一种中性衰减滤光片制备方法技术

本发明专利技术公开了一种新型中性衰减滤光片制备方法，所述制备方法为：首先，在玻璃基板上镀制金属铬，直至当波长为550nm的光的透过率达到1％以后，停止镀铬；然后再镀制的金属Ni，当波长为450nm和650nm的光的光谱透过率相同，并且波长为550nm的光的光谱透过率为0.1％以后，停止镀Ni；最后镀制金属NiCr，当波长为550nm的光的光谱透过率达到0.01％以后，停止镀膜。通过本申请的方法制备的中性衰减滤光片在400‑1000nm范围内光谱曲线的偏差小于0.01％；其光谱数值准确，实际生产得到的数据和理论设计数据偏差小于0.01％。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学薄膜
，具体涉及一种新型中性衰减滤光片制备方法。
技术介绍
中性衰减滤光片也叫中性密度镜，其作用是在保证光谱中性的前提下衰减光线。这种滤光片对光的衰减作用是非选择性的，也就是说，衰减滤光片对各种不同波长的光线的衰减能力是相同的、均匀的，只对所有的光线起到衰减的作用，而对光谱的成分不会产生任何影响，因此可以真实再现景物的反差。使用中性衰减滤光片的主要目的是为了减少光线的透过率。在摄影中如果光线太亮就很难选择较慢的快门速度拍摄，这时使用中性衰减滤光片可以减少进入镜头的光线，就可以较慢的快门下拍摄照片了。例如，拍摄强光环境下的风景照，又或者在正常光线下使用延时拍摄照片，或者慢速快门拍摄河流、瀑布等流体以表现出虚化的水流等特殊效果，都需要中性衰减滤光片。目前中性衰减滤光片的制备都是采用石英晶体膜厚控制仪来控制膜层厚度，镀制单层金属镍铬合金或者镍铬铁合金。如图1所示，这种制备工艺在生产透过率达到0.01％的深截止中性衰减滤光片的时候，镀制出来的滤光片存在截止深度无法准确控制、光谱曲线倾斜存在严重的偏色等问题。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种HUD用新型分光薄膜，其有效解决了现有技术中截止深度无法准确控制、光谱曲线倾斜存在严重的偏色等问题。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种新型中性衰减滤光片制备方法，所述制备方法为：首先，在玻璃基板上镀制金属铬，直至当波长为550nm的光的透过率达到1％以后，停止镀铬；然后再镀制的金属Ni，当波长为450nm和650nm的光的光谱透过率相同，并且波长为550nm的光的光谱透过率为0.1％以后，停止镀Ni；最后镀制金属NiCr，当波长为550nm的光的光谱透过率达到0.01％以后，停止镀膜。本专利技术具有以下有益技术效果：通过本申请的方法制备的中性衰减滤光片在400-1000nm范围内光谱曲线的偏差小于0.01％；其光谱数值准确，实际生产得到的数据和理论设计数据偏差小于0.01％。附图说明图1为传统的中性衰减滤光片的光谱曲线；图2为本申请的中性衰减滤光片的光谱曲线。具体实施方式下面，参考附图，对本专利技术进行更全面的说明，附图中示出了本专利技术的示例性实施例。然而，本专利技术可以体现为多种不同形式，并不应理解为局限于这里叙述的示例性实施例。而是，提供这些实施例，从而使本专利技术全面和完整，并将本专利技术的范围完全地传达给本领域的普通技术人员。如图2所示，本专利技术提供了一种新型中性衰减滤光片制备方法，该制备方法为：首先，在玻璃基板上镀制金属铬，直至当波长为550nm的光的透过率达到1％以后，停止镀铬；然后再镀制的金属Ni，当波长为450nm和650nm的光的光谱透过率相同，并且波长为550nm的光的光谱透过率为0.1％以后，停止镀Ni；最后镀制金属NiCr，当波长为550nm的光的光谱透过率达到0.01％以后，停止镀膜。本专利技术制备的深截止中性衰减滤光片的结构如下：Glass|1％Cr0.1％Ni0.01％NiCr|Air其中1％，0.1％，0.01％分别为Cr、Ni、NiCr镀层的透过率。本申请的中性衰减滤光片制备过程中，采用北京同生科技有限公司开发的FilmonitorBS2030宽光谱监控系统实时监测镀膜过程中的光谱曲线。上面所述只是为了说明本专利技术，应该理解为本申请并不局限于以上实施例，符合本专利技术思想的各种变通形式均在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型中性衰减滤光片制备方法，其特征在于，所述制备方法为：首先，在玻璃基板上镀制金属铬，直至当波长为550nm的光的透过率达到1％以后，停止镀铬；然后再镀制的金属Ni，当波长为450nm和650nm的光的光谱透过率相同，并且波长为550nm的光的光谱透过率为0.1％以后，停止镀Ni；最后镀制金属NiCr，当波长为550nm的光的光谱透过率达到0.01％以后，停止镀膜。

【技术特征摘要】
1.一种新型中性衰减滤光片制备方法，其特征在于，所述制备方法为：首先，在玻璃基板上镀制金属铬，直至当波长为550nm的光的透过率达到1％以后，停止镀铬；然后再镀制的金属Ni，当波长为450...

【专利技术属性】
技术研发人员：张智广，贾秋平，范文生，徐志根，
申请(专利权)人：北京同生科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11