Discloses a polychrome glazed tile polishing, which comprises a bottom slab (11), located in the base of a layer of glaze (12), a printing glaze layer positioned on the bottom (13) and is located on a level of glaze polychrome printing (14), the surface is polished glaze. It also discloses a method for preparing a polished tile, which comprises a bottom molding; applying a layer of glaze on the base; printing polychrome pattern in the glaze; then applying a glaze polychrome pattern in level; drying of glaze is applied on the end surface of glaze glaze; drying burning in the system; after firing, polishing of the glazed tile. Also disclosed a polished tile production equipment, which comprises: bottom blank forming device, in base device, applied bottom glaze layer printed on the bottom glaze polychrome pattern is applied in the device, a pattern device, surface layer of glaze glaze glaze firing device, drying device and the opposite glaze polishing device.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种彩饰釉面抛光瓷砖、该瓷砖的制备方法及其设备。
技术介绍
目前市场上的瓷砖可分为两类一类是釉面砖，另一类是抛光砖。釉面砖包括底坯，位于底坯上的一层底釉和位于底釉层上一层面釉。本色釉面砖通常就由这三层组成。如果是彩饰釉面砖的话，在面釉上还有彩饰图案，其制备工艺是形成底坯并干燥，在底坯上施加一层底釉，在底釉上施加一层施釉干料量通常为400-700g/m2(厚度通常为0.3-0.5毫米)的面釉，在面釉层上印刷彩饰图案，对釉坯进行烧制。其缺点是图案在釉面的表面，易被磨损，且表面的光泽度较低。无论是本色釉面砖还是彩饰釉面砖，在烧成之后均不进行抛光，亦无法进行抛光，原因是面釉厚度不足且易磨损表面图案。釉面砖的平整度(以中心弯曲度表征，国家标准为±0.4％)和表面光泽度(通常为70-85度)都不是很高，无法满足建筑装饰业越来越严格的要求。抛光砖是一类以瓷质坯体为主的瓷砖。由于坯体是同质瓷质且硬度较高，因此可以在烧制之后直接进行抛光。抛光砖的平整度比上述釉面砖有所改进(中心弯曲度国家标准为±0.3％)，但表面光泽度则不如釉面砖(光泽度国家标准为＞55度，实际多...
【技术保护点】
一种彩饰釉面抛光瓷砖，它包括底坯、位于底坯上的一层底釉、位于底釉层上的彩饰印花和位于彩饰印花上的一层面釉，所述面釉是经过抛光的。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：卢永锠，黎杰士，
申请(专利权)人：卢永錩，冯碧美，
类型：发明
国别省市：HK[中国|香港]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。