The invention discloses a method for continuous vacuum cleaning of the substrate, which is characterized in that: a low sputtering efficiency and for pollutants with a chemically active species; at least one linear ion source, the plasma generated from low efficiency mainly includes sputtering species, especially oxygen based gas mixture; and the at least one surface of the substrates to the part of the plasma treatment, the ionization of the species through the chemical reaction at least partially remove pollutants adsorption or located in the surface part of the.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。更具体而言，本专利技术涉及打算在一种薄膜沉积装置内引入、并在真空下操作的清洁方法，例如具有工业规模的装置(基材垂直于移动方向的尺寸大于1.5m，或甚至2m)。本专利技术还涉及由此清洁的、并由具有不同功能的层(阳光控制、低辐射率、电磁屏蔽、加热、亲水、疏水和光催化的层)、以及为改善在可见光中的反射水平(抗反射或镜面层)而引入活性系统(电致变色、电致发光或光致电压的层)的层组成的多个层所涂覆的基材。
技术介绍
通常在用于在基材、特别是玻璃基材上沉积薄膜的装置中，和通常在阴极溅射沉积生产线中，已知的清洁方法为在这种应用特别设计的洗涤机器中采用的基材洗涤、刷擦和漂洗的技术。通过合适的设备(配备抓取元件(吸盘)的运输遥控设备)从存放架移出基材，并将其放置在一排将它们运送到室中的输送机滚筒上，所述的室放置在实际沉积室的上游，在其中的第一室内，基材不定期地进行几个洗涤、刷擦、漂洗和干燥循环，这些循环中的每一个都与其它的不相同，特别是通过特殊选择的刷子的质量、水、表面活性剂和循环时间，所有这些循环都是意欲使基材的表面尽可能地清洁，并尽可能地不含各种来源的污...
【技术保护点】
一种连续真空清洁基材的方法，其特征在于：－选择具有低溅射效率和对于污染物质具有化学活性的物种；－使用至少一个线性离子源，等离子体产生自主要包含具有低溅射效率的物种、特别是基于氧气的气体混合物；和－任选与层相连的所述基材的至少一个表面部分进行所述的等离子体处理，以便所述的离子化物种通过化学反应至少部分地除去可能吸附在或位于所述表面部分上的污染物。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：尼古拉纳多，埃里克马特曼，让保罗鲁索，马库斯劳尔根，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]
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