【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种输送机构,尤其是一种实现晶圆在反应腔室内的自动取放的输送机构,属于半导体薄膜沉积应用及制备
技术介绍
为了满足国内外半导体、太阳能、LED、光波导等行业的生产及科研需求,各设备制造商相继研发设计了有单个或多个反应腔室的沉积膜设备。在现有单腔结构形式的半导体沉积膜设备中,在没有晶圆输送机构的情况下,需要手动进行晶圆输送过程,将晶圆向腔室内放置及从腔室内取出。如此,在晶圆薄膜沉积应用中,需要消耗很多时间来进行晶圆的输送。而且,如果是高温的晶圆沉积应用,沉积结束后,反应腔室内部温度很高,晶圆表面温度也很高,需要晶圆在腔室内部冷却一定时间后才能进行晶圆取出工作。总之,整个应用过程中,人员的工作量很大,操作复杂,需要很长时间,高温对操作人员也有危险因素。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足,本专利技术提供了一种晶圆输送机构。为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:一种晶圆输送机构,包括无尘气缸,直线滑轨,传片桨和晶圆存放托盘。传片桨的一端与无尘气缸连接,晶圆存放托盘放置在传片桨的的另一端。传片桨在直线滑轨上滑动。本专利技术的有益效果及特点:通过采用此晶圆输送机构,在整个沉积应用过程中,可以很好的实现晶圆在反应腔室内的自动取放,减轻操作人员的劳动强度,操作便捷,节约时间,大大降低高温对操作人员的危险因素。附图说明图1是本专利技术的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清晰、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本 ...
【技术保护点】
一种晶圆输送机构,其特征在于:包括无尘气缸,直线滑轨,传片桨和晶圆存放托盘;传片桨的一端与无尘气缸连接,晶圆存放托盘放置在传片桨的的另一端,传片桨在直线滑轨上滑动。
【技术特征摘要】
1.一种晶圆输送机构,其特征在于:包括无尘气缸,直线滑轨,传片桨和晶圆存放托盘;传片...
【专利技术属性】
技术研发人员:王燚,刘亿军,
申请(专利权)人:沈阳拓荆科技有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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