一种化合物电池的抗反射镀膜结构制造技术

本发明专利技术公开了一种化合物电池的抗反射镀膜结构，包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层；所述的第一层抗反射层为硫化锌层，所述的第二层抗反射层为氟化镁层；本发明专利技术的有益效果是：设计合理，结构简单，降低化合物电池的度电成本，提高了化合物电池的光电转换效率，增加了光能源利用率，减少了光能源浪费及光污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及化合物电池镀膜
，尤其是一种化合物电池的抗反射镀膜结构。
技术介绍
太阳能是绿色清洁能源，全世界在绿色能源的开发研究中不断地在取之不尽的太阳能上增加转换效率，及新的绿色能源技术，在面对全球暖化的环境及严重的雾霾下，清洁能源一直是全世界努力的方向。
技术实现思路
本专利技术提供了一种化合物电池的抗反射镀膜结构让化合物电池的光电转换效率满足市场需求，降低化合物电池的度电成本。为了达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种化合物电池的抗反射镀膜结构，其结构要点是，包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层；所述的第一层抗反射层为硫化锌层，所述的第二层抗反射层为氟化镁层。作为本专利技术的优选方案，化合物电池采用III-V族化合物材质或II-VI族化合物材质制成。作为本专利技术的优选方案，镀膜介质层由五氧化二钽或二氧化矽或氮化矽材质制成。作为本专利技术的优选方案，第一层抗反射层的厚度为80-140nm。作为本专利技术的优选方案，镀膜介质层的厚度为20-80nm。作为本专利技术的优选方案，第二层抗反射层的厚度为5-60nm。作为本专利技术的优选方案，第二抗反射层上设有保护膜。作为本专利技术的优选方案，保护膜为氧化锌硬质镀膜层。作为本专利技术的优选方案，抗反射镀膜结构设有基材，基材采用透明聚氯乙烯制成。作为本专利技术的优选方案，基材的厚度为20-24um。本专利技术一种化合物电池的抗反射镀膜结构，包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层，当光子之能量小于化合物材料之能隙时，则光子不被化合物材料吸收，当光子的能隙大于化合物材料的能隙时，光子的能隙的能量将被吸收，其余的能量则以热的形式消耗。由于化合物材料为直接能隙，且若使用多种不同化合物材料堆叠，能让化合物电池吸收较大范围的太阳光谱，提高转换效率，而且本专利技术第一层抗反射层和第二层抗反射层之间设有镀膜介质层，使得镀膜介质层具有折射率，使化合物电池的抗反射频谱范围变大，配合利用高能隙的适当材料组合及厚度选择，而有效提升化合物太阳能电池的光电转换效率。本专利技术的有益效果是：设计合理，结构简单，降低化合物电池的度电成本，提高了化合物电池的光电转换效率，增加了光能源利用率，减少了光能源浪费及光污染。附图说明图1为本专利技术的实施例1结构示意图；图2为本专利技术的实施例2结构示意图。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的实施例1，如图1所示，本实施例中一种化合物电池的抗反射镀膜结构，包括化合物电池1，化合物电池表1面设有抗反射镀膜结构2，抗反射镀膜结构2包括第一层抗反射层201，第一层抗反射层201上设有第二层抗反射层202，第一层抗反射层201与第二层抗反射层202之间设有镀膜介质层203；所述的第一层抗反射层201为硫化锌层，所述的第二层抗反射层202为氟化镁层；所述的第二层抗反射层的厚度为5-60nm；所述的第二抗反射层上设有保护膜；能够在增加耐磨性、抗氧化性等性能；所述的保护膜为氧化锌硬质镀膜层；氧化锌具有导电性和抗静电的功能，能够使得保护层具有防静电功能，所述的抗反射膜结构设有基材，基材采用透明聚氯乙烯制成；所述的基材的厚度为20-24um。在本实施例中图1化合物电池1的表面设有抗反射镀膜结构2，抗反射镀膜结构2包括第一层抗反射层201，第一层抗反射层201上设有第二层抗反射层202，第一层抗反射层201与第二层抗反射层202之间设有镀膜介质层203；所述的第一层抗反射层201为硫化锌层，所述的第二层抗反射层202为氟化镁层，高能隙的适当材料组合及厚度选择，有效提升化合物电池的光电转换效率，例如在第一层抗反射层201的厚度介于80-140nm之间，镀膜介质层202的厚度介于20-80nm之间，镀膜介质层202由五氧化二钽或二氧化矽或氮化矽材质制成，镀膜介质层202的折射率介于第一层抗反射层201与第二层抗反射层202之间，第二层抗反射层202的厚度介于5-60nm之间，当光子之能量小于化合物材料之能隙时，则光子不被化合物材料吸收，当光子之能隙大于化合物材料之能隙时，相当在能隙之能量将被吸收，其余之能量则以热的形式消耗。由于化合物材料为直接能隙，且若使用多种不同化合物材料堆叠，能让化合物太阳能电池吸收较大范围之太阳光谱，即可提高转换效率，不同的化合物材料堆叠就用相对应的高能隙适当材料组合及厚度选择，而有效提升化合物太阳能电池的光电转换效率。熟悉本
的技术人员可自由变换镀膜介质层203的化合物组合及厚度，前提是要熟悉化合物的能隙让光子之能隙大于化合物材料之能隙时，光子能隙的能量将被吸收，增加光通量来提高化合物电池转换效率。本专利技术的基本原理是：一种化合物电池的抗反射镀膜结构，包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层，当光子之能量小于化合物材料之能隙时，则光子不被化合物材料吸收，当光子的能隙大于化合物材料的能隙时，光子的能隙的能量将被吸收，其余的能量则以热的形式消耗。由于化合物材料为直接能隙，且若使用多种不同化合物材料堆叠，能让化合物电池吸收较大范围的太阳光谱，提高转换效率，而且本专利技术第一层抗反射层和第二层抗反射层之间设有镀膜介质层，使得镀膜介质层具有折射率，使化合物电池的抗反射频谱范围变大，配合利用高能隙的适当材料组合及厚度选择，而有效提升化合物电池的光电转换效率。本专利技术的实施例2，如图2所示，以化合物电池（CIGS）9为专利技术工作原理实施例，在已习知的CIGS化合物电池9中的化合物电池结构包括抗反射镀膜（TiOx/Al2O3）3，窗口层（ZnO）4，过度层（Cds）5，光吸收层（CIGS）6，金属背电极（MO）7，玻璃衬底（Glass）8。把图2中抗反射镀膜（TiOx/Al2O3）3换成本专利技术中的抗反射镀膜结构2，第一层抗反射层(Zns)201的厚度为95nm。，镀膜介质层203的厚度为46nm，镀膜介质层203的材质为五氧化二钽（Ta2O5）,镀膜介质层203的折射率介于第一层抗反射层(Zns)201与第二层抗反射层之间202，第二抗反射层(MgF2)202厚度为37nm，当光子的能隙大于化合物材料的能隙时，相当在能隙的能量将被吸收，多种不同化合物材料堆叠，能让化合物电池吸收较大范围之太阳光谱，即可提高转换效率，在抗反射镀膜3（TiOx/Al2O3）未实施本专利技术的时候其带隙1.02V-1.4eV范围变化，当实施化合物电池的抗反射镀膜结构的时候其带隙在1.02V-2.1eV范围变化,覆盖了可见太阳光谱。当光子之能隙大于化合物材料之能隙时，相当在能隙之能量将被吸收，多种不同化合物材料堆叠，能让化合物太阳能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化合物电池的抗反射镀膜结构，其特征在于：包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层；所述的第一层抗反射层为硫化锌层，所述的第二层抗反射层为氟化镁层。

【技术特征摘要】
1.一种化合物电池的抗反射镀膜结构，其特征在于：包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层；所述的第一层抗反射层为硫化锌层，所述的第二层抗反射层为氟化镁层。2.根据权利要求1所述的一种化合物电池的抗反射镀膜结构，其特征在于：所述的化合物镀膜电池采用III-V族化合物材质或II-VI族化合物材质制成。3.根据权利要求1所述的一种化合物电池的抗反射镀膜结构，其特征在于：所述的镀膜介质层由五氧化二钽或二氧化矽或氮化矽材质制成。4.根据权利要求1所述的一种化合物电池的抗反射镀膜结构，其特征在于：所述的第一层抗反射层的厚度为80-1...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋德伟，
申请(专利权)人：深圳市和光立源新能源发展有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44