一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法技术

本申请提出了一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法，它涉及一种低温多晶硅面板制造工艺中信号线的制备方法，具体涉及一种改善信号线锯齿状缺陷的方法。本发明专利技术的目的是要解决现有技术制备的信号线存在锯齿状缺陷的问题。一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法，在高温退火及曝光后先利用BCl3对信号线芯材进行预处理，然后再进行蚀刻。本发明专利技术优点：在主蚀刻步骤前加入BCl3预处理，有效消除了锯齿状缺陷，同时提高了信号线的线宽均一性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种低温多晶硅面板制造工艺中信号线(dataline)的制备方法，具体涉及一种改善信号线(dataline)锯齿状缺陷的方法。
技术介绍
dataline(信号线)在现有低温多晶硅面板制造业，dataline常使用Ti/AL/Ti作为导电材料，部分工厂采用的工艺流程是dataline在金属膜沉积后加一道退火，之后再进行曝光和蚀刻，采用这种工艺流程主要优势在于金属膜沉积后直接退火可以释放金属膜沉积过程中所产生过大的内应力，同时提高dataline的导电性；但同时会对后续制程产生一些不良影响，如蚀刻后dataline的线宽均一性不保证，同时还存在锯齿状缺陷。
技术实现思路
针对上述现有技术中的问题，本申请提出了一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法。一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法，信号线芯材在金属膜沉积后进行高温退火，高温退火后依次进行曝光和蚀刻，本专利技术在干法刻蚀前先利用BCl3对信号线芯材进行预处理，祛除由退火时在Ti/Al/Ti表面产生的氧化层，然后再进行蚀刻，去除剩余的芯材。所述的利用BCl3对信号线芯材进行预处理是按以下步骤完成的：本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法，信号线芯材在金属膜沉积后进行高温退火，高温退火后依次进行曝光和蚀刻，其特征在于，在高温退火及曝光后先利用BCl3对信号线芯材进行预处理，然后再进行蚀刻。

【技术特征摘要】
1.一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法，信号线芯材在金属膜沉积后进行高温退火，高温退火后依次进行曝光和蚀刻，其特征在于，在高温退火及曝光后先利用BCl3对信号线芯材进行预处理，然后再进行蚀刻。2.根据权利要求1所述的一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法，其特征在于，所述的利用BCl3对信号线芯材进行预处理是按以下步骤完成的：将BCl3作为制程气体，在BCl3气氛下对高温退火及曝光后信号线进行处理，祛除退火过程中产生的氧化层。3.根据权利要求2所述的一种信号线在制备过程中高温退火及曝光后的预处理方法，其特征在于，所述的利用BCl3对信号线芯材进行预处理是按以下步骤完成的：将BCl3作为制程气体，在BCl3气体流量为20sccm～40sccm的BCl3...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟华，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42