一种信息处理方法及电子设备技术

技术编号:14164985 阅读:63 留言:0更新日期:2016-12-12 12:27
本发明专利技术公开了一种信息处理方法及电子设备,所述方法应用于可形变的电子设备中,所述方法包括:所述电子设备显示屏显示第一图像;检测获得所述电子设备在外力作用下发生的第一形变;基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子
,尤其涉及一种信息处理方法及电子设备
技术介绍
在现有生活中,如手机,ipad等电子设备可以对其存储的或者正在拍摄的图片进行美化,使得图片的视觉效果更佳,例如,当手机对用户进行拍摄时,手机通过设置在手机中的美颜APP对拍摄的用户图像进行美化,达到瘦脸瘦身等效果。但本申请专利技术人在实现本申请实施例中专利技术技术方案的过程中,发现上述技术至少存在如下技术问题:由于,现有技术中主要是通过电子设备中的美颜APP来实现对图片的美化,所以,现有技术中,电子设备存在图像调整方式单一的技术问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种信息处理方法及电子设备,用于解决现有技术中,电子设备存在图像调整方式单一的技术问题,实现电子设备图像调整方式多样化的技术效果。本申请实施例一方面提供一种信息处理方法,应用于可形变的电子设备中,所述方法包括:所述电子设备显示屏显示第一图像;检测获得所述电子设备在外力作用下发生的第一形变;基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整。可选的,所述基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整,具体包括:确定所述第一形变的形变参量;基于所述形变参量,确定对应所述第一图像内容的图像特征参量的调整参量,并按照所述调整参量对所述图像特征参量进行调整。可选的,所述方法还包括:确定所述第一形变的形变方向;所述图像特征参量的调整方向对应于所述第一形变的形变方向。可选的,所述方法还包括:确定所述第一形变的形变程度;所述图像特征参量的调整幅度对应于所述第一形变的形变程度。可选的,所述方法还包括:确定所述电子设备受所述外力发生所述第一形变的受力方向;所述图像特征参量的调整方向对应于所述受力方向。可选的,所述方法还包括:确定所述电子设备受所述外力发生所述第一形变的受力程度;所述图像特征参量的调整幅度对应于所述受力程度。可选的,所述方法还包括::确定所述电子设备所受外力的位置;根据所述所受外力的位置,确定所述第一图像内容的关于位置的图像特征参量,其中,第一图像内容的关于位置的特征参量与电子设备受力的位置具有预定的对应关系。可选的,所述电子设备在所述外力下的受外力点有多个时,所述方法还包括:确定所述受外力点中的每个受外力点对应的外力矢量,共确定出多个外力矢量;将所述多个外力矢量进行合成,获得合成后的外力矢量;根据所述合成后的外力矢量,确定所述图像特征参量的调整参量;根据所述调整参量对所述图像特征参量进行调整。可选的,所述方法还包括:确定所述图像特征参量中的特征元素;基于所述调整参量,调整所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离并保持所述特征元素大小不变,或基于所述调整参量,调整所述特征元素大小并保持所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离不变,或基于所述调整参量,调整所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离以及所述特征元素大小。可选的,所述形变方向表征所述第一形变包括从所述电子设备的第一表面向所述电子设备的第二表面的凹陷形变或为所述电子设备的第二表面向所述电子设备的第一表面的凸起形变,所述方法还包括:根据所述形变程度,确定所述凹陷形变的凹陷程度或确定所述凸起形变的凸起程度;基于所述凹陷程度,对所述图像特征参量进行与所述凹陷程度匹配的第一调整,或者基于所述凸起程度,对所述图像特征参量进行与所述凸起程度匹配的第二调整。可选的,所述基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整之后,所述方法还包括:所述电子设备恢复到发生所述第一形变之前的第一状态;在处于所述第一状态下的所述显示屏上显示图像调整前的所述第一图像或者在处于所述第一状态下的所述显示屏上显示经过图像调整后的第二图像。本申请实施例另一方面提供一种电子设备,包括:显示屏;处理器,与所述显示屏连接,所述处理器用于:控制所述电子设备所述显示屏显示第一图像;检测获得所述电子设备在外力作用下发生的第一形变;基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整。可选的,所述处理器用于:确定所述第一形变的形变参量;基于所述形变参量,确定对应所述第一图像内容的图像特征参量的调整参量,并按照所述调整参量对所述图像特征参量进行调整。可选的,所述处理器用于:确定所述第一形变的形变方向;所述图像特征参量的调整方向对应于所述第一形变的形变方向。可选的,所述处理器用于:确定所述第一形变的形变程度;所述图像特征参量的调整幅度对应于所述第一形变的形变程度。可选的,所述处理器用于:确定所述电子设备受所述外力发生所述第一形变的受力方向;所述图像特征参量的调整方向对应于所述受力方向。可选的,所述处理器用于:确定所述电子设备受所述外力发生所述第一形变的受力程度;所述图像特征参量的调整幅度对应于所述受力程度。可选的,所述处理器还用于:确定所述电子设备所受外力的位置;根据所述所受外力的位置,确定所述第一图像内容的关于位置的图像特征参量,其中,第一图像内容的关于位置的特征参量与电子设备受力的位置具有预定的对应关系。可选的,所述电子设备在所述外力下的受外力点有多个时,所述处理器还用于:确定所述受外力点中的每个受外力点对应的外力矢量,共确定出多个外力矢量;将所述多个外力矢量进行合成,获得合成后的外力矢量;根据所述合成后的外力矢量,确定所述图像特征参量的调整参量;根据所述调整参量对所述图像特征参量进行调整。可选的,所述处理器还用于:确定所述图像特征参量中的特征元素;基于所述调整参量,调整所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离并保持所述特征元素大小不变,或基于所述调整参量,调整所述特征元素大小并保持所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离不变,或基于所述调整参量,调整所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离以及所述特征元素大小。可选的,所述形变方向表征所述第一形变包括从所述电子设备的第一表面向所述电子设备的第二表面的凹陷形变或为所述电子设备的第二表面向所述电子设备的第一表面的凸起形变,所述处理器还用于:根据所述形变程度,确定所述凹陷形变的凹陷程度或确定所述凸起形变的凸起程度;基于所述凹陷程度,对所述图像特征参量进行与所述凹陷程度匹配的第一调整,或者基于所述凸起程度,对所述图像特征参量进行与所述凸起程度匹配的第二调整。可选的,所述处理器还用于:所述电子设备恢复到发生所述第一形变之前的第一状态;在处于所述第一状态下的所述显示屏上显示图像调整前的所述第一图像或者在处于所述第一状态下的所述显示屏上显示经过图像调整后的第二图像。再一方面,本申请实施例还提供一种电子设备,包括:显示单元,用于所述电子设备显示屏显示第一图像;检测获得单元,用于检测获得所述电子设备在外力作用下发生的第一形变;调整单元,用于基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整。本申请实施例中的上述一个或多个技术方案,至少具有如下一种或多种技术效果:由于本申请实施例中的技术方案,采用了所述电子设备显示屏显示第一图像;以及检测获得所述电子设备在外力作用下发生的第一形变;以及基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整的技术方案,也即在本申请中,通过外本文档来自技高网...
一种信息处理方法及电子设备

【技术保护点】
一种信息处理方法,应用于可形变的电子设备中,所述方法包括:所述电子设备显示屏显示第一图像;检测获得所述电子设备在外力作用下发生的第一形变;基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整。

【技术特征摘要】
1.一种信息处理方法,应用于可形变的电子设备中,所述方法包括:所述电子设备显示屏显示第一图像;检测获得所述电子设备在外力作用下发生的第一形变;基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整,具体包括:确定所述第一形变的形变参量;基于所述形变参量,确定对应所述第一图像内容的图像特征参量的调整参量,并按照所述调整参量对所述图像特征参量进行调整。3.如权利要求2所述的方法,还包括:确定所述第一形变的形变方向;所述图像特征参量的调整方向对应于所述第一形变的形变方向。4.如权利要求2所述的方法,还包括:确定所述第一形变的形变程度;所述图像特征参量的调整幅度对应于所述第一形变的形变程度。5.如权利要求2所述的方法,还包括:确定所述电子设备受所述外力发生所述第一形变的受力方向;所述图像特征参量的调整方向对应于所述受力方向。6.如权利要求2所述的方法,还包括:确定所述电子设备受所述外力发生所述第一形变的受力程度;所述图像特征参量的调整幅度对应于所述受力程度。7.如权利要求2所述的方法,还包括:确定所述电子设备所受外力的位置;根据所述所受外力的位置,确定所述第一图像内容的关于位置的图像特征参量,其中,第一图像内容的关于位置的特征参量与电子设备受力的位置具有预定的对应关系。8.如权利要求6所述的方法,所述电子设备在所述外力下的受外力点有多个时,所述方法还包括:确定所述受外力点中的每个受外力点对应的外力矢量,共确定出多个外力矢量;将所述多个外力矢量进行合成,获得合成后的外力矢量;根据所述合成后的外力矢量,确定所述图像特征参量的调整参量;根据所述调整参量对所述图像特征参量进行调整。9.如权利要求2所述的方法,还包括:确定所述图像特征参量中的特征元素;基于所述调整参量,调整所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离并保持所述特征元素大小不变,或基于所述调整参量,调整所述特征元素大小并保持所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离不变,或基于所述调整参量,调整所述特征元素与所述第一图像内容中其他特征元素之间的距离以及所述特征元素大小。10.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述形变方向表征所述第一形变包括从所述电子设备的第一表面向所述电子设备的第二表面的凹陷形变或为所述电子设备的第二表面向所述电子设备的第一表面的凸起形变,所述方法还包括:根据所述形变程度,确定所述凹陷形变的凹陷程度或确定所述凸起形变的凸起程度;基于所述凹陷程度,对所述图像特征参量进行与所述凹陷程度匹配的第一调整,或者基于所述凸起程度,对所述图像特征参量进行与所述凸起程度匹配的第二调整。11.如权利要求1-10中任一项所述的方法,所述基于所述第一形变,对所述第一图像内容进行与所述第一形变对应的调整之后,所述方法还包括:所述电子设备恢复到发生所述第一形变之前的第一状态;在处于所述第一状态下的所述显示屏上显示图像调整前的所述第一图像或者在处于所述第一状态下的所述显示屏上显示经过图像调整后的第二图像。12.一种电子设备,包括:显示屏;处理器,与所述显示屏连接,所述处理器用于:控制所述电子设备所述显示屏显示第一图像;检...

【专利技术属性】
技术研发人员:庞帆
申请(专利权)人:联想北京有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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