【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利说明新的吡咯基三嗪衍生物以及用于获得它们的方法和它们作为抗UV辐射保护剂的用途 专利
本专利技术涉及化妆品、皮肤病学和药物领域。具体而言，本专利技术涉及新的吡咯基三嗪衍生物，由于它们的物理-化学性质，用作抗UV辐射的保护剂，还涉及它们用于制备保护皮肤、嘴唇、指甲和毛发免受UV辐射的化妆用、皮肤用和药用制剂的用途。
技术介绍
阳光，特别是紫外线辐射，可在特定情况下引起对皮肤的有害作用，导致病理表现如灼伤、光照性皮肤病和光老化等。 导致这种病理表现的主要因素是紫外线辐射，它的能量与它的波长成反比。因此，波长越短则辐射越多的能量。紫外线辐射可分为UV-C，UV-B和UV-A，其中UV-C是最有害的，虽然它可被臭氧层吸收。 为了阻碍UV-A和UV-B辐射可能引起的损害，人们的皮肤具有各种天然保护系统，它们吸收或者使辐射偏斜，如黑色素、毛发、皮肤的脂肪层等。 目前使用光滤剂来减少光辐射的作用。这种光滤剂是这样的化合物，即涂抹于皮肤、嘴唇、指甲或毛发上，且可包括在化妆用、皮肤用和药用制剂以及其它化妆用制剂中，来保护免受光辐射，防止对辐射敏感的活性物质或组分...
【技术保护点】
式（Ⅰ）的吡咯基三嗪衍生物： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中 ｎ＝０，１，２，３或４； Ｒ↓［１］代表氢原子；任选被取代的具有１－３个原子的直链或支链烷基；或取代的Ｒ↓［２］’，Ｒ↓［３］’苯基； Ｒ↓［２］，Ｒ↓［２］’，Ｒ↓［３］和Ｒ↓［３］’彼此相同或不同且代表氢原子；任选取代的具有１－３个碳原子的直链或支链烷基；具有１－３个碳原子的烷氧基；芳基；卤素或羟基，条件是当ｎ＝０时，Ｒ↓［２］或Ｒ↓［３］不是丙烯基衍生物；或 Ｒ↓［２］和Ｒ↓［３］是任选取代的、与苯基形成萘环的缩合物； Ｒ↓［４］和Ｒ↓［５］彼此相同或不同且代表氢原子；任选...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：C特鲁利亚斯，C佩莱赫罗，D潘耶拉，J科尔韦拉，J霍伦茨，D巴尼奥，
申请(专利权)人：医姿挺有限公司，
类型：发明
国别省市：ES[西班牙]
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