超声波检查装置、超声波检查系统以及超声波检查方法制造方法及图纸

技术编号:14815497 阅读:91 留言:0更新日期:2017-03-15 10:50
一种超声波检查装置、超声波检查系统以及超声波检查方法,即使是怕水的工件,也能够使与水的接触为最小限度,并且能够通过超声波检查得到良好的图像。超声波检查装置具备:超声波探头(21),其向工件(w)照射超声波,接收其反射波;X轴驱动装置(25)和Y轴驱动装置(26),其使超声波探头(21)以相对于工件(w)在水平方向上扫描的方式动作;Z轴驱动装置(27),其使超声波探头(21)相对于工件(w)进行升降;供水部(22),其被设置于超声波探头(21),向超声波探头(21)的探头前端部(211)与工件(w)之间供给限定为预定量的水(a);以及吸水部(23),其被设置于超声波探头(21),吸取由供水部(22)供水后的水(a)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种超声波检查装置、超声波检查系统以及超声波检查方法
技术介绍
作为本

技术介绍
,有日本特开2014-6177号公报(专利文献1)。该公报中记载了“具备:可在水平方向上扫描的扫描单元、安装在扫描单元上的垂直方向的高度调整单元、安装在高度调整单元上的支架、安装在支架上的超声波探头、从喷嘴流出水而形成从超声波探头向工件的连续的水流的喷嘴附件、安装在高度调整单元或支架上并能够使喷嘴附件在垂直方向上移动的间隙调整单元”(参照摘要)。此外,作为本

技术介绍
,有日本特开2008-8745号公报(专利文献2)。该公报中记载了“在超声波探头本体和探头支架上,以与超声波探头本体的超声波收发面接触的方式设置布制的袋体,袋体中收纳有高分子吸收体。若从供水管向该高分子吸收体供给水,则高分子吸收体吸收水并膨胀,袋体中变满,扩张袋体。多余的水向袋体外流出,但也从排水管排水。在该状态下,向被检体按压袋体来进行超声波探伤。此时,膨胀的高分子吸收体相互贴紧,其界面处的超声波的反射量极小,超声波的透射状态与水中透射的情况几乎相同”(参照摘要)。在超声波检查装置的半导体晶圆的检查中,向要检查的面的全部区域供给了水。然而,最近因半导体器件的性能上希望尽量不沾水,因此向局部供水,准确无误地进行超声波检查的必要性提高。本专利技术对应于这样的必要性。即,在上述专利文献1、2中记载了仅水浸工件中成为检查对象的局部来进行超声波检查的技术。但是,在专利文献1所公开的技术中,从喷嘴流出水而形成从超声波探头向工件的连续水流,而且并不存在迅速回收该使用后的水的手段。因此,即使是局部水浸,也存在长时间、大范围地将怕水的工件浸在水中的不良情况。此外,在专利文献2所公开的技术中,经由袋体使水存在于超声波探头与工件之间,因此来自超声波探头的超声波或其反射波通过袋体,存在通过超声波检查无法得到良好的图像的不良情况。专利文献1:日本特开2014-6177号公报专利文献2:日本特开2008-8745号公报
技术实现思路
因此,本专利技术的课题是提供一种超声波检查装置、超声波检查系统以及超声波检查方法,即使是怕水的工件,也能够使与水的接触为最小限度,并且能够通过超声波检查得到良好的图像。为了解决上述课题,在本专利技术的一方式中,在超声波探头的侧部设置供水部和吸水部,其中,该供水部向超声波探头的探头前端部与工件之间供给限定为预定量的水,该吸水部在通过超声波探头向工件照射超声波来进行的检查结束后,吸取上述供给的水。此外,在本专利技术的另一方式中,设置供水工序和吸水工序,其中,该供水工序是向超声波探头的探头前端部与工件之间供给限定为预定量的水的工序,该吸水工序是在通过超声波探头向工件照射超声波来进行的检查结束后,吸取上述供给的水的工序。根据本专利技术,即使是怕水的工件,也能够使与水接触为最小限度,并且能够通过超声波检查得到良好的图像。通过以下的实施方式的说明,使上述以外的课题、结构以及效果变得更加明确。附图说明图1是表示作为本专利技术的一实施例的超声波检查装置的整体结构的电连接框图。图2是说明作为本专利技术的一实施例的超声波检查装置的X轴驱动装置、Y轴驱动装置、Z轴驱动装置的机构的立体图。图3是说明作为本专利技术的一实施例的超声波检查方法的流程图。图4是作为本专利技术的一实施例的超声波检查装置的显示装置的画面的平面图。图5是说明向作为本专利技术的一实施例的超声波检查装置的超声波探头与工件之间供水,或对该水进行吸水的工序的放大纵截面图。图6是按照(a)~(f)的顺序经时性地表示在作为本专利技术的一实施例的超声波检查装置的超声波探头上固定了供水部、吸水部的情况下的动作的说明图。图7是按照(a)~(h)的顺序经时性地表示供水部、吸水部相对于作为本专利技术的一实施例的超声波检查装置的超声波探头独立进行升降动作的情况下的动作的说明图。图8是表示作为本专利技术的一实施例的超声波检查系统的整体结构的说明图。符号说明1超声波检查装置21超声波探头22供水部23吸水部24拍摄元件25X轴驱动装置(扫描装置)26Y轴驱动装置(扫描装置)27Z轴驱动装置(第1升降装置)101工件放置台102定位装置211探头前端部221致动器(第2升降装置)231致动器(第2升降装置)S2扫描工序、拍摄工序S3高度调节工序S4供水工序S5检查工序S6吸水工序具体实施方式以下,使用附图对本专利技术的实施例进行说明。超声波检查装置是向检查对象(工件)照射超声波,接收其反射波(或透射波)并图像化的装置。例如,在工件为电子器件的情况下,需要检测出细小的空隙或裂纹等缺陷,对超声波检查装置要求较高的分辨率。超声波检查装置使用的超声波的频率越高,得到越高的分辨率,但另一方面,使用的超声波的频率越高衰减越大,S/N比越下降。与空气相比,水中超声波的衰减程度较小,因此在现有的一般的超声波检查装置中,使水没过工件,在探头前端部与工件表面之间充满水的状态下进行超声波检查。然而,当工件为怕水的电子器件等时,想要极力减少水附着于工件上的面积,并在检查结束后迅速从工件去除水。关于这一点,上述专利文件1、2都涉及仅将工件中成为检查对象的局部浸到水中来进行超声波检查的技术。但是,在专利文献1所公开的技术中,从喷嘴流出水,形成从超声波探头向工件的“连续的”水流,而且并不存在迅速回收该使用后的水的单元。因此,即使是局部水浸,也存在广范围、长时间将怕水的工件浸在水中的不良情况。此外,在专利文献2所公开的技术中,经由袋体使水存在于超声波探头与工件之间,因此来自超声波探头的超声波或其反射波通过袋体,存在通过超声波检查无法得到良好的图像的不良情况。因此,以下对解决了这些技术不良的本专利技术的实施例进行说明。图1是表示本实施例的超声波检查装置1的整体结构的电连接的框图。本实施例的超声波检查装置1由如下部分构成:进行超声波的收发等的超声波探测部2、以该超声波检查装置1为整体来进行控制的数据处理装置3、在与超声波探测部2之间输入输出电信号的信号发生测定装置4、分别与超声波探测部2的动作控制相关的驱动装置5、6等。超声波探测部2具备以探头前端部211为下方,与轴方向垂直的超声波探头21。超声波探头21的探头前端部211为凹透镜形状。其为了在超声波探头21得到高位置分辨率,将探头前端部211设为凹透镜形状,使超声波汇聚到观察位置。在超声波探测部2中设有压电元件29。该压电元件29例如在由氟共聚物等构成的压电膜的双面分别安装电极而构成。该压电元件29向该两个电极间施加电压,由此从该压电膜产生超声波。从超声波探头21的探头前端部211向工件w照射该超声波。然后,压电元件29接收来自工件w的该超声波的反射波(回波),将压电元件29的压电膜接收到的回波变换为在所述两个电极间产生的电压即接收信号。在此,工件w载置于工作台t上,并配置于超声波探头21的探头前端部211的下方。例如,工件w为通过半导体器件制造工艺制造的半导体器件,更具体来说,是通过切割(dicing)单片化之前的晶圆。在超声波探头21的侧部设有:供水部22,其向超声波探头21的探头前端部211与工件w之间供给限定为预定量的水a(水滴);以及吸水部23,其吸取通过供水部22供水后的水a。供水部22例如是供给水a的前端部为喷嘴状的部件,吸本文档来自技高网
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超声波检查装置、超声波检查系统以及超声波检查方法

【技术保护点】
一种超声波检查装置,其特征在于,具备:超声波探头,其向工件照射超声波,接收其反射波;扫描装置,其使上述超声波探头以相对于上述工件在水平方向上扫描的方式动作;第1升降装置,其使上述超声波探头相对于上述工件进行升降;供水部,其被设置于上述超声波探头的侧部,在将上述超声波探头的凹透镜形状的探头前端部移动到上述工件的预定位置的正上方后,供给限定为在通过表面张力粘着在上述探头前端部和上述工件上的状态下能够保持的最低限的预定量的水,以便填满上述探头与上述工件之间;以及吸水部,其被设置于上述超声波探头的侧部,吸取通过上述供水部供水后的水。

【技术特征摘要】
2015.09.04 JP 2015-1744761.一种超声波检查装置,其特征在于,具备:超声波探头,其向工件照射超声波,接收其反射波;扫描装置,其使上述超声波探头以相对于上述工件在水平方向上扫描的方式动作;第1升降装置,其使上述超声波探头相对于上述工件进行升降;供水部,其被设置于上述超声波探头的侧部,在将上述超声波探头的凹透镜形状的探头前端部移动到上述工件的预定位置的正上方后,供给限定为在通过表面张力粘着在上述探头前端部和上述工件上的状态下能够保持的最低限的预定量的水,以便填满上述探头与上述工件之间;以及吸水部,其被设置于上述超声波探头的侧部,吸取通过上述供水部供水后的水。2.根据权利要求1所述的超声波检查装置,其特征在于,上述工件具备多个芯片,在将上述超声波探头的探头前端部移动到成为检查对象的芯片的正上方后,上述供水部向成为上述检查对象的芯片的范围供给限定的水。3.根据权利要求1所述的超声波检查装置,其特征在于,该超声波检查装置具备:第2升降装置,其使上述供水部和上述吸水部相对于上述超声波探头分别独立地进行升降,上述第2升降装置使上述供水部从上述超声波探头下降到上述工件侧来进行上述水的供给,之后,将该供水部提升到上述超声波探头侧,之后,上述超声波探头向上述工件照射超声波,接收其反射波,之后,上述第2升降装置使上述吸水部从上述超声波探头下降到上述工件侧来进行上述水的吸取,之后,将该吸水部提升到上述超声波探头侧。4.根据权利要求1所述的超声波检查装置,其特征在于,该超声波检查装置具备:拍摄元件,其在上述超声波探头的近旁与上述超声波探头一起移动,拍摄上述工件侧的图像。5.根据权利要求4所述的超声波检查装置,其特征在于,根据上述拍摄元件拍摄的图像控制上述扫描...

【专利技术属性】
技术研发人员:大贯和彦北见薰高田雅文皆川诚也
申请(专利权)人:株式会社日立电力解决方案
类型:发明
国别省市:日本;JP

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