一种触控显示屏的制作方法及触控显示屏技术

本发明专利技术公开了一种触控显示屏的制作方法及触控显示屏。该制作方法先对大片TFT屏进行切割，形成若干小片TFT屏，然后在小片TFT屏的CF基板上低温溅射一层ITO导电层，通过黄光工艺刻蚀出触控功能层，制成触控显示屏，解决了on‑cell触控显示屏只有大片制程的单一制作方法的问题，提高了On‑cell触控功能层制作的灵活性和制作精度，降低了On‑cell的生产成本，解决了On‑cell无法返修的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及触控显示屏领域，尤其涉及一种触控显示屏的制作方法及触控显示屏。
技术介绍
On-cell触控显示屏是指将触控功能集成到LCD的CF基板和偏光片之间的显示屏结构，即在液晶面板上集成触控传感器。On-cell触控显示屏的制作方法主要是大片制程，即先在大片TFT屏上制作触控功能层，再将大片TFT屏切割成若干小片TFT触控显示屏成品。目前，On-cell触控显示屏的大片制程专利主要被国外的面板厂商拥有，国内制作On-cell的厂家较少，而市场对On-cell的需求量却越来越大，这导致国内On-cell的供货量紧张，价格高，生产终端电子产品的公司经营成本较高，市场竞争力低，因此，市场急需要另一种On-cell的制作方法。同时，由于On-cell的大片制程是采用在大片TFT屏上刻蚀触控功能层，生产过程出的小片TFT屏成品若发现不良品，则无法对其进行返修，从而导致On-cell TFT屏的不良率高，这也是On-cell的成本居高不下的原因之一。
技术实现思路
为了解决上述现有技术的不足，本专利技术提供一种触控显示屏的制作方法及触控显示屏。该触控显示屏的制作方法步骤简单，操作灵活，解决了On-cell触控显示屏只有大片制程的单一制作方法的问题，提高了On-cell触控显示屏制作的灵活性，解决On-cell无法返修的问题，降低了On-cell的生产成本。本专利技术所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：一种触控显示屏的制作方法，包括如下步骤：A）提供一大片TFT屏，将所述大片TFT屏切割成预定尺寸规格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能层涂覆一层保护层；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面溅射一层ITO导电层；D）将所述ITO导电层通过黄光工艺刻蚀出触控功能层；E）在所述触控功能层上绑定FPC，制成On-cell触控显示屏。进一步地，所述步骤B）中的保护层为一种耐溅射、耐酸碱的保护胶，厚度为1~3um。进一步地，所述步骤C）中，真空状态下，在CF基板表面上磁控溅射一层ITO导电层，温度：60℃以下，ITO导电层厚度：大于1100 Å。进一步地，所述步骤D）中的黄光工艺包括如下步骤：D1）在黄光环境下涂布光刻胶，将ITO导电层覆盖，光刻胶的厚度：1~2um，均匀性：5%以上，预烘温度：90~110℃；D2）对光刻胶进行曝光，形成光刻电极图案，紫外光波长：365nm，光积量：110~150mj/cm2；D3）对光刻胶显影并硬化，采用正胶显影液，电导率大于38ms/cm，温度：20~35℃，时间：180~300s，硬化温度：100~120℃，时间：4~6min；D4）刻蚀导电层，形成触控电极图案，刻蚀材料：乙二酸，温度 ：40~45℃，时间 ：180~300 s；D5）去除光刻胶，形成触控功能层，使用材料 ：有机脱膜液，温度 ：44~46℃，时间100秒~120秒，最后用纯水漂洗。进一步地，所述CF基板和TFT基板为玻璃。一种按照上述的制作方法制成的触控显示屏，其特征在于，包括相对贴合的TFT基板和CF基板，所述触控显示屏的功能层涂覆有一层保护层，所述CF基板远离TFT基板的一侧表面上刻蚀有触控功能层。进一步地，所述保护层为一种耐溅射、耐酸碱的保护胶，厚度为1~3um。进一步地，所述触控功能层为ITO材料，厚度：大于1100 Å。进一步地，所述CF基板和TFT基板为玻璃。本专利技术具有如下有益效果：1、解决了On-cell触控显示屏只有大片制程的单一制作方法的问题，提高了面板厂商制作On-cell的灵活性，提高了面板厂商的竞争力；2、解决了On-cell长期被国外面板厂商垄断的产业困局，可以增加国内制作On-cell的厂家，提高市场供货量，解决On-cell市场供应量不足、价格高昂的问题，对国内的On-cell产业具有积极的促进作用；3、在小片TFT屏上刻蚀触控功能层，提高了On-cell触控显示屏制作的灵活性，若后期发现产品不良，还可以进行返修，降低了不良率和生产成本。附图说明图1为本专利技术提供的触控显示屏的制作方法的流程框图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术进行详细的说明。实施例一一种触控显示屏的制作方法，包括如下步骤：A）提供一大片TFT屏，将所述大片TFT屏切割成预定尺寸规格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能层涂覆一层保护层；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面溅射一层ITO导电层；D）将所述ITO导电层通过黄光工艺刻蚀出触控功能层；E）在所述触控功能层上绑定FPC，制成On-cell触控显示屏。现有技术中，On-cell触控显示屏一直都是采用大片制程，即先在大片TFT屏上刻蚀触控功能层，然后再将大片TFT屏切割成预定规格的若干小片TFT屏。On-cell的大片制程工艺专利掌握在国外面板厂商手里，国内制作On-cell的厂家较少，而市场对On-cell的需求量却越来越大，这导致国内On-cell的供货量紧张，价格高，生产终端电子产品的公司经营成本高，市场竞争力低，这严重阻碍国内On-cell面板产业的发展。本专利技术提出On-cell触控显示屏的小片制程的技术方案，即先将大片TFT屏切割成预定规格的若干小片TFT屏，再分别在小片TFT屏上刻蚀触控功能层，相比On-cell的大片制程，本技术方案的On-cell制作方法更加灵活，其最为重要的是解决了大片On-cell来料不良无法返修的问题。由于大片制程中触控功能层是直接在大片TFT屏上刻蚀的，若下片TFT屏成品中发现不良品则无法对其进行返修，从而导致on-cell TFT屏的不良率高，生产成本高的问题。小片制程由于一开始就是在小片TFT屏上刻蚀触控功能层，若成品中出现不良品，还能利用小片制程对其进行返修，降低了On-cell TFT屏的不良率以及生产成本。其中，所述步骤B）中的保护层为一种耐溅射、耐酸碱的保护胶，厚度为1~3um。保护胶的作用是为了对小片TFT屏的功能层（即绑定位）在后续的溅射ITO导电层、黄光工艺过程中进行保护。其中，所述步骤C）中，真空状态下，在CF基板表面上磁控溅射一层ITO导电层，温度：60℃以下，ITO导电层厚度：大于1100 Å。其中，所述步骤D）中的黄光工艺包括如下步骤：D1）在黄光环境下涂布光刻胶，将ITO导电层覆盖，光刻胶的厚度：1~2um，均匀性：5%以上，预烘温度：90~110℃；D2）对光刻胶进行曝光，形成光刻电极图案，紫外光波长：365nm，光积量：110~150mj/cm2；D3）对光刻胶显影并硬化，采用正胶显影液，电导率大于38ms/cm，温度：20~35℃，时间：180~300s，硬化温度：100~120℃，时间：4~6min；D4）刻蚀导电层，形成触控电极图案，刻蚀材料：乙二酸，温度 ：40~45℃，时间 ：180~300 s；D5）去除光刻胶，形成触控功能层，使用材料 ：有机脱膜液，温度 ：44~46℃，时间100秒~120秒，最后用纯水漂洗。优选地，所述CF基板和TFT基板为玻璃。实施例二一种按照上述的制作方法制成的触控显示屏，其特征在于，包括相对贴合的TFT基板和CF基板，所述触控显示屏的功能层涂覆有一层保护层，所述CF基板远离TFT基板的一侧表面上刻蚀有触控功能层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控显示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：A）提供一大片TFT屏，将所述大片TFT屏切割成预定尺寸规格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能层涂覆一层保护层；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面低温溅射一层ITO导电层；D）将所述ITO导电层通过黄光工艺刻蚀出触控功能层；E）在所述触控功能层上绑定FPC，制成On‑cell触控显示屏。

【技术特征摘要】
1.一种触控显示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：A）提供一大片TFT屏，将所述大片TFT屏切割成预定尺寸规格的若干小片TFT屏；B）在所述小片TFT屏的功能层涂覆一层保护层；C）在所述小片TFT屏的CF基板表面低温溅射一层ITO导电层；D）将所述ITO导电层通过黄光工艺刻蚀出触控功能层；E）在所述触控功能层上绑定FPC，制成On-cell触控显示屏。2.根据权利要求1所述的触控显示屏的制作方法，其特征在于，所述步骤B）中的保护层为一种耐溅射、耐酸碱的保护胶，厚度为1~3um。3.根据权利要求1所述的触控显示屏的制作方法，其特征在于，所述步骤C）中，真空状态下，在CF基板表面上磁控溅射一层ITO导电层，温度：60℃以下，ITO导电层厚度：大于1100 Å。4.根据权利要求1所述的触控显示屏的制作方法，其特征在于，所述步骤D）中的黄光工艺包括如下步骤：D1）在黄光环境下涂布光刻胶，将ITO导电层覆盖，光刻胶的厚度：1~2um，均匀性：5%以上，预烘温度：90~110℃；D2）对光刻胶进行曝光，形成光刻电极图案，紫外光波长：365nm，光积量：110~150mj/c...

【专利技术属性】
技术研发人员：张家添，吕以森，黄远科，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44