用于电镀污水处理的沉降池制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于电镀污水处理的沉降池，涉及污水处理领域；用于电镀污水处理的沉降池包括沉降池体、隔离管、引流槽和泄流槽；隔离管设置在沉降池体内，隔离管的上端设置有入水口，隔离管的下端设置有出水口；引流槽设置在沉降池体的上方，且引流槽的一端与反应池连接，引流槽的另一端与隔离管的入水口连接；泄流槽设置在沉降池体的外部，并环绕沉降池体，且泄流槽的侧壁上设置有排水口；沉降池体内设置有支撑隔离管和引流槽的支架；本实用新型专利技术通过减少沉降池体中水的流动，以减少对沉降中的微粒的干扰，并利用微粒从上至下沉淀的特点，充分延长表面的水的沉淀时间，进而使污水能够成分沉淀。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及污水处理领域，尤其涉及一种用于电镀污水处理的沉降池。
技术介绍
电镀厂排出的污水和废液中的金属离子，有的以简单的阳离子形态存在，有的以酸根形式存在，有的还属于致癌和致畸变的剧毒物质。电镀污水多有毒，危害性较大，未经处理达标的电镀污水排入河道、池塘或深入地下，不但会危害环境，而且会污染饮用水和工业用水。电镀污水中含有的六价铬会对环境污染且严重危害人类健康，因此必须认真地加以处理。目前，常见用于电镀污水处理的系统，广泛采用的有以下几个不同类型的处理方法：化学沉淀法，又分为中和沉淀法和硫化物沉淀法；溶剂萃取分离法；吸附法；氧化还原处理法，又分为化学还原法、铁氧体法和电解法；离子交换法；膜分离法技术；生物处理技术。但无论采用上述哪一种处理方法，通过沉降池体对污水进行沉淀都是必不可少的环节，现有的沉降池体通常都是直接将污水从反应池引入后，再使污水静置，并加入絮凝剂，待微粒沉降后，再将沉淀后的污水引出，然后进行下一步处理，本方法由于需要将污水静止一段时间，因此处理效率不高；而有时为了提高污水处理效率，在进行沉淀的同时，沉淀池也会引入和排出污水，但由于污水从沉淀池上方流入沉淀池中，会对沉淀池中的水产生冲击，使沉淀池中的水产生较大的波动，因此一些微粒无法沉淀。
技术实现思路
本技术意在提供一种用于电镀污水处理的沉降池，以使沉降池体中的污水能得到充分沉降，减少从沉降池体排出的水中的悬浮微粒。本技术的基础方案用于电镀污水处理的沉降池，包括沉降池体、隔离管、引流槽和泄流槽；所述隔离管设置在沉降池体内，隔离管的上端设置有入水口，入水口距沉降池体底部的距离大于沉降池体侧壁的高度，隔离管的下端设置有出水口；所述引流槽设置在沉降池体的上方，且引流槽的一端与反应池连接，引流槽的另一端与隔离管的入水口连接；所述泄流槽设置在沉降池体的外部，并环绕沉降池体，且泄流槽的侧壁上设置有排水口；所述沉降池体内设置有支撑隔离管和引流槽的支架。本方案的工作原理是：电镀污水首先会在反应池中进行处理，然后再从反应池引出，经引流槽流入隔离管中，并经隔离管的出水口进入沉降池体中，随着电镀污水在沉降池体中不断积多，水将会从从沉降池体中溢出，并流入泄流槽中，从排水口排出；由于电镀污水中的微粒在沉降时向下沉降，因此隔离管的出水口设置在隔离管下端，可以减小水流对上部污水的扰动；沉降后的水从沉降池体的上部溢出，可以增加沉降时间，使沉降效果达到最佳，且水溢出时流速较慢，可以使水面处于静止状态；另外隔离管的入水口距沉降池体底部的距离大于沉降池体侧壁的高度，可以避免污水直接从沉降池体的上部流入沉降池体中，从而使污水的表面处于流动状态。本方案的有益效果在于：本方案主要通过减少沉降池体中水的波动，以减少对沉降中的微粒的干扰，并利用微粒从上至下沉淀的特点，充分延长表面的水的沉淀时间，进而使污水能够成分沉淀。优选方案一，作为对基础方案的进一步优化，所述隔离管的出水口设置在隔离管底部，且隔离管底部与所述沉降池体底部具有间隙；由于沉降池体底部的水压最大，出水口设置在隔离管底部，在较大的水压的作用下，水的流速也将减缓，因此可以进一步减小沉降池体内水的流动。优选方案二，作为对优选方案一的进一步优化，所述隔离管的直径为1～1.5米，所述出水口的直径与隔离管的内径相同；在优选方案二中，由于从引水槽进入隔离管的水的流量一定，因此隔离管出水口处水的流速将被控制在较小的范围，同时隔离管也不会占据沉降池体太多的空间。优选方案三，作为对基础方案的进一步优化，所述沉降池体侧壁的高度一致；沉降池体侧壁的高度一致，则水将从沉降池体的四周溢出，因此可以将沉降池体表面的水的流速控制在最低，进一步提高沉降效果。优选方案四，作为对基础方案的进一步优化，所述沉降池体共设有两个，分别为沉降池体一和沉降池体二，所述引流槽设置有两个分别与隔离管对应的出水端口，且引流槽内设置有与出水端口对应的可拆卸的隔离板。在优选方案四中，沉降池体一和沉降池体二相互分离，当对应于其中一个隔离管的隔离板插入引流槽后，可以将流向隔离管的水阻断，则引流槽中的水仅流向另一隔离管，因此沉降池体一和沉降池体二即可同时工作，又可以分别工作；当沉降池体一和沉降池体二分别工作时，可以对停止工作的沉降池体进行清理；另外隔离墙的高度大于沉降池体侧壁的高度，可以避免沉降池体一和沉降池体二中的水相互流通。附图说明图1为本技术实施例的结构示意图；图2为本技术实施例的俯视图。具体实施方式下面通过具体实施方式对本技术作进一步详细的说明：说明书附图中的附图标记包括：沉降池体一11、沉降池体二12、隔离墙13、隔离管2、入水口21、出水口22、引流槽3、隔离板31、泄流槽4、排水口41、支架5。实施例基本如图1、图2所示：用于电镀污水处理的沉降池包括沉降池体、隔离管2、引流槽3和泄流槽4；沉降池体侧壁的高度一致，隔离管2的直径为1.5米，隔离管2设置在沉降池体内，隔离管2的上端设置有入水口21，入水口21距沉降池体底部的距离大于沉降池体侧壁的高度，隔离管2的底部与沉降池体的底部具有10厘米的间隙，且隔离管2底部设置有出水口22，出水口22的直径等于隔离管2的内径。沉淀池的中部设置有隔离墙13将沉降池体分隔为沉降池体一11和沉降池体二12，且隔离墙13高出沉降池体的侧壁，沉降池体一11和沉降池体二12内均设置有隔离管2。如图1、图2所示，引流槽3设置在沉降池体的上方，引水槽设为槽形结构，以便于清洗，且引流槽3为T形，引流槽3的一端与反应池连接，引流槽3的另外两端与分别与两个隔离管2的入水口21连接，沉降池体内设置有支撑隔离管2和引流槽3的支架5；在引流槽3内设置有两卡槽，且设有可以卡合在卡槽内的隔离板31，隔离板31可以用于阻断引流槽3中的水流，隔离板31分别对应于两个隔离管2。泄流槽4设置在沉降池体的外部，并环绕沉降池体，且泄流槽4的侧壁上设置有排水口41。本实施例的用于电镀污水处理的沉降池的具体工作过程为：电镀污水首先会在反应池中进行处理，然后再从反应池引出，经引流槽3流入隔离管2中，并经隔离管2下部的出水口22进入沉降池体中，随着电镀污水在沉降池体中不断积多，水将会从从沉降池体的四周溢出，并流入泄流槽4中，从排水口41排出；由于污水从沉降池体底部进入沉降池体，并从沉降池体的上部溢出，且由于沉降池体底部的水压较大，因此水流较慢；另外由于沉降池体中污水的进入量和排出量一致，且由于沉降池体的面积远大与隔离筒的面积，因此沉降池体表面水的流速也很慢，即沉降池体中水的流速较小，所以污水的沉淀效果也得到提高。当需要清理沉降池体时，可以用隔离板31阻断流入其中一个隔离筒的水流，使沉降池体一11和沉降二交替工作，则可以对沉降池体进行清理。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于电镀污水处理的沉降池，其特征在于，包括沉降池体、隔离管、引流槽和泄流槽；所述隔离管设置在沉降池体内，隔离管的上端设置有入水口，入水口距沉降池体底部的距离大于沉降池体侧壁的高度，隔离管的下端设置有出水口；所述引流槽设置在沉降池体的上方，且引流槽的一端与反应池连接，引流槽的另一端与隔离管的入水口连接；所述泄流槽设置在沉降池体的外部，并环绕沉降池体，且泄流槽的侧壁上设置有排水口；所述沉降池体内设置有支撑隔离管和引流槽的支架。

【技术特征摘要】
1.一种用于电镀污水处理的沉降池，其特征在于，包括沉降池体、隔离管、引流槽和泄流槽；所述隔离管设置在沉降池体内，隔离管的上端设置有入水口，入水口距沉降池体底部的距离大于沉降池体侧壁的高度，隔离管的下端设置有出水口；所述引流槽设置在沉降池体的上方，且引流槽的一端与反应池连接，引流槽的另一端与隔离管的入水口连接；所述泄流槽设置在沉降池体的外部，并环绕沉降池体，且泄流槽的侧壁上设置有排水口；所述沉降池体内设置有支撑隔离管和引流槽的支架。2.根据权利要求1所述的用于电镀污水处理的沉降池，其特征在于，所述隔离管...

【专利技术属性】
技术研发人员：李启国，罗宇星，柏先强，陈殷，王向东，伍莉，
申请(专利权)人：重庆财信环境资源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50