保护盖板制造技术

技术编号:14884628 阅读:125 留言:0更新日期:2017-03-25 01:00
本发明专利技术是公开一种保护盖板,是包括一基材以及一涂布层。该基材之厚度范围是为60至120微米,该基材之平面相差值范围是为6000至12000。该涂布层是涂布于该基材之上。其中该保护盖板具有一第一方向以及一第二方向,该第一方向是为该保护盖板之机械方向,该第二方向是垂直于该第一方向,该第一方向之拉伸应力范围是为50至130兆帕斯卡,该第二方向之拉伸应力范围是为140至300兆帕斯卡,藉由该基材的平面相差值范围是为6000至12000,使一入射光之穿透光平均分布到该保护盖板之可视区,降低反射光之相位差,以改善彩虹纹以及提升在一偏光镜下的可视性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是为一种保护盖板,特别是一种藉由该基材的平面相差值范围是为6000至12000,使穿透光平均分布到可视区,以改善彩虹纹以及提升偏光镜下的可视性之保护盖板。
技术介绍
目前触控面板保护盖板大多使用强化玻璃,但无挠折特性,无法应用在可挠折产品上,因此寻求取代玻璃盖板之替代材,同时具可挠,光学,物理硬度等特性。中国台湾专利第I457635号,是揭露一种均匀平面相差的延迟膜,是以等规指数(isotacticindex)在85%以上的单聚丙烯树脂所制造,具有非常小的零波长色散性,并具有于特定部位的平面相差(Re)值与平均值相差±5nm范围内的均匀性。又,以这种具有零波长色散性的延迟膜与具有负波长色散性的其他延迟膜层叠而制造出具有正波长色散性的叠层光学膜。然而,上述专利之穿透光并未平均分布到可视区,而未解决光学上彩虹纹效果以及偏光镜下的可视性之问题。请参考图1所示,由于涂布层和基材之折射率不匹配,使得入射光之产生具有相位差之反射光1以及反射光2,具有相位差之反射光1以及反射光2被使用者目测观察时,即产生彩虹纹。因此,如何设计出不但可取代玻璃之塑胶保护盖板,且兼具可挠特性以及表面硬度,更能够解决塑胶材质容易造成彩虹纹以及提升偏光镜下的可视性效果,即成为相关设备厂商以及研发人员所共同期待的目标。
技术实现思路
本专利技术人有鉴于习知技术之触控面板保护盖板大多使用强化玻璃,但无挠折特性,无法应用在可挠折产品上之缺失,乃积极着手进行开发,以期可以改进上述既有之缺点,经过不断地试验及努力,终于开发出本专利技术。本专利技术之目的,是提供一种具有挠折特性,且可以改善彩虹纹以及提升偏光镜下的可视性之保护盖板。为了达成上述之目的,本专利技术之保护盖板,是包括一基材以及一涂布层。该基材之厚度范围是为60至120微米,该基材之平面相差值范围是为6000至12000。该涂布层是涂布于该基材之上。其中该保护盖板具有一第一方向以及一第二方向,该第一方向是为该保护盖板之机械方向,该第二方向是垂直于该第一方向,该第一方向之拉伸应力范围是为50至130兆帕斯卡,该第二方向之拉伸应力范围是为140至300兆帕斯卡。藉由该基材的平面相差值范围是为6000至12000,使一入射光之穿透光平均分布到该保护盖板之可视区,降低反射光之相位差,以改善彩虹纹以及提升在一偏光镜下的可视性。附图说明图1是先前技术之保护盖板产生彩虹纹之示意图;图2是本专利技术之在第二方向拉伸应力之结构示意图;图3是本专利技术之挠折直径与硬度之关是示意图;图4是本专利技术之光线透过率与波长之关是示意图;以及图5是本专利技术之应力与应变之关是示意图。附图标号说明:(1)保护盖板(10)基材(11)涂布层(2)触控装置(20)挠折线MD第一方向TD第二方向Ф挠折直径本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。具体实施方式为使熟悉该项技艺人士了解本专利技术之目的,兹配合图式将本专利技术之较佳实施例详细说明如下。请参考图2所示,本专利技术之保护盖板(1),是包括一基材(10)以及一涂布层(11)。本专利技术之保护盖板(1)是应用于一触控装置(2),该触控装置(2)中央是包括一挠折线(20)。该基材(10)之厚度范围是为60至120微米,该基材(10)之平面相差值范围是为6000至12000。该涂布层(11)是涂布于该基材(10)之上。其中该保护盖板(1)具有一第一方向(MD)以及一第二方向(TD),MD是为机械方向(MachineDirection)的缩写,TD是为垂直于机械方向(TransverseDirection)的缩写,因此该第一方向(MD)是为该保护盖板(1)之机械方向,该第二方向(TD)是垂直于该第一方向(MD),该第一方向(MD)之拉伸应力范围是为50至130兆帕斯卡,该第二方向(TD)之拉伸应力范围是为140至300兆帕斯卡,以改善彩虹纹以及提升偏光镜下的可视性。其中该基材(10)之平面相差值Re=(nx-ny)×D,在此,nx是表示薄膜平面的最大折射率之地上轴X轴方向折射率,ny是与该地上轴垂直方向Y轴的折射率,D是薄膜厚度。因此,调整材料X轴与Y轴拉伸比例,改变X轴与Y轴的折射率,藉此方法将两轴的折射率差值变大,可使平面相差值Re提高。在本专利技术之一较佳实施例中,该第一方向(MD)之拉伸应力是为120兆帕斯卡。在本专利技术之一较佳实施例中,该第二方向(TD)之拉伸应力是为300兆帕斯卡。在本专利技术之一较佳实施例中,该基材(10)之材料是为聚酰亚胺(Polyimide,PI)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PolyethyleneTerephthalate,PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(PolyethyleneNaphthalate,PEN)其中之一。在本专利技术之一较佳实施例中,该第一方向(MD)以及该第二方向(TD)是互相垂直。请参考图2、图3以及图4所示,在相同的该基材(10)上,该涂布层(11)硬度越高,挠折能力越小。在本专利技术之一较佳实施例中(图2),该保护盖板(1)之挠折直径(Ф)是为10毫米,该涂布层(11)硬度是为3H(日规JIS-5600,750公克),因此可兼顾挠折特性与表面硬度,进一步来说,该涂布层(11)硬度是通过JIS测试铅笔3H硬度之测试,该测试铅笔3H的荷重砝玛是为750公克。在本专利技术之一较佳实施例中,该基材(10)之厚度是为80微米,且平面相差值是大于或等于8000,使穿透光平均分布到可视区(图3),以解决光学上彩虹纹效果以及提升偏光镜下的可视性。请参考图2、图5所示,在该涂布层(11)之硬度是为日规(JIS-5600,750g)3H,以及该保护盖板(1)之挠折直径是为10毫米的情况下,同时对该第一方向(MD)以及该第二方向(TD)进行挠折测试,该第二方向(TD)可承受五万次以上之拉应力变化且该涂布层(11)无异变,该第一方向(MD)仅能承受不到五千次之拉应力变化,该涂布层(11)即发生裂痕。因此本专利技术之保护盖板(1)是应用于一触控装置(2)时,该第二方向(TD)需相同于该触控装置(2)之挠折方向,以避免该涂布层(11)产生裂痕。本专利技术不但藉由该保护盖板(1)之挠折直径(Ф)为10毫米,该涂布层(11)硬度为3H(日规JIS-5600,750g),以兼顾挠折特性与表面硬度,此外,穿过双折射体的光线会因波长间的穿透率不一之故、产生穿透光的偏差,Re越大,波峰与波谷越密集,不同波长下穿透率鉴别越小,进而使彩虹纹状况淡化,藉由该基材的平面相差值范围是为6000至12000,使一入射光之穿透光平均分布到该保护盖板之可视区,降低反射光之相位差,以改善彩虹纹以及提升在一偏光镜下的可视性。再者,其结构型态并非所属
中之人士所能轻易思及而达成者,实具有新颖性以及进步性无疑。透过上述之详细说明,即可充分显示本专利技术之目的及功效上均具有实施之进步性,极具产业之利用性价值,且为目前市面上前所未见之新专利技术,完全符合专利技术专利要件,爰依法提出申请。唯以上所述着仅为本专利技术之较佳实施例而已,当不能用以限定本专利技术所实施之范围。即凡依本专利技术专利范围所作之均等变化与修饰,皆应属于本专利技术专利涵盖之范围内,谨请贵审查委员明鉴,并祈惠准,是所至祷。本文档来自技高网
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保护盖板

【技术保护点】
一种保护盖板,其特征在于,是应用于一触控装置,该触控装置中央是包括一挠折线,该保护盖板是包括:一基材,厚度范围是为60至120微米,平面相差值范围是为6000至12000;以及一涂布层,是涂布于该基材之上;其中该保护盖板具有一第一方向以及一第二方向,该第一方向是为该保护盖板之机械方向,并平行于该挠折线,该第二方向是垂直于该第一方向,该第一方向之拉伸应力范围是为50至130兆帕斯卡,该第二方向之拉伸应力范围是为140至300兆帕斯卡,藉由该基材的平面相差值范围是为6000至12000,使一入射光之穿透光平均分布到该保护盖板之可视区,降低反射光之相位差。

【技术特征摘要】
1.一种保护盖板,其特征在于,是应用于一触控装置,该触控装置中央是包括一挠折线,该保护盖板是包括:一基材,厚度范围是为60至120微米,平面相差值范围是为6000至12000;以及一涂布层,是涂布于该基材之上;其中该保护盖板具有一第一方向以及一第二方向,该第一方向是为该保护盖板之机械方向,并平行于该挠折线,该第二方向是垂直于该第一方向,该第一方向之拉伸应力范围是为50至130兆帕斯卡,该第二方向之拉伸应力范围是为140至300兆帕斯卡,藉由该基材的平面相差值范围是为6000至12000,使一入射光之穿透光平均分布到该保护盖板之可视区,降低反射光之相位差。2.如权利要求1所述之保护盖板,其特征在于,其中该保护盖板之挠折直径是为10毫米。3.如权利要求1所述之保护盖板,其特征在于,其中...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈俊仁郭南村谢嘉铭林子祥
申请(专利权)人:业成科技成都有限公司业成光电深圳有限公司英特盛科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:四川;51

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