【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本申请基于申请号为14/101,207、名称为“具有集成挡板的微机电系统压力传感器”、于2013年12月9日提交、代理人案号为086400-0203(MKS-0234US)的美国专利申请以及专利申请号为61/817,713、名称为“用于微机电系统传感器的集成挡板”、于2013年4月30日提交、代理人案号为086400-0187(MKS-0234PR)的美国临时专利申请,并要求这些专利申请的优先权。该申请的全部内容均被通过引用结合到本文中。
本公开涉及用于测量气体或液体的压力的压力传感器、可用于减少压力传感器上的沉积物沉积的挡板、以及微机电系统(MEMS)。
技术介绍
压力传感器可以用于测量气体或液体的压力。压力传感器长期暴露于气体或液体会导致沉积物在压力传感器上的沉积。这些沉积物会负面地影响由压力传感器进行的测量的精度。挡板可被放置在压力传感器与将对其压力进行测量的气体或液体之间,以帮助减少沉积在压力传感器上的沉积物的数量。然而,挡板会显著地增大压力传感器与气体或液体之间的有效距离,由此延长压力传感器对压力变化的响应时间。
技术实现思路
压力传感器系统可感测气体或液体的压力。该系统可包括具有用于气体或液体的入口端口的壳体;该壳体内的压力传感器;以及被设置在入口端口与压力传感器之间的挡板。该挡板可具有被定向成接收进入该入口端口的气体或液体的一个或多个入口;被定向成将接收到的气体或液体传送至 ...
【技术保护点】
一种用于感测气体或液体的压力的压力传感器系统,包括:壳体,所述壳体具有用于所述气体或液体的入口端口;所述壳体内的压力传感器;以及挡板,所述挡板设置在所述入口端口与所述压力传感器之间,所述挡板具有:一个或多个入口,所述一个或多个入口被定向成接收进入所述入口端口的气体或液体;一个或多个出口,所述一个或多个出口被定向成将接收到的气体或液体传送至所述压力传感器;以及一个或多个密封的流动通道,所述一个或多个密封的流动通道防止所述气体或液体除了通过所述一个或多个出口以外从所述挡板漏出,所述出口中的至少一个被定位在与所述压力传感器上的位置相距不超过一毫米的范围内。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.04.30 US 61/817,713;2013.12.09 US 14/101,2071.一种用于感测气体或液体的压力的压力传感器系统,包括:
壳体,所述壳体具有用于所述气体或液体的入口端口;
所述壳体内的压力传感器;以及
挡板,所述挡板设置在所述入口端口与所述压力传感器之间,所述挡
板具有:
一个或多个入口,所述一个或多个入口被定向成接收进入所述入口
端口的气体或液体;
一个或多个出口,所述一个或多个出口被定向成将接收到的气体或
液体传送至所述压力传感器;以及
一个或多个密封的流动通道,所述一个或多个密封的流动通道防止
所述气体或液体除了通过所述一个或多个出口以外从所述挡板漏出,所
述出口中的至少一个被定位在与所述压力传感器上的位置相距不超过
一毫米的范围内。
2.如权利要求1所述的压力传感器系统,其中,所述压力传感器包括:
所述壳体内的挠性膜片;以及
感测系统,所述感测系统具有感测由所述气体或液体的压力变化导致
的所述膜片的变化的构造。
3.如权利要求1所述的压力传感器系统,其中,所述挡板具有:
长度小于100微米的特征;
共形层;以及
一层或多层硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝、蓝宝石、镍、或
镍合金。
4.如权利要求1所述的压力传感器系统,其中,所述挡板具有多个层,
每一层都具有至少一个贯穿它的孔。
5.如权利要求1所述的压力传感器系统,其中,所述密封的流动通道
迫使所述气体或液体在行进通过所述挡板的同时改变方向。
6.如权利要求4所述的压力传感器系统,其中,所述挡板具有一层并
\t且所述密封的流动通道迫使所述气体或液体沿着相反的方向行进通过所述
层。
7.如权利要求1所述的压力传感器系统,其中,所述密封的流动通道
要求所述气体或液体的所有部分在它们从所述入口行进至所述出口时转一
个或多个转弯,所述一个或多个转弯具有不超过50微米的转弯半径。
8.如权利要求1所述的压力传感器系统,其中,所述密封的流动通道
的至少一部分被涂覆有杂质吸收材料。
9.如权利要求1所述的压力传感器系统,其中,所述压力传感器具有
下列构造,所述构造在将电压电位施加在所述挡板与所述压力传感器时,
在所述挡板与所述压力传感器之间产生电场。
10.一种用于制造包括挡板的产品的工艺,包括:
以形成挡板的方式沉积、图案化、蚀刻、晶片键合、或晶片减薄一系
列层,所述挡板具有:
一个或多个入口,所述一个或多个入口用于接收气体或液体;
一个或多个出口,所述一个或多个出口用于传送接收到的气体或
液体;以及
一个或多个密封的流动通道,所述一个或多个密封的流动通道用
于使所述气体或液体从所述入口行进至所述出口。
11.如权利要求9所述的工艺,其中,所述挡板包括:
长度小于100微米的特征;
共形层;以及
一层或多层硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝、蓝宝石、镍、或
镍合金。
12.如权利要求9所述的工艺,其中,所述密封的流动通道要求所述
气体或液体的所有部分在它们从所述入口行进至所述出口时转一个或多个
转弯,所述一个或多个转弯具有不超过50微米的转弯半径。
13.如权利要求9所述的工艺,...
【专利技术属性】
技术研发人员:顾磊,S·F·巴尔特,
申请(专利权)人:MKS仪器公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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