加热机台制造技术

一种用于加热基板的加热机台，基板包含操作区与环绕操作区的非操作区。加热机台包含壳体、加热板以及加压机构。壳体具有容置腔以容置基板，其中壳体包含上盖。加热板安装于容置腔，用以承载并加热基板。加压机构固定于上盖上，用以在加热基板时施加压力于基板的非操作区的至少相对两侧。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种制备显示装置的治具，特别是有关于一种加热机台。
技术介绍
在显示器的基板制作过程中，往往需要涂布或者贴附多种层体/膜于基板表面，并经由加热烘烤等方式而使这些层体定型。举例而言，在光刻微影工艺中，可以在基板表面涂布光阻液体，并烘烤而形成光刻胶层，以进行后续的光刻微影工艺。然而，在加热烘烤基板的过程中，容易因为基板的材料、基板上的层体图案的布设、基板内离子的分布、基板的相对表面温度差异等其它原因，导致基板受热翘曲。此基板暂时性翘曲容易使得基板上待烘烤定型的液体受热不均，而有部份区域没有完全定型而附着力欠佳，造成容易剥离或无法作用。
技术实现思路
根据本专利技术的一态样提供一种用于加热基板的加热机台，基板包含操作区与环绕操作区的非操作区。加热机台包含壳体、加热板以及加压机构。壳体具有容置腔以容置基板，其中壳体包含上盖。加热板安装于容置腔，用以承载并加热基板。加压机构固定于上盖上，用以在加热基板时施加压力于基板的非操作区的至少相对两侧。于本专利技术的一或多个实施方式中，加压机构包含至少一对升降装置以及多个接触头。升降装置设置于上盖，每一升降装置包含推杆。接触头分别设置于推杆的一端，用以接触基板。于本专利技术的一或多个实施方式中，接触头的直径实质上为1毫米。于本专利技术的一或多个实施方式中，接触头的材料为聚醚醚酮(polyetheretherketone；PEEK)。于本专利技术的一或多个实施方式中，上盖包含多个上盖孔洞，推杆经由通过上盖孔洞而使接触头接触于基板。于本专利技术的一或多个实施方式中，至少一对升降装置的数量为二对，且该二对升降装置对称地设置。于本专利技术的一或多个实施方式中，加热机台更包含固定板以及多个支撑销。固定板水平安装于壳体内且设置于加热板的下方。支撑销固定于固定板上，其中加热板包含多个加热板通孔，支撑销分别穿过加热板通孔，用以沿垂直于加热板的方向移动基板。于本专利技术的一或多个实施方式中，加压机构包含多个接触头，用以接触基板，每一支撑销的顶面积小于每一接触头的顶面积。于本专利技术的一或多个实施方式中，加热机台更包含移动机构，移动机构连接至加压机构，用以调整加压机构的位置。于本专利技术的一或多个实施方式中，基板用以作为与显示器的主动元件阵列基板相对的对向基板。于本专利技术的多个实施方式中，设计加热机台包含加压机构，其中加压机构能够在基板受热时提供压力，以抵制基板的暂时性翘曲，进而确保基板受热均匀与层体定型。附图说明图1A为根据本专利技术的一实施方式的加热机台于一操作阶段的立体示意图。图1B为图1A的加热机台于另一操作阶段的立体示意图。图2为图1A的基板的立体示意图。图3A与图3B为根据本专利技术的一实施方式的加热机台与基板的侧视图。图4为根据本专利技术的另一实施方式的加热机台于加压阶段的立体示意图。其中，附图标记：100：加热机台110：壳体112：容置腔114：上盖114a：上盖孔洞120：加热板122：加热板通孔130：加压机构132：升降装置132a：推杆134：接触头140：固定板150：支撑销152：顶端160：感测元件170：计时元件180：移动机构200：基板202：边缘NA：非操作区OA：操作区DA：预定区域DI：方向具体实施方式以下将以图式揭露本专利技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本专利技术。也就是说，在本专利技术部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式为之。图1A为根据本专利技术的一实施方式的加热机台100于一操作阶段的立体示意图。加热机台100用于加热基板200，基板200包含操作区OA与环绕操作区OA的非操作区NA。加热机台100包含壳体110、加热板120以及加压机构130。壳体110具有容置腔112以容置基板200，其中壳体110包含上盖114。加热板120安装于容置腔112，用以承载并加热基板200。加压机构130固定于上盖114上，用以在加热基板200时施加压力于基板200的非操作区NA的至少相对两侧。于本专利技术的一或多个实施方式中，加压机构130包含至少一对升降装置132以及多个接触头134。升降装置132设置于上盖114，升降装置132分别对应于基板200的非操作区NA的两侧设置，以在不碰触到操作区OA的状况下，确保基板200受力均匀。于此，升降装置132的数量为二对，且该二对升降装置132对称地设置。当然，本专利技术不以此为限，亦可以配置多对升降装置132，对应于基板200的非操作区NA设置。于本专利技术的多个实施方式中，每一升降装置132包含推杆132a。接触头134分别设置于推杆132a的一端，用以接触基板200。升降装置132可以是气缸，并通过调整气缸内部气体压力来移动推杆132a。上盖114包含多个上盖孔洞114a，参照图1B，推杆132a经由通过上盖孔洞114a而使接触头134接触于基板200。图2为图1A的基板200的立体示意图。于本专利技术的多个实施方式中，操作区OA位于基板的中央，操作区OA可包含多个预定区域DA，使基板200可以于后续工艺中切割为多个子基板，每一子基板具有一个预定区域DA，而作为显示器的基板使用。于此，预定区域DA指基板200预计作为显示器的基板的区域，其上可布设有电极、油墨、光刻胶或其它元件，预定区域DA可以视实际设计的显示器尺寸而调整大小。于本实施方式中，非操作区NA指基板200由边缘202至操作区OA之间的区域，用以确保操作区OA离基板200的边缘202具有一定的距离，以使操作区OA受热均匀。且非操作区NA还提供加压机构130(参照图1A)一定的加压区域。举例而言，针对长宽为880毫米与680毫米的基板200，非操作区NA可以包含基板200从边缘202往内3至15毫米的区域，例如5毫米、10毫米、15毫米，加压机构130(参照图1A)可以施压于此部份非操作区NA。于部分实施方式中，基板200可以是碱玻璃，例如钠钙玻璃(sodalimeglass)，钠钙玻璃未经退火纯化，相较于经退火纯化后的玻璃，碱玻璃具有与热膨胀系数较大的特性，且碱玻璃可因离子交换强化而具有抗摔的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于加热一基板的加热机台，该基板包含一操作区与环绕该操作区的一非操作区，其中，该加热机台包含：一壳体，具有一容置腔以容置该基板，该壳体包含一上盖；一加热板，安装于该容置腔，用以承载并加热该基板；以及一加压机构，固定于该上盖上，用以在加热该基板时施加压力于该基板的该非操作区的至少相对两侧。

【技术特征摘要】
2015.10.14 TW 1041337271.一种用于加热一基板的加热机台，该基板包含一操作区与环绕该操作
区的一非操作区，其中，该加热机台包含：
一壳体，具有一容置腔以容置该基板，该壳体包含一上盖；
一加热板，安装于该容置腔，用以承载并加热该基板；以及
一加压机构，固定于该上盖上，用以在加热该基板时施加压力于该基板的
该非操作区的至少相对两侧。
2.根据权利要求1所述的加热机台，其特征在于，该加压机构包含：
至少一对升降装置，设置于该上盖，每一该些升降装置包含一推杆；以及
多个接触头，分别设置于该些推杆的一端，用以接触该基板。
3.根据权利要求2所述的加热机台，其特征在于，该多个接触头的直径
为1毫米。
4.根据权利要求2所述的加热机台，其特征在于，该多个接触头的材料
为聚醚醚酮。
5.根据权利要求2所述的加热机台，其特征在于，该上盖包含多个上盖<...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈姵伃，王兴祥，江志滨，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71