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本实用新型公开一种蒸镀对位系统及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域，为解决待蒸镀基板因静电被吸附在冷却板上而导致蒸镀装置的工作受到不良影响的问题。所述蒸镀对位系统，包括基板载具、掩膜版载具和冷却板，冷却板内设置有分离件；对待蒸镀基板进行蒸镀时，待蒸...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司授权不得商用。