一种测试基板翘曲的方法及装置制造方法及图纸

本申请公开了一种测试基板翘曲的方法及装置，用以解决现有技术中基板翘曲测试多为静止、离线测试，鲜有在线测试，从而不利于提高薄膜基板品质监控效率的问题。该方法包括：将基板接触单元向基板靠近，确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间；在所述基板成膜后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间；根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及一种基板测试
，尤其涉及一种测试基板翘曲的方法及装置。
技术介绍
在薄膜基板工艺中基板成膜后，薄膜基板的翘曲成为影响薄膜基板质量的一大因素。薄膜基板翘曲，会导致当光波入射到薄膜基板上的薄膜上时产生发射光束的波前畸变，更为甚者，薄膜应力可能会导致薄膜性能恶化甚至导致薄膜龟裂和剥落。显示、半导体等行业对于行业中使用的玻璃板、强化玻璃等为代表的基板成膜后表面形状翘曲的品质要求逐渐变得严格是不争的事实。目前基板翘曲测试多为静止、离线测试，鲜有在线测试，从而不利于提高薄膜基板品质监控效率。
技术实现思路
本申请实施例提供一种测试基板翘曲的方法及装置，用以解决现有技术中基板翘曲测试多为静止、离线测试，鲜有在线测试，从而不利于提高薄膜基板品质监控效率的问题。本申请实施例采用下述技术方案：本申请实施例提供的一种测试基板翘曲的方法，包括：将基板接触单元向基板靠近，确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间；在所述基板成膜后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间；根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量。可选地，所述基板接触单元上设置有多个接触传感器；确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间，具体包括：分别针对每个所述接触传感器执行：确定从所述基板接触单元向所述基板靠近开始，直至该接触传感器接触所述基板的板面时所经过的第一时间。可选地，确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近前，所述方法还包括：将所述基板接触单元回到向所述基板靠近前的所在位置。可选地，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间，具体包括：分别针对每个所述接触传感器执行：确定从所述基板接触单元向所述成膜后基板靠近开始，直至该接触传感器接触所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间。可选地，根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量，具体包括：根据所述第一时间、所述第二时间，确定所述第一时间与所述第二时间的时间长度差值；根据所述时间长度差值和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量。可选地，根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量，具体包括：分别针对每个所述接触传感器执行：根据该接触传感器对应的第一时间、第二时间，确定该第一时间与该第二时间的时间长度差值，根据该时间长度差值和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的板面接触该接触传感器之处的翘曲量。可选地，所述基板与所述成膜后基板是以相同的放置方式放置于工作载台上的；所述基板接触单元是以上升的方式，向放置于工作载台上的所述基板或所述成膜后基板靠近的。本申请实施例提供的一种测试基板翘曲的装置，包括基板接触单元、设置于所述基板接触单元上的接触传感器、连接所述接触传感器的处理单元；所述基板接触单元，用于向基板靠近，以及在所述基板成膜后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近；所述接触传感器，用于接触所述基板的板面或所述成膜后基板的板面；所述处理单元，用于确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间，根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量。可选地，所述设置于所述基板接触单元上的接触传感器有多个。可选地，所述装置还包括：工作载台，用于以相同的放置方式放置所述基板与所述成膜后基板；所述基板接触单元是以上升的方式，向放置于工作载台上的所述基板或所述成膜后基板靠近。本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：可以通过在基板成膜前后动态地、在线地测试获取的数据，确定成膜后基板的翘曲量，相比于现有技术中静止、离线的基板翘曲测试方式，及时性较好，进而也有利于提高薄膜基板品质监控效率，因此，可以部分或全部地解决现有技术中的问题。附图说明此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：图1为本申请实施例提供的一种测试基板翘曲的方法的流程示意图；图2为本申请实施例提供的一种测试基板翘曲的装置的结构示意图；图3a为本申请实施例提供的测试基板翘曲的方案原理示意图之一；图3b为本申请实施例提供的测试基板翘曲的方案原理示意图之二；图4为本申请实施例提供的在一种实际应用场景下，利用图2中的装置测试基板翘曲的一种具体实施流程示意图。具体实施方式为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请具体实施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。图1为本申请实施例提供的一种测试基板翘曲的方法的流程示意图。图1中的流程可以包括以下步骤：S101：将基板接触单元向基板靠近，确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间。在本申请实施例中，对基板的材质并不做限定，可以是玻璃或陶瓷等材质。在本申请实施例中，基板接触单元可以是面向基板的板面，向基板靠近。基板接触单元面向基板的板面的那一面上可以设置有一个或多个接触传感器，基板接触单元向基板靠近，直至基板接触单元上设置的各接触传感器接触到基板的板面。第一时间可以是从基板接触单元从向基板靠近开始，直至基板接触单元上设置的某个接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的时间。当然，第一时间也可以是从基板接触单元从向基板靠近之后的某个时间点开始，直至基板接触单元上设置的某个接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的时间。S102：在所述基板成膜后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间。在本申请实施例中，对于成膜后基板上的薄膜材质并不做限定，可以是氧化物或其他化合物等材质；对于所述薄膜的用途也不做限定，可以是用于改善光学性能，也可以是用于防腐蚀等。在本申请实施例中，在基板成膜后，由于薄膜本身的张力问题，可能会造成成膜后基板的翘曲，通过本申请的方案可以在线测试成膜后基板相比于成膜前基板发生的翘曲。在本申请实施例中，在基板成膜后，可以将基板接触单元按照与步骤S101类似的方式，向成膜后基板靠近，确定接触传感器接触到成膜后基板的板面时所经过的第二时间。由于基板在成膜发生了翘曲，若翘曲处为接触传感器与成膜后基板的板面的接触之处，则接触传感器接触到基板的板面所经过的时间可能会相应地发生变化，也即，确定出的第二时间与在步骤S101中确定出的第一时间可能会相应地存在差异。因此，可以以第一时间和第二时间作为测试基板翘曲的依据。在本申请实施例中，第一时间、第二时间可以是接触传感器直接记录的，也可以是其他功能模块或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测试基板翘曲的方法，其特征在于，包括：将基板接触单元向基板靠近，确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间；在所述基板成膜后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间；根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量。

【技术特征摘要】
1.一种测试基板翘曲的方法，其特征在于，包括：将基板接触单元向基板靠近，确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间；在所述基板成膜后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间；根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量。2.如权利要求1所述的测试基板翘曲的方法，其特征在于，所述基板接触单元上设置有多个接触传感器；确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间，具体包括：分别针对每个所述接触传感器执行：确定从所述基板接触单元向所述基板靠近开始，直至该接触传感器接触所述基板的板面时所经过的第一时间。3.如权利要求2所述的测试基板翘曲的方法，其特征在于，确定所述基板接触单元上设置的接触传感器接触到所述基板的板面时所经过的第一时间后，将所述基板接触单元向成膜后基板靠近前，所述方法还包括：将所述基板接触单元回到向所述基板靠近前的所在位置。4.如权利要求3所述的测试基板翘曲的方法，其特征在于，确定所述接触传感器接触到所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间，具体包括：分别针对每个所述接触传感器执行：确定从所述基板接触单元向所述成膜后基板靠近开始，直至该接触传感器接触所述成膜后基板的板面时所经过的第二时间。5.如权利要求1所述的测试基板翘曲的方法，其特征在于，根据所述第一时间、所述第二时间和所述基板接触单元的运动速度，确定所述成膜后基板的翘曲量，具体包括：根据所述第一时间、所述第二时间，确定所述第二时间与所述第一时间的时间长度差值；根据所述时间长度差值和所述基板接触单元的运...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭瑞，贺良伟，徐磊，赵景训，卜凡中，俞凤至，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32