一种低温釉下裂纹陶瓷制品的生产方法技术

一种低温釉下裂纹的生产方法，首先按传统工艺制作坯体，进行坯体素烧，然后在坯体上施涂中间层；所述中间层配方为硅石粉４８～５５％、长石粉２５～３２％、１１８５釉５～１２％、高岭土８～１５％；施涂方法是先将配好的中间层原料加水制成波美浓度为３８～４２度的混和液，再将坯体置于混和液中浸施３～４钞钟，使涂层厚度达到０．４～０．６毫米，接着在施涂干燥后的中间层上绘彩、装饰，将半成品入窑烤烧，最后在烤烧好的中间层上施涂透明釉，再入窑釉烧后得到成品。本发明专利技术克服了传统裂纹釉工艺不能生产低温陶瓷质餐、茶具、咖啡具的缺陷，生产的陶瓷制品表层釉面完整、不会被外部液体渗透污染，釉下有装饰效果显著的裂纹，铅含量小、可以顺利地进入欧美市场，具有巨大的经济和社会效益。

Method for producing low temperature glaze crack ceramic product

A method for producing low temperature crack under glaze, first according to the traditional production process of the body, body burning, and intermediate coating applied in the body; the intermediate layer formula for silica powder 48 ~ 55%, 25 ~ 32%, 1185 feldspar glaze 5 ~ 12%, 8 ~ 15% kaolin; application the method is the first with a good middle layer made of material with water Baume concentration is 38 ~ 42 degrees of the mixture, and then placed in a mixed solution of body immersed in application of 3 ~ 4 seconds, so that the coating thickness reaches 0.4 ~ 0.6 mm, then in the middle layer of the coating after drying paint, decoration. The semi-finished products into the kiln firing, the application in the middle layer of transparent glaze baking good, kiln glaze to be finished after the reentry. The invention overcomes the traditional crack glaze technology can not produce low-temperature ceramic meal, tea, coffee defects, ceramics glaze surface production will not be complete and external liquid penetrant pollution, crack decoration effect significantly under glaze, lead content is small, can successfully enter the European market, has great economic and social benefits.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种陶瓷制品的生产方法，尤其是裂紋釉的制作工艺
技术介绍
表面有裂紋釉的陶'瓷制品具有强烈的装饰效果和艺术美感，深 受用户欢迎。传统低温裂紋釉的制作方法是在低温制品坯体上涂施 一层膨胀系数较高的低温熔块釉。在烧制过程中，由于坯与釉的膨 胀系数存在差异，使釉面在拉伸应力的作用下产生龟裂而形成裂紋 釉。这种裂紋形成于整个釉面层，也就是说裂紋处于制品表层上。由于烧成温度在10 0 0 ~ 110 0 °c之间的低温陶瓷制品坯体的吸水率 为7~20°/。，因而使裂紋釉制作工艺应用的范围受到很大的限制，不 能生产餐，茶具、咖啡具等食品容器。如果制造出具有裂紋釉的餐、, 茶具、咖啡具，虽然装饰效果好、外观美丽，但是外部液体会通过器具表层裂紋处渗入坯体内造成污染，并且无法清洗。此外，目前 所用的低温裂紋釉内含有较高含量的铅熔块，很难通过美国加州65 检测。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种低温釉下裂紋的生产方法，做到陶瓷 制品既具有裂紋釉的装饰效果，又没有外部液体易渗透污染和铅含 量超标问题。本专利技术的生产步骤如下1、 按传统工艺制作坯体。2、 按传统工艺进行坯体素烧，素烧温度1030 1060。C。3、 在坯体上施涂中间层。所述中间层配方为硅石粉48~55%、长石粉25~32%、 1185釉 5~12°/。、高岭土8~15%;其中1185釉有产家生厂，例如台湾虹美 公司等。施涂方法是先将配好的中间层原料加水制成波美浓度为 38 ~ 42度的混和液，再将坯体置于混和液中浸施3 ~ 4秒钟，使涂 层厚度达到0. 4~0. 6毫米。4、 在施涂好的中间层上绘彩、装饰。5、 将绘彩装饰好的半成品装入全自动隧道窑烤烧，烤烧温度 1030 ~ 1060°C,烤烧时间4. 5~6. 5小时。6、 在烤烧好的中间层上施涂一层与坯体膨胀系数相适应的透 明釉，再入窑釉烧，釉烧温度990 110(TC,釉烧后得到成品。本专利技术的工作原理是中间层的膨胀系数高于坯体，在烤烧过程 中因膨胀系数不同而产生拉应力，使中间层产生龟裂，形成裂紋； 最后再在中间层上施涂一层与坯体膨胀系数相适应的透明釉，釉烧 后中间层的裂紋被透明釉清晰地折射出来。此时陶瓷制品表层釉面 是完整的，没有裂紋,外部液体无法渗入坯体内。本专利技术克服了传统裂紋釉工艺不能生产低温陶瓷质餐、茶具、 咖啡具的缺陷，生产的陶瓷制品表层釉面完整，不会被外部液体渗 透污染，釉下有装饰效果显著的裂紋，铅含量小，可以顺利地进入 欧美市场。在欧美市场对低温陶瓷制品的需求远大于高温陶瓷的形 势下，本专利技术具有巨大的经济和社会效益。 具体实施例方式实施例一生产步骤如上所述，只是中间层配方为硅石粉50%、长石粉30%、 1185釉10°/。、高岭土 10%。 实施例二生产步骤与例一相同，不同的是中间层配方为硅石粉55°/。、长石粉25%、 1185釉12%、高岭土 8%。 实施例三生产步骤与例一相同，不同的是中间层配方为硅石粉48%、长 石粉32%、 1185釉5°/。、高岭土15%。权利要求1、，其特征是生产步骤如下a、按传统工艺制作坯体；b、按传统工艺进行坯体素烧，素烧温度1030～1060℃；C、在坯体上施涂中间层；所述中间层配方为硅石粉48～55％、长石粉25～32％、1185釉5～12％、高岭土8～15％；施涂方法是先将配好的中间层原料加水制成波美浓度为38～42度的混和液，再将坯体置于混和液中浸施3～4秒钟，使涂层厚度牵连到0.4～0.6毫米；d、在施涂好的中间层上绘彩、装饰；e、将绘彩装饰好的半成品装入全自动隧道窑烤烧，烤烧温度1030～1060℃，烤烧时间4.5～6.5小时；f、在烤烧好的中间层上施涂一层与坯体膨胀系数相适应透明釉，再入窑釉烧，釉烧温度990～1100℃，釉烧后得到成品。全文摘要，首先按传统工艺制作坯体，进行坯体素烧，然后在坯体上施涂中间层；所述中间层配方为硅石粉48～55％、长石粉25～32％、1185釉5～12％、高岭土8～15％；施涂方法是先将配好的中间层原料加水制成波美浓度为38～42度的混和液，再将坯体置于混和液中浸施3～4钞钟，使涂层厚度达到0.4～0.6毫米，接着在施涂干燥后的中间层上绘彩、装饰，将半成品入窑烤烧，最后在烤烧好的中间层上施涂透明釉，再入窑釉烧后得到成品。本专利技术克服了传统裂纹釉工艺不能生产低温陶瓷质餐、茶具、咖啡具的缺陷，生产的陶瓷制品表层釉面完整、不会被外部液体渗透污染，釉下有装饰效果显著的裂纹，铅含量小、可以顺利地进入欧美市场，具有巨大的经济和社会效益。文档编号C04B41/86GK101168489SQ20071003586公开日2008年4月30日 申请日期2007年9月30日 优先权日2007年9月30日专利技术者伟 成 申请人:伟 成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低温釉下裂纹的生产方法，其特征是生产步骤如下：ａ、按传统工艺制作坯体；ｂ、按传统工艺进行坯体素烧，素烧温度１０３０～１０６０℃；ｃ、在坯体上施涂中间层；所述中间层配方为硅石粉４８～５５％、长石粉２５～３２ ％、１１８５釉５～１２％、高岭土８～１５％；施涂方法是先将配好的中间层原料加水制成波美浓度为３８～４２度的混和液，再将坯体置于混和液中浸施３～４秒钟，使涂层厚度牵连到０．４～０．６毫米；ｄ、在施涂好的中间层上绘彩、装饰；ｅ、 将绘彩装饰好的半成品装入全自动隧道窑烤烧，烤烧温度１０３０～１０６０℃，烤烧时间４．５～６．５小时；ｆ、在烤烧好的中间层上施涂一层与坯体膨胀系数相适应透明釉，再入窑釉烧，釉烧温度９９０～１１００℃，釉烧后得到成品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：成伟，
申请(专利权)人：成伟，
类型：发明
国别省市：43[中国|湖南]