量子点发光器件的制作方法及量子点发光器件技术

本发明专利技术提供一种量子点发光器件的制作方法，其包括：提供一基板，在基板上通过溅射沉积制作阳极；通过悬涂，雾化法或喷墨打印工艺，在阳极上制作空穴注入层；通过悬涂，喷墨打印或雾化工艺，将空穴传输层涂布到空穴注入层上；通过悬涂，喷墨打印或雾化工艺，将量子点发光层涂布到空穴传输层；通过溅射沉积或溶液法，将IZO电子传输层沉积到量子点发光层；以及通过热蒸镀工艺，在IZO电子传输层上制作阴极，以得到相应的量子点发光器件。本发明专利技术还提供一种量子点发光器件，本发明专利技术的量子点发光器件的制作方法及量子点发光器件使用铟掺杂比例为0.01％至20％的IZO材料作为电子传输层，提高了量子点发光器件的发光效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及发光器件制作领域，特别是涉及一种量子点发光器件的制作方法及量子点发光器件。
技术介绍
量子点发光器件因具有广色域,制作成本低,发光谱线可调以及光照下稳定性好而受到广泛关注,因此很可能取代OLED成为下一代的核心显示器件。其中量子点发光器件包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层(其同时具备阻挡空穴、传输电子以及注入电子的作用)以及阴极。ZnO材料由于能起到较好的空穴阻挡作用，同时又与阴极具有良好的能级匹配，而常作为电子传输层的材料。但是其电子传输能力较差，从而会对相应的量子点发光器件的发光效率造成影响。故，有必要提供一种量子点发光器件的制作方法及量子点发光器件，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可加强量子点发光器件的发光效率的量子点发光器件的制作方法及量子点发光器件；以解决现有的量子点发光器件的发光效率较低的技术问题。本专利技术实施例提供一种量子点发光器件的制作方法，其包括：提供一基板，在所述基板上通过溅射沉积制作阳极；通过悬涂，雾化法或喷墨打印工艺，在所述阳极上制作空穴注入层；通过悬涂，喷墨打印或雾化工艺，将空穴传本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种量子点发光器件的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板，在所述基板上通过溅射沉积制作阳极；通过悬涂，雾化法或喷墨打印工艺，在所述阳极上制作空穴注入层；通过悬涂，喷墨打印或雾化工艺，将空穴传输层涂布到所述空穴注入层上；通过悬涂，喷墨打印或雾化工艺，将量子点发光层涂布到所述空穴传输层；通过溅射沉积或溶液法，将IZO电子传输层沉积到所述量子点发光层；以及通过热蒸镀工艺，在所述IZO电子传输层上制作阴极，以得到相应的量子点发光器件。

【技术特征摘要】
1.一种量子点发光器件的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板，在所述基板上通过溅射沉积制作阳极；通过悬涂，雾化法或喷墨打印工艺，在所述阳极上制作空穴注入层；通过悬涂，喷墨打印或雾化工艺，将空穴传输层涂布到所述空穴注入层上；通过悬涂，喷墨打印或雾化工艺，将量子点发光层涂布到所述空穴传输层；通过溅射沉积或溶液法，将IZO电子传输层沉积到所述量子点发光层；以及通过热蒸镀工艺，在所述IZO电子传输层上制作阴极，以得到相应的量子点发光器件。2.根据权利要求1所述的量子点发光器件的制作方法，其特征在于，所述IZO电子传输层中的铟掺杂比例为0.01％至20％。3.根据权利要求1所述的量子点发光器件的制作方法，其特征在于，所述阳极的材料为氧化铟锡；所述空穴注入层的材料为3,4-乙烯二氧噻吩单体的聚合物(PEDOT)；所述空穴传输层的材料为三苯基二胺衍生物(TPD)、N,N’-二苯基-N,N’-(1-萘基)-1,1’-联苯-4,4’-二胺(NPD)、聚合物三苯基二胺衍生物(poly-TPD)、4,4'-双(9H-咔唑-9-基)联苯(CBP)或8-羟基喹啉铝(Alq3)；所述量子点发光层的材料为硒化镉；所述阴极的材料为镁银合金。4.根据权利要求3所述的量子点发光器件的制作方法，其特征在于，所述量子点发光层包括发光层以及保护壳层，所述发光层的材料为硒化镉，所述保护壳层的材料为硫化锌。5.根据权利要求4所述的量子点发...

【专利技术属性】
技术研发人员：周志超，夏慧，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44