第1特定位置将图案形成在所述片状基板上的第1处理部、和在所述第2特定位置将图案形成在所述片状基板上的第2处理部。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理机构是将与所述图案对应的曝光用的光分别在所述第1特定位置和所述第2特定位置向所述片状基板投射的曝光机构。5.根据权利要求3或4所述的基板处理装置，其特征在于，还具有：第3读取机构，其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第1特定位置相同的方位，并读取所述刻度部；和第4读取机构，其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第2特定位置相同的方位，并读取所述刻度部。6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述曝光机构具有：驱动部，其使圆筒光罩与所述旋转筒的旋转同步地旋转，该圆筒光罩具有与应形成在所述片状基板上的所述图案对应的圆筒面状的光罩图案；第1投影系统，其将所述光罩图案的第1区域在所述第1特定位置向所述片状基板投影；和第2投影系统，其将所述光罩图案的第2区域在所述第2特定位置向所述片状基板投影。7.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述曝光机构具有：第1扫描单元，其在所述第1特定位置，沿着在与所述旋转筒的所述中心轴平行的方向上延伸的扫描线对聚光进行扫描，同时基于与应形成在所述片状基板上的第1图案区域内的所述图案对应的图案数据，来调制所述聚光；和第2扫描单元，其在所述第2特定位置，沿着在与所述旋转筒的所述中心轴平行的方向上延伸的扫描线对聚光进行扫描，同时基于与应形成在所述片状基板上的第2图案区域内的所述图案对应的图案数据，来调制所述聚...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，木内彻，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP