A method for manufacturing neodymium and ytterbium doped high silica glass laser, which comprises the following steps: preparation of porous glass; preparation of neodymium and ytterbium ion ion mixed solution; the porous glass is immersed in the neodymium and ytterbium ions in the mixed solution of more than 30 minutes; the drying of porous glass in the air 200 to 800 DEG C; in high temperature furnace after 1100 ~ 1200 DEG C solid sintering, eliminating micropore become transparent dense neodymium and ytterbium doped high silica glass laser; Nd doped the prepared Co doped high silica glass with excellent physical properties, pumped by 808nm laser was 950 to 1100nm broadband light, and can realize the xenon lamp pumped laser output.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光玻璃，特别是一种。
技术介绍
激光二极管泵浦的固体激光器的迅速发展为开发新的激光介质材料提供了一个机遇。稀土钕镱离子共掺玻璃有着潜在的应用，有希望成为一种新的激光介质材料。钕镱共掺玻璃在808nm半导体激光器泵浦下，Nd3+离子中产生4I9/2→4F5/2，2H9/2吸收，然后无辐射跃迁到Nd3+离子的4F3/2能级，Nd3+的4F3/2能级能量略高于Yb3+的2F5/2能级能量，并能使其发生能量转移，这样钕镱共掺玻璃就可以产生从950到1100nm的宽带发光，在激光谐振腔中可以产生红外激光。而且钕镱共掺玻璃有可能实现氙灯泵浦，扩宽镱离子的应用，在国防军事等一些特殊领域也具有重要意义。硅酸盐或磷酸盐等多组分玻璃虽然能够实现高稀土离子掺杂，但它们的热膨胀系数大，难以实现高频率激光输出。因此，低膨胀系数并有着良好的光学性能和优良的化学稳定性的石英玻璃被长期期待着作为一种稀土和过渡金属发光离子的基质材料和激光材料。但是，由于稀土离子在石英玻璃高温熔融制备过程中，容易自发形成团簇引起浓度淬灭，稀土离子在石英玻璃中很难有较高的掺杂。尽管在掺稀土石英光纤...
【技术保护点】
一种钕镱共掺高硅氧激光玻璃的制造方法，其特征在于该方法包括下列步骤：①制备多孔玻璃，该多孔玻璃的组成如下：成分ｗｔ％ＳｉＯ↓［２］≥９４．０Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］１．０～３．０Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］１．０～３．０该多孔玻璃的孔径为１．０～１０纳米，小孔占玻璃体积的２５～４０％；②配制钕离子和镱离子混合溶液；将硝酸钕、氯化钕或乙酸钕，和硝酸镱、氯化镱或乙酸镱按比例溶于水溶液、或酸溶液、或乙醇溶液中配成钕离子和镱离子的混合溶液，所配混合溶液中钕离子浓度为０．１～１ｍｏｌ／Ｌ，镱离子浓度为０．１～１ｍｏｌ／Ｌ，镱离子与钕离子在溶液中的摩尔含量之比在０．１～１０范围内；③采用浸泡法，...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：乔延波，陈丹平，邱建荣，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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