一种用于烧制陶瓷的气窑制造技术

本实用新型专利技术公开一种用于烧制陶瓷的气窑，包括具有空腔的窑体，沿水平方向设置在窑体的空腔内的支架，设置在窑体侧壁的内表面上的炉蓖，炉蓖与支架、窑体底部的内表面之间形成燃烧室；氧气仓和燃气仓，至少两个喷嘴，一个用于喷燃气的第一喷嘴，另一个用于喷氧气的第二喷嘴，量喷嘴分别将燃气和氧气喷至燃烧室内；以及控制器。此气窑的氧气仓和第二喷嘴将外界的氧气输送至燃烧室内，增加燃烧室内氧气的含量，使得第一喷嘴喷出的燃气能够在燃烧室内充分地燃烧，提高燃气的燃烧效率，从而提高燃气提供的热量，加快陶瓷的烧制效率；同时，采用控制器来控制燃气和氧气的输送量，以形成最佳的燃气与氧气的配比，不会造成任一气体的过多。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及陶瓷制备
,具体涉及一种用于烧制陶瓷的气窑。
技术介绍
在陶瓷制备过程中经常需要使用气窑对上釉后的陶瓷进行烧制处理，在高温下形成陶瓷制品。现有技术中的气窑结构主要包括炉体外壳，设置在外壳内的高温耐火层内衬，设置在外壳内壁上的炉蓖，在炉蓖顶部上设置支架，支架上开设筛孔，炉蓖与支架、外壳底部的内表面三者之间围成燃烧室，燃烧室侧壁上设置喷煤嘴，喷煤嘴穿设在炉体侧壁上，用于将外界的煤气通入燃烧室内，以及在外壳的顶部上开设出气口。上述的气窑在对陶瓷进行烧制时，首先将待烧制的陶瓷放置在支架上，外界的燃气经喷嘴进入燃烧室进行燃烧，燃烧产生的热量经筛孔与待烧制的陶瓷接触，对陶瓷进行高温烧，随着外界燃气不断地在燃烧室内燃烧，燃气形成的热量就能够对上釉后的陶瓷进行烧制，之后气体经出气口排出。但是，上述的气窑在对上釉后的陶瓷制品烧制时，燃气经喷嘴进入燃烧室内，由于燃烧室内的氧气含量有限，燃气能够充分燃烧的量相对很少，要使得窑体内达到陶瓷烧制的高温环境需要通入足够多的燃气，不可避免地燃烧不充分的气体直接排向大气，会对外界环境造成一定的污染，同时，需要的燃气量多，能耗高，陶瓷烧制的成本也相对高。
技术实现思路
因此，本技术所要解决的技术问题在于克服现有技术气窑中燃气的燃烧效率低的缺陷，从而提供一种能够提高燃气燃烧效率的气窑。为此，本技术提供的一种用于烧制陶瓷的气窑，包括窑体，沿竖直方向设置，具有空腔，顶部具有出气口，以及进料口；支架，沿水平方向设置在所述窑体的空腔内，具有供气体穿过的若干个通孔；炉蓖，设置在所述窑体侧壁的内表面上，顶部抵靠在所述支架的底部上，底部抵靠在所述窑体的底部内表面上；与所述支架、窑体底部的内表面三者之间围成燃烧室；燃气仓，用于储放燃气；氧气仓，用于储放氧气；喷嘴，至少两个，其中，一个用于喷燃气的第一喷嘴，穿设在所述窑体的侧壁上，一端通过第一管路连接于所述燃气仓，伸入所述燃烧室内；另一个用于喷氧气的第二喷嘴，穿设在所述窑体的侧壁上，一端通过第二管路连接于所述氧气仓，另一端伸入所述燃烧室内；以及控制器，用于控制第一管路内燃气的输送量，和/或第二管路内氧气的输送量。上述的用于烧制陶瓷的气窑，所述第一喷嘴与第二喷嘴设置在窑体侧壁的同一竖直面上，且两个喷嘴的出口相对设置。上述的用于烧制陶瓷的气窑，所述第一喷嘴与所述第二喷嘴分别设置在所述窑体侧壁的两个竖直面上，且两个喷嘴的出口相对设置。上述的用于烧制陶瓷的气窑，所述第一喷嘴出口的直径大于第二喷嘴出口的直径。上述的用于烧制陶瓷的气窑，所述进料口开设在窑体的侧壁或顶部上；还包括盖体，密封设置在所述进料口上。上述的用于烧制陶瓷的气窑，还包括高温耐火层，所述高温耐火层设置在所述窑体侧壁的内表面上与所述炉蓖之间，且所述支架穿过所述高温耐火层设置在所述窑体的侧壁上。上述的用于烧制陶瓷的气窑，还包括保温层，所述保温层套设在所述窑体的侧壁的外表面上。本技术提供的技术方案，具有如下优点：1.本技术提供的用于烧制陶瓷的气窑，包括窑体，窑体具有空腔，顶部具有出气口，以及进料口；沿水平方向设置在窑体的空腔内的支架，支架具有供气体穿过的若干个通孔；设置在窑体侧壁的内表面上的炉蓖，炉蓖顶部抵靠在支架的底部上，底部抵靠在窑体的底部内表面上；与所述支架、窑体底部的内表面三者之间围成燃烧室；用于储放燃气的燃气仓,用于储放氧气的氧气仓，至少两个喷嘴，一个用于喷燃气的第一喷嘴，穿设在所述窑体的侧壁上，一端通过第一管路连接于所述燃气仓，伸入所述燃烧室内；另一个用于喷氧气的第二喷嘴，穿设在所述窑体的侧壁上，一端通过第二管路连接于氧气仓，另一端伸入燃烧室内；以及用于控制第一管路内燃气的输送量，和/第二管路内氧气的输送量。上述的用于烧制陶瓷的气窑，通过设置氧气仓和第二喷嘴将外界的氧气输送至燃烧室内，增加燃烧室内氧气的含量，使得第一喷嘴喷出的燃气能够在燃烧室内充分地燃烧，提高燃气的燃烧效率，从而提高燃气提供的热量，加快陶瓷的烧制效率；同时，采用控制器来控制第一管路内燃气和第二管路内氧气的输送量，以形成最佳的燃气与氧气的配比，不会造成任一气体的过多，在燃气充分燃烧的前提下，使用的氧气量最少。2.本技术提供的用于烧制陶瓷的气窑，进一步地第一喷嘴与第二喷嘴设置在窑体侧壁的同一竖直面上，且两个喷嘴的出口相对设置，使得第一喷嘴喷出的燃气立马与第二喷嘴喷出的氧气接触，在燃烧室内燃烧，加快燃气的燃烧速度，提高窑体内升到所需高温的速度，进而提高窑体内陶瓷被烧制的效率。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为实施例1中提供的用于烧制陶瓷的气窑的一种实施方式的结构示意图；图中附图标记说明：1-窑体；11-出气口；2-支架；3-炉蓖；4-燃气仓；5-第一喷嘴；6-燃烧室；7-氧气仓；8-第二喷嘴；9-高温耐火层。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，下面所描述的本技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。实施例1如图1所示，本实施例提供一种用于烧制陶瓷的气窑，包括窑体1，沿竖直方向设置，具有空腔，顶部具有出气口11，以及进料口；支架2，沿水平方向设置在窑体1的空腔内，具有供气体穿过的若干个通孔；炉蓖3，设置在窑体1侧壁的内表面上，顶部抵靠在支架2的底部上，底部抵靠在窑体1的底部内表面上；与支架2、窑体1底部的内表面三者之间围成燃烧室6；燃气仓4，用于储放燃气；氧气仓7，用于储放氧气；喷嘴，至少两个，其中，一个用于喷燃气的第一喷嘴5，穿设在窑体1的侧壁上，一端通过第一管路连接于燃气仓4，伸入燃烧室6内；另一个用于喷氧气的第二喷嘴8，穿设在窑体1的侧壁上，一端通过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于烧制陶瓷的气窑，其特征在于：包括窑体(1)，沿竖直方向设置，具有空腔，顶部具有出气口(11)，以及进料口；支架(2)，沿水平方向设置在所述窑体(1)的空腔内，具有供气体穿过的若干个通孔；炉蓖(3)，设置在所述窑体(1)侧壁的内表面上，顶部抵靠在所述支架(2)的底部上，底部抵靠在所述窑体(1)的底部内表面上；与所述支架(2)、窑体(1)底部的内表面三者之间围成燃烧室(6)；燃气仓(4)，用于储放燃气；氧气仓(7)，用于储放氧气；喷嘴，至少两个，其中，一个用于喷燃气的第一喷嘴(5)，穿设在所述窑体(1)的侧壁上，一端通过第一管路连接于所述燃气仓(4)，伸入所述燃烧室(6)内；另一个用于喷氧气的第二喷嘴(8)，穿设在所述窑体(1)的侧壁上，一端通过第二管路连接于所述氧气仓(7)，另一端伸入所述燃烧室(6)内；以及控制器，用于控制第一管路内燃气的输送量，和/或第二管路内氧气的输送量。

【技术特征摘要】
1.一种用于烧制陶瓷的气窑，其特征在于：包括
窑体(1)，沿竖直方向设置，具有空腔，顶部具有出气口(11)，以及
进料口；
支架(2)，沿水平方向设置在所述窑体(1)的空腔内，具有供气体穿
过的若干个通孔；
炉蓖(3)，设置在所述窑体(1)侧壁的内表面上，顶部抵靠在所述支
架(2)的底部上，底部抵靠在所述窑体(1)的底部内表面上；与所述支
架(2)、窑体(1)底部的内表面三者之间围成燃烧室(6)；
燃气仓(4)，用于储放燃气；
氧气仓(7)，用于储放氧气；
喷嘴，至少两个，其中，一个用于喷燃气的第一喷嘴(5)，穿设在所
述窑体(1)的侧壁上，一端通过第一管路连接于所述燃气仓(4)，伸入所
述燃烧室(6)内；另一个用于喷氧气的第二喷嘴(8)，穿设在所述窑体(1)
的侧壁上，一端通过第二管路连接于所述氧气仓(7)，另一端伸入所述燃
烧室(6)内；以及
控制器，用于控制第一管路内燃气的输送量，和/或第二管路内氧气的
输送量。
2.根据权利要求1所述的用于烧制陶瓷的气窑，其特征在于：所述第一

【专利技术属性】
技术研发人员：李小安，陈贮春，潘发旺，陈春梅，
申请(专利权)人：江西省环球陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36