粉末镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种粉末镀膜装置，包括循环连接的四个相同腔室，每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成，反应区设在样品盛放区上方，反应区顶端设有入口，入口下方架设竖直的旋转轴，该旋转轴的轴向上设有粉末流化台，该旋转轴两侧的反应区侧壁设有进气孔和出气孔，出气孔侧壁内设有多孔挡板；样品盛放区上部设有进料口，底部与倾斜设置的传料区的低端连通；传料区内设有螺旋传料杆，高端与下一个腔室的反应区入口连通；传料区最低端设有出料口。本实用新型专利技术中粉末以可控量的方式进入反应气体或清洗气体中；每个腔室中都不会发生完整的反应过程，这样每个腔室都不会被污染，可以缩短80%以上的设备维护时间。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及粉末镀膜
，尤其是一种粉末镀膜装置。
技术介绍
微纳米尺寸的粉末材料常常表现出独特的物理或化学性能，而越来越多的应用领域更需要表面包覆一层纳米厚度薄膜的粉末材料。但传统的固相法、液相法和气相法粉末表面包覆镀膜技术都无法同时解决均匀镀膜的问题。原子层沉积是一种独特的化学气相沉积技术，它是基于相分离且表面饱和自吸附的材料表面反应方法。到目前为止，原子层沉积方法是唯一可以在大的比表面积样品表面均匀镀膜的技术，不过对于粉末这种比表面积过大且易团聚的样品材料，想实现表面均匀镀膜难度依然很大。利用常规的原子层沉积技术在粉末表面包覆纳米薄膜，粉末有静止和流化两种方式。如果粉末静止，因为其比表面积非常大，反应气体和清洗气体很难能进入粉末内部，或者需要花费大量的时间，所以这种情况下单次反应的粉末量非常少，只能做一些科学研究，没法量产。如果期望实现量产的原子层沉积粉末表面包覆镀膜，粉末必须处于流化状态，现有的技术包括气流吹起粉末、搅拌粉末、旋转滚动粉末等，但这些方法都是在单一腔室中实现的，存在两个重要问题：一、原子层沉积反应的四个步骤只能分开进行，即一个步骤完全结束后才能进入下一个步骤本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粉末镀膜装置，其特征在于：包括循环连接的四个相同腔室，每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成，反应区设在样品盛放区上方，反应区顶端设有入口，入口下方架设竖直的旋转轴，该旋转轴的轴向上设有粉末流化台，该旋转轴两侧的反应区侧壁设有进气孔和出气孔，出气孔侧壁内设有多孔挡板；样品盛放区上部设有进料口，底部与倾斜设置的传料区的低端连通；传料区内设有螺旋传料杆，高端与下一个腔室的反应区入口连通；传料区最低端设有出料口。

【技术特征摘要】
1.一种粉末镀膜装置，其特征在于：包括循环连接的四个相同腔室，每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成，反应区设在样品盛放区上方，反应区顶端设有入口，入口下方架设竖直的旋转轴，该旋转轴的轴向上设有粉末流化台，该旋转轴两侧的反应区侧壁设有进气孔和出气孔，出气孔侧壁内设有多孔挡板；样品盛放区上部设有进料口，底部与倾斜设置的传料区的低端连通；传料区内设有螺旋传料杆，高端与下一个腔室的反应区入口连通；传料区最低端设有出料口。2.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：王禄荣，刘浩伟，周国英，
申请(专利权)人：王禄荣，
类型：新型
国别省市：江苏;32