一种去除重氧水中细菌和有机物的净化处理方法技术

技术编号:1435101 阅读:295 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种去除重氧水中细菌和有机物的净化处理方法,该方法包括紫外光照射、滤膜过滤、蒸馏除杂等工艺步骤。与现有技术相比,本发明专利技术中利用紫外光进行紫外光氧化方法直接去除重氧水中有机物和细菌,保证重氧水的净化处理工艺中的重氧([18]↑O)丰度,明显降低重氧水中总的有机碳含量,避免采用其它方法造成的重氧([18]↑O)同位素的分馏和稀释作用,保证产品质量,扩大重氧水的用途,工艺简便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种利用紫外光获得有机物和细菌含量低的示踪剂—重氧水(H218O)的净化处理工艺方法。
技术介绍
自然界中的氧元素有三种稳定性同位素,其质量数分别为16,17,18,其在天然水中的丰度分别为99.76%,0.04%,0.2%原子。其中16O是普通氧元素,18O、17O为重氧元素。重氧水(H218O)是重氧(18O)同位素的氢化物,具有与普通水(H216O)相同的物理化学性质,但是重氧(18O)元素可作为示踪元素,使得重氧水(H218O)可作为一种示踪剂而广泛应用于核医学显像、医药、生物医药、环境、化学、生命科学等领域。重氧水(H218O)是正电子发射计算机断层显像(Positron Emission ComputedTomography,PET)技术必需的正电子显像药物18F-FDG的唯一制备原料。重氧水的重氧(18O)丰度、离子浓度、总有机物和细菌含量,将直接影响正电子显像药物18F-FDG的合成产率。重氧水中总有机物含量,通常以总有机碳(TOC)含量来衡量,因此,在重氧水的净化处理工艺中,有效降低离子浓度、总有机物和细菌的含量,保证重氧水中的TOC指标,避免净化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种去除重氧水中细菌和有机物的净化处理方法,其特征在于,该方法包括以下工艺步骤:(1)紫外光照射采用紫外光氧化的方法直接照射去除重氧水中的细菌和有机物;(2)滤膜过滤采用微孔滤膜对经紫外光照射后的重氧水进行过 滤;(3)蒸馏除杂采用蒸馏装置对经过过滤的重氧水进行蒸馏除杂,得到一种纯净的、可避免重氧([18]↑O)丰度降低的重氧水(H↓[2][18]↑O)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:肖斌伍昭化陈代传秦川江姜永悦张丽雅周建耀
申请(专利权)人:上海化工研究院上海联泓同位素科技有限公司
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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