一种光学级自粘性保护膜及其在电子光学组件的应用制造技术

技术编号:14190688 阅读:89 留言:0更新日期:2016-12-15 03:15
本发明专利技术提供一种光学级自粘性保护膜,其包括基材层和粘着层:所述基材层为重均分子量在3万‑10万的间规聚丙烯和重均分子量在10万‑50万的改性线性聚乙烯的共混物;所述粘着层为改性SBS,其具有稳定的增粘性,加工性好、易于裁切,无溶剂污染。

Optical grade self adhesive protective film and its application in electronic optical assembly

The present invention provides an optical self adhesive protective film, which comprises a substrate layer and adhesive layer: the substrate layer is a weight average molecular weight of 30 thousand 100 thousand syndiotactic polypropylene and molecular weight in the modified blends of linear polyethylene 100 thousand 500 thousand; the adhesive layer is a modified SBS it has stable viscosity, good processability, easy cutting, no solvent pollution.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学级自粘性保护膜,更加地涉及一种在电子光学组件领域的自粘性保护膜,具体地涉及C09D。
技术介绍
液晶显示(LCD)器件处于电子信息产业链的高端,是数字电视、计算机、移动通信终端等数字化整机产品的关键部件。其中,背光模组是LCD显示器产品中一个提供背面光源的光学组件。背光模组其主由要光源(Light source)、导光板(Light guide plate)、扩散膜(diffuser)、棱镜片(Prism sheet)、反射板(reflector)及外框等组件组装而成。其中光学膜片与导光板为最主要之技术和成本所在。保护膜是一种用来保护易损害表面的薄膜,其目的是防止受保护基材表面在运送、装配或加工过程当中受到损害或污染,保护膜会一直贴在受保护基材表面,直到产品送达使用者时才被撕下抛弃。因此对保护膜的要求如下:1、适当而稳定的粘性;2、容易撕下;3、保护膜撕下后无残胶、不留影;4、长时间贴合后,不可有气泡浮起或翘边;5、户外使用时需具有耐候性;6、不可有晶点。同时在类似于背光模组等电子光学组件的生产和运输过程中,会经历不同幅度的运动、不同温度的环境,这就不仅要求保护膜具有一定的硬度和强度,同时要求其粘度具有一定的稳定性,要求其在低温下仍然具有粘度,同时在高温下,其粘度不会增加,具有稳定的增粘性。针对上述问题,本专利技术提供一种光学级自粘性保护膜,其在低温、常温、高温下的粘度可以控制在合适的范围,具有稳定的增粘性,随着产品的放置,粘性增加不大;同时本专利技术提供的自粘性保护膜具有加工性好、易于裁切,没有白雾和残胶,易于剥离;本专利技术提供的自粘性保护膜耐刺穿,绿色,无溶剂污染。
技术实现思路
本专利技术第一方面提供一种光学级自粘性保护膜,其包括基材层和粘着层:所述基材层为重均分子量在3万-10万的间规聚丙烯和重均分子量在10万-50万的改性线性聚乙烯的共混物;所述改性线性聚乙烯为乙烯和乙烯胺的共聚物;所述粘着层为改性SBS;所述改性SBS为苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯、辛烯的共聚物。作为本专利技术的一种实施方式,所述间规聚丙烯和所述改性线性聚乙烯的重量比为1:(0.2-1)。作为本专利技术的一种实施方式,所述改性SBS中,所述苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯和辛烯的摩尔比为(1-3):(5-9):(3-12):(1-5):(0.2-3)。作为本专利技术的一种实施方式,所述改性SBS中,所述苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯和辛烯的摩尔比为(1-2.5):(5-8):(3-10):(1-3):(0.2-2)。作为本专利技术的一种实施当时,所述改性SBS中,所述苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯和辛烯的摩尔比为(1-2):(5-7):(5-10):(1-2.5):(0.2-1.5)。作为本专利技术的一种实施方式,所述苯乙烯酸性衍生物为乙烯基苯甲酸或乙烯基苯磺酸。作为本专利技术的一种实施方式,所述苯乙烯酸性衍生物为乙烯基苯磺酸。作为本专利技术的一种优选方式,所述粘着层中还包含式(1)中的物质:其中,n为5-25。本专利技术的第二方面提供一种电子光学组件膜,其使用上述的自粘性保护膜。本专利技术的第三方面提供上述的光学级自粘性保护膜,其用于电子光学组件。附图说明图1:当n=10时,式(1)的1H-NMR图。具体实施方式参选以下本专利技术的优选实施方法的详述以及包括的实施例可更容易地理解本专利技术的内容。除非另有限定,本文使用的所有技术以及科学术语具有与本专利技术所属领域普通技术人员通常理解的相同的含义。当存在矛盾时,以本说明书中的定义为准。如本文所用术语“由…制备”与“包含”同义。本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形,意在覆盖非排它性的包括。例如,包含所列要素的组合物、步骤、方法、制品或装置不必仅限于那些要素,而是可以包括未明确列出的其它要素或此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。连接词“由…组成”排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中,此短语将使权利要求为封闭式,使其不包含除那些描述的材料以外的材料,但与其相关的常规杂质除外。当短语“由…组成”出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时,其仅限定在该子句中描述的要素;其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。当量、浓度、或者其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时,这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围,而不论该范围是否单独公开了。例如,当公开了范围“1至5”时,所描述的范围应被解释为包括范围“1至4”、“1至3”、“1至2”、“1至2和4至5”、“1至3和5”等。当数值范围在本文中被描述时,除非另外说明,否则该范围意图包括其端值和在该范围内的所有整数和分数。单数形式包括复数讨论对象,除非上下文中另外清楚地指明。“任选的”或者“任意一种”是指其后描述的事项或事件可以发生或不发生,而且该描述包括事件发生的情形和事件不发生的情形。说明书和权利要求书中的近似用语用来修饰数量,表示本专利技术并不限定于该具体数量,还包括与该数量接近的可接受的而不会导致相关基本功能的改变的修正的部分。相应的,用“大约”、“约”等修饰一个数值,意为本专利技术不限于该精确数值。在某些例子中,近似用语可能对应于测量数值的仪器的精度。在本申请说明书和权利要求书中,范围限定可以组合和/或互换,如果没有另外说明这些范围包括其间所含有的所有子范围。此外,本专利技术要素或组分前的不定冠词“一种”和“一个”对要素或组分的数量要求(即出现次数)无限制性。因此“一个”或“一种”应被解读为包括一个或至少一个,并且单数形式的要素或组分也包括复数形式,除非所述数量明显旨指单数形式。“聚合物”意指通过聚合相同或不同类型的单体所制备的聚合化合物。通用术语“聚合物”包含术语“均聚物”、“共聚物”、“三元共聚物”与“共聚体”。“共聚体”意指通过聚合至少两种不同单体制备的聚合物。通用术语“共聚体”包括术语“共聚物”(其一般用以指由两种不同单体制备的聚合物)与术语“三元共聚物”(其一般用以指由三种不同单体制备的聚合物)。其亦包含通过聚合四或更多种单体而制造的聚合物。“共混物”意指两种或两种以上聚合物通过物理的或化学的方法共同混合而形成的聚合物。一种光学级自粘性保护膜,其包括基材层和粘着层:所述基材层为重均分子量在3万-10万的间规聚丙烯和重均分子量在10万-50万的改性线性聚乙烯的共混物;所述改性线性聚乙烯为乙烯和乙烯胺的共聚物;所述粘着层为改性SBS;所述改性SBS为苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯、辛烯的共聚物。光学级自粘性保护膜:保护膜是一种用来保护易损害表面的薄膜,其目的是防止受保护基材表面在运送、装配或加工过程当中受到损害或污染,保护膜会一直贴在受保护基材表面,直到产品送达使用者时才被撕下抛弃。因此对保护膜的要求如下:1、适当而稳定的粘性;2、容易撕下;3、保护膜撕下后无残胶、不留影;4、长时间贴合后,不可有气泡浮起或翘边;5、户外使用时需具有耐候性;6、不可有晶点。依所用粘性材料,可将保护膜分为上胶型保护膜、自粘性保护膜。本专利技术中,所述自粘性保护膜通常为两层或者三层以上的共挤本文档来自技高网
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一种<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/28/201610583887.html" title="一种光学级自粘性保护膜及其在电子光学组件的应用原文来自X技术">光学级自粘性保护膜及其在电子光学组件的应用</a>

【技术保护点】
一种光学级自粘性保护膜,其特征在于,其包括基材层和粘着层:所述基材层为重均分子量在3万‑10万的间规聚丙烯和重均分子量在10万‑50万的改性线性聚乙烯的共混物;所述改性线性聚乙烯为乙烯和乙烯胺的共聚物;所述粘着层为改性SBS;所述改性SBS为苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯、辛烯的共聚物。

【技术特征摘要】
1.一种光学级自粘性保护膜,其特征在于,其包括基材层和粘着层:所述基材层为重均分子量在3万-10万的间规聚丙烯和重均分子量在10万-50万的改性线性聚乙烯的共混物;所述改性线性聚乙烯为乙烯和乙烯胺的共聚物;所述粘着层为改性SBS;所述改性SBS为苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯、辛烯的共聚物。2.权利要求1所述的光学级自粘性保护膜,其特征在于,所述间规聚丙烯和所述改性线性聚乙烯的重量比为1:(0.2-1)。3.权利要求1所述的光学级自粘性保护膜,其特征在于,所述改性SBS中,所述苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯和辛烯的摩尔比为(1-3):(5-9):(3-12):(1-5):(0.2-3)。4.权利要求1所述的光学级自粘性保护膜,其特征在于,所述改性SBS中,所述苯乙烯酸性衍生物、苯乙烯、丁二烯、乙烯和辛烯...

【专利技术属性】
技术研发人员:贡文俊谢敏波巫晓珍贡文娟
申请(专利权)人:辽博科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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