雪崩光电二极管制造技术

技术编号:14936456 阅读:92 留言:0更新日期:2017-03-31 18:28
一种雪崩光电二极管,包括:P型接触层(11)、光吸收层(12)、组分渐变对称倍增层(13)和N型接触层(14),其中,所述P型接触层(11)与所述光吸收层(12)相连,所述光吸收层(12)与所述组分渐变对称倍增层(13)相连,所述组分渐变对称倍增层(13)与所述N型接触层(14)相连;所述组分渐变对称倍增层(13),用于放大所述电信号,所述组分渐变对称倍增层(13)呈中心对称结构,由多个渐变层组成。该技术方案通过多层渐变层抑制载流子的离化,降低过剩噪声因子的同时,组分渐变对称倍增层(13)的对称结构有效地缓解了大晶格失配体系应力,获得高质量外延薄膜,降低噪声性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请,说明书已公开。
<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/59/201380077525.html" title="雪崩光电二极管原文来自X技术">雪崩光电二极管</a>

【技术保护点】
PCT国内申请,权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请,...

【专利技术属性】
技术研发人员:潘旭
申请(专利权)人:华为技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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