【技术实现步骤摘要】
本技术涉及蒸镀
,尤其涉及一种蒸镀对位系统及蒸镀装置。
技术介绍
真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀法)是在真空蒸镀室中通过蒸镀源对蒸镀材料进行加热,使蒸镀材料的原子或分子从其表面气化逸出形成蒸汽流,穿过掩膜版上的图案,最后在待蒸镀基板上凝结,形成图形化的固态薄膜的方法。真空蒸镀法已经广泛应用于显示器件的制备,例如制备OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)显示面板的阴极、阳极以及位于阴极和阳极之间的发光材料层。现有的蒸镀装置通常包括蒸镀对位系统,蒸镀对位系统包括掩膜版载具、基板载具和冷却板,当对待蒸镀基板进行蒸镀时,待蒸镀基板安装在基板载具上,掩膜版安装在掩膜版载具上,掩膜版、待蒸镀基板和冷却板由下至上依次层叠设置。在安装待蒸镀基板和掩膜版时,为了提高蒸镀在待蒸镀基板上的图案的位置精度,通常需要对待蒸镀基板与掩膜版进行对位,以使待蒸镀基板上需要形成图案的区域与掩膜版上的图案正对,进而提高蒸镀在待蒸镀基板上的图案的位置精度。然而,对待蒸镀基板和掩膜版进行对位时,待蒸镀基板可能需要相对冷却板移动,待蒸镀基板与冷却板之间容易产 ...
【技术保护点】
一种蒸镀对位系统,包括基板载具、掩膜版载具和冷却板,其特征在于,所述冷却板内设置有分离件;对待蒸镀基板进行蒸镀时,所述待蒸镀基板安装在所述基板载具上,掩膜版安装在所述掩膜版载具上,所述待蒸镀基板位于所述冷却板的下方,所述掩膜版位于所述待蒸镀基板的下方;所述分离件可与所述基板载具一起相对所述冷却板向下移动,使所述待蒸镀基板与所述冷却板分离。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀对位系统,包括基板载具、掩膜版载具和冷却板,其特征在于,所述冷却板内设置有分离件;对待蒸镀基板进行蒸镀时,所述待蒸镀基板安装在所述基板载具上,掩膜版安装在所述掩膜版载具上,所述待蒸镀基板位于所述冷却板的下方,所述掩膜版位于所述待蒸镀基板的下方;所述分离件可与所述基板载具一起相对所述冷却板向下移动,使所述待蒸镀基板与所述冷却板分离。2.根据权利要求1所述的蒸镀对位系统,其特征在于,所述分离件的下表面与所述冷却板的下表面平齐。3.根据权利要求1所述的蒸镀对位系统,其特征在于,所述分离件为环状分离件,所述冷却板中设置有开口位于所述冷却板的下表面的环状容置槽,所述环状分离件设置在所述环状容置槽内。4.根据权利要求3所述的蒸镀对位系统,其特征在于,所述环状容置槽环绕所述冷却板的中部设置。5.根据权利要求1所述的蒸镀对位系统,其特征在于,所述分离件为柱状分离件,所述冷却板中设置有安装孔,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:田川,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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