实时变参量微纳米光场调制与光刻系统技术方案

本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制与光刻系统，该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本实用新型专利技术通过子元件实现对子波面的分立、实时调控，通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出，通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。

Real time variable parameter micro nano field modulation and lithography system

The invention discloses a real time variable parameters of micro nano optical field modulation and lithography system, the optical field modulation system comprises a light source, 4F optical system and optical modulation of optical components, 4F optical system includes a first optical component and the second optical component is arranged sequentially along the optical path, light wave modulated optical component is arranged between the first group the optical component and the second optical component, the optical modulation optical components group through sub wavefront division modulation, optical field distribution pattern is produced and the structure parameters in the back focal plane of the adjustable system. The utility model realizes the real-time control of sub wavefront division, by sub components, real-time output of different micro nano pattern by changing the sub element combination can, through continuous modulation position or sub component between the relative position change of structure parameters can be realized. The system can be flexibly integrated into a variety of photolithography or micro systems, and can realize the real-time writing of variable parameter micro nano structures and the modulation of micro and nano structured light detection.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种实时变参量微纳米光场调制与光刻系统，具体涉及一种多子波面实时、分立、连续调制的变参量光场调制系统，应用于微纳米结构加工、激光共焦显微成像、生物荧光检测和微纳米形貌检测。
技术介绍
干涉光刻或全息光刻是一种高效制备大幅面微纳米结构的技术，干涉光刻制备的微纳米结构，其周期由干涉光束的波长与夹角共同确定(周期大小与干涉波长成正比，与干涉光束夹角的正弦值成反比)；其取向由干涉光束的波矢决定；其条纹位相分布由干涉光束的相对位相差决定。干涉光刻可与其他技术如蒸镀、刻蚀等自由组合，为微纳米结构在光子晶体、生物医学、微电子等领域的应用提供基础。干涉光刻系统分为分振幅(Amplitude-splittingconfigurations)干涉系统和分波面(Wavefront-splittingconfigurations)干涉系统，两种系统均通过分光器件将入射光分为两束或两束以上相干光进行干涉，通常选用半透半反镜、棱镜、光栅、衍射掩膜以及Lloyd’s镜等作为分光器件。无论采用何种分光器件实现多光束干涉，其制备的微纳米结构的结构参数为固定值，不可实时变化。即使采用万向镜(gimbalmi本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实时变参量微纳米光场调制系统，其特征在于，包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，所述4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，所述光波调制光学元器件组设置于所述第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及其结构参数可调的光场分布。

【技术特征摘要】
1.一种实时变参量微纳米光场调制系统，其特征在于，包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，所述4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，所述光波调制光学元器件组设置于所述第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及其结构参数可调的光场分布。2.根据权利要求1所述的实时变参量微纳米光场调制系统，其特征在于：所述结构参数包括周期、取向、相位和占空比。3.根据权利要求1所述的实时变参量微纳米光场调制系统，其特征在于：所述光场分布为干涉图案。4.根据权利要求1所述的实时变参量微纳米光场调制系统，其特征在于：所述第一光学组件和第二光学组件为透镜、透镜组、超颖表面器件或微纳米结构。5.根据权利要求1至4任一所述的实时变参量微纳米光场调制系统，其特征在于：所述光波调制光学元器件组包括多个...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶燕，许峰川，魏国军，许宜申，浦东林，陈林森，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：新型
国别省市：江苏;32