大规格瓷砖釉面的淋釉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种大规格瓷砖釉面的淋釉装置，包括输釉装置、淋釉罩、钟罩分釉器和瓷片载体，输釉装置具有输釉腔体，输釉装置的下端设有输釉嘴，淋釉罩的顶部中心向上凸起设有钟罩分釉器，钟罩分釉器内部具有分釉腔体，钟罩分釉器的分釉腔体上边缘为圆形的釉溢流边缘，淋釉罩下方设瓷片载体；淋釉罩由淋釉罩主体弧面和淋釉端部弧面，淋釉罩主体弧面的圆弧半径R1为3900mm～4500mm，淋釉端部弧面的圆弧半径R2为130mm～210mm，淋釉罩的下端端面圆直径D1为2300mm～2800mm。本实用新型专利技术通过输釉装置的输釉嘴对钟罩分釉器进行输釉，然后在钟罩分釉器中平衡压力后经过釉溢流边缘向淋釉罩上表面溢流出釉浆，再经过淋釉端部弧面边缘对位于瓷片载体中的瓷片进行施釉处理。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种瓷砖施釉设备，尤其涉及一种大规格瓷砖釉面的淋釉装置。
技术介绍
在瓷砖加工领域中，淋釉机或淋釉装置是一种十分常见的加工工具，主要用于为砖坯表面施底釉及面釉，具体是在瓷片或成型的陶瓷坯体表面施以釉浆，现有的淋釉机结构较为复杂，对淋釉量及淋釉速度的调节十分不便，同时现有的淋釉机机架造价成本高，对原材料消耗很大。现有的淋釉装置无法对1.8米及其1.8米以上的大规格瓷砖进行施釉，虽然1.8米及其1.8米以上的大规格瓷砖生产难度也大，但随着市场需求的扩大，1.8米及其1.8米以上的大规格瓷砖也逐渐被需要，由于现有技术无法针对1.8米及其1.8米以上的大规格瓷砖进行施釉，这给1.8米及其1.8米以上的大规格瓷砖的生产带来很大的技术难题。大规格瓷砖在施釉时，如何解决流下釉浆的压力平均、釉浆流量可控等问题，一直是技术探索和研发的难点。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足之处，本技术的目的在于提供一种大规格瓷砖釉面的淋釉装置，可以有效地对1.8米及其1.8米以上的大规格瓷砖进行施釉，并且淋釉装置结构更加新颖、合理。本技术的目的通过下述技术方案实现：一种大规格瓷砖釉面的淋釉装置，包括输釉装置、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大规格瓷砖釉面的淋釉装置，其特征在于：包括输釉装置(3)、淋釉罩(5)、钟罩分釉器(7)和瓷片载体(6)，所述输釉装置(3)具有输釉腔体，输釉装置(3)的下端设有与输釉腔体相连通的输釉嘴(4)，淋釉罩(5)整体呈向上凸起的圆弧球面形状，淋釉罩(5)的顶部中心向上凸起设有钟罩分釉器(7)，钟罩分釉器(7)整体呈向上凸起的圆弧球面形状，钟罩分釉器(7)内部具有分釉腔体，钟罩分釉器(7)的分釉腔体上边缘为圆形的釉溢流边缘，淋釉罩(5)下方对应设有盛放瓷片的瓷片载体(6)；所述淋釉罩(5)由淋釉罩主体弧面(51)和淋釉端部弧面(52)，所述淋釉罩主体弧面(51)的圆弧半径(R1)为3900mm～4...

【技术特征摘要】
1.一种大规格瓷砖釉面的淋釉装置，其特征在于：包括输釉装置(3)、淋釉罩(5)、钟罩分釉器(7)和瓷片载体(6)，所述输釉装置(3)具有输釉腔体，输釉装置(3)的下端设有与输釉腔体相连通的输釉嘴(4)，淋釉罩(5)整体呈向上凸起的圆弧球面形状，淋釉罩(5)的顶部中心向上凸起设有钟罩分釉器(7)，钟罩分釉器(7)整体呈向上凸起的圆弧球面形状，钟罩分釉器(7)内部具有分釉腔体，钟罩分釉器(7)的分釉腔体上边缘为圆形的釉溢流边缘，淋釉罩(5)下方对应设有盛放瓷片的瓷片载体(6)；所述淋釉罩(5)由淋釉罩主体弧面(51)和淋釉端部弧面(52)，所述淋釉罩主体弧面(51)的圆弧半径(R1)为3900mm～4500mm，所述淋釉端部弧面(52)的圆弧半径(R2)为...

【专利技术属性】
技术研发人员：欧高建，
申请(专利权)人：欧高建，
类型：新型
国别省市：四川;51