光学胶组成物、光学胶膜以及光学积层板制造技术

本发明专利技术提供一种光学胶组成物、光学胶膜以及光学积层板，所述光学胶组成物包括具有选自羟基、胺基及羧酸基中的至少一种基团的丙烯酸系聚合物、具有异氰酸酯基团的交联剂、具有至少一不饱和基团的丙烯酸系寡聚体以及光起始剂，其中以100重量份的丙烯酸系聚合物计，丙烯酸系寡聚体的含量为1重量份至7重量份。从而可制备出在流动填充性及裁切加工性之间取得平衡，且适合应用于光学积层板中的光学胶膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学胶组成物、光学胶膜以及光学积层板，尤其涉及一种光固化型光学胶组成物、由所述光固化型光学胶组成物形成的光学胶膜以及使用所述光学胶膜的光学积层板。
技术介绍
薄膜晶体管显示器市场成长快速的趋势带动了触控面板等技术发展，其中触控面板显示器包括触控面板及液晶面板。目前产业界中，通常使用透明的光学胶(optical adhesive)进行液晶面板中各膜层间的贴合，液晶面板与触控面板间的贴合以及触控面板中各膜层间的贴合。然而，使用现有的光学胶进行积层板的贴合时常面临容易产生气泡而无法紧密贴合的问题。这是因为现有的光学胶无法有效填充积层板上因设计及应用上的需求而在边缘设置装饰膜、框边缘膜等膜层所导致的高低段差。因此，如何制备在流动填充性及裁切加工性之间取得平衡的光学胶，已成为目前本领域技术人员亟待解决的问题之一。
技术实现思路
本专利技术提供一种光学胶组成物，其可制备出在流动填充性及裁切加工性之间得以取得平衡，且适合应用于光学积层板中的光学胶膜。本专利技术的光学胶组成物包括丙烯酸系聚合物、交联剂、丙烯酸系寡聚体以及光起始剂。丙烯酸聚合物具有选自羟基、胺基及羧酸基中的至少一种的基团。交联剂具有异氰酸酯基团。丙烯酸系寡聚体具有至少一不饱和基团。以100重量份的丙烯酸系聚合物计，丙烯酸系寡聚体的含量为1重量份至7重量份。在本专利技术的一实施方式中，上述的丙烯酸系聚合物的平均分子量为20万至100万，丙烯酸系聚合物的分子量分布(Mw/Mn)为4至12。在本专利技术的一实施方式中，相对于上述的丙烯酸系聚合物的重量，羟基的含量为15wt％至40wt％。在本专利技术的一实施方式中，上述的丙烯酸系聚合物包括由式1、式2表示的化合物：其中a为1至50000、b为1至20000、c为1至1000、d为1至1000。在本专利技术的一实施方式中，相对于上述交联剂的重量，异氰酸酯基(-NCO)的含量为10wt％至20wt％，以及每一分子的交联剂中，异氰酸酯基的数目≥3。在本专利技术的一实施方式中，上述的交联剂包括由式3表示的化合物：其中R为芳香族基或脂肪族基，n为1至6。在本专利技术的一实施方式中，上述的丙烯酸系寡聚体包括具有单官能压克力基团的聚氨基甲酸酯、具有多官能压克力基团的聚氨基甲酸酯或其组合，其中丙烯酸系寡聚体的平均分子量为1000至10000。在本专利技术的一实施方式中，上述的丙烯酸系寡聚体包括由式4表示的化合物：其中X为芳香族基或脂肪族基，1≤m≤6。在本专利技术的一实施方式中，以100重量份的上述的丙烯酸系聚合物计，
交联剂的含量为0.05重量份至0.07重量份、光起始剂的含量为0.5重量份至8重量份。本专利技术的光学胶膜是通过对前述的光学胶组成物进行固化处理而制得。本专利技术的光学积层板包括第一基材、第二基材以及前述的光学胶膜。光学胶膜配置在第一基材与第二基材之间。基于上述，本专利技术所提出的光学胶组成物包括丙烯酸系聚合物、交联剂、丙烯酸系寡聚体以及光起始剂，且丙烯酸系寡聚体具有特定含量，藉此使得进行固化后所得的光学胶膜能够在流动填充性及裁切加工性之间取得平衡且具有良好光穿透度。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施方式作详细说明如下。具体实施方式在本文中，由“一数值至另一数值”表示的范围，是一种避免在说明书中一一列举该范围中的所有数值的概要性表示方式。因此，某一特定数值范围的记载，涵盖该数值范围内的任意数值以及由该数值范围内的任意数值界定出的较小数值范围，如同在说明书中明文写出该任意数值和该较小数值范围一样。在本文中，有时以键线式(skeleton formula)表示聚合物或基团的结构。这种表示法可以省略碳原子、氢原子以及碳氢键。当然，结构式中有明确示出原子或原子基团的，则以所示的为准。为了制备出在流动填充性及裁切加工性之间取得平衡的，且适合应用于光学积层板中的光学胶膜，本专利技术提出一种光学胶组成物，其可达到上述优点。以下，特举实施方式作为本专利技术确实能够据以实施的范例。本专利技术一实施方式提供一种光学胶组成物，其包括丙烯酸系聚合物、交联剂、丙烯酸系寡聚体以及光起始剂。以下将对上述各种组分进行详细说明。丙烯酸聚合物具有选自羟基、胺基及羧酸基中的至少一种的基团。详细而言，丙烯酸系聚合物的平均分子量为20万至100万，较佳为40万至80万，丙烯酸系聚合物的分子量分布(Mw/Mn)为4至12，较佳为4.5至11.5。另外，在丙烯酸聚合物具有羟基的情况下，相对于丙烯酸系聚合物的重量，羟
基的含量为15wt％至40wt％，较佳为20wt％至35wt％。另外，丙烯酸系聚合物包括以丙烯酸系单体(acrylic-based monomer)作为聚合单元的丙烯酸系聚合物。在本实施方式中，丙烯酸系单体包括但不限于：丙烯酸(acrylic acid)、丙烯酸甲酯(methyl acrylate)、甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate)、丙烯酸乙酯(ethyl acrylate)、甲基丙烯酸乙酯(ethyl methacrylate)、丙烯酸氨基乙酯(aminoethyl acrylate)、丙烯酸羟基乙酯(hydroxyethyl acrylate)等。具体而言，在一实施方式中，丙烯酸系聚合物例如包括由式1、式2表示的化合物：其中a为1至50000、b为1至20000、c为1至1000、d为1至1000。在本实施方式中，交联剂具有异氰酸酯基团，且相对于交联剂的重量，异氰酸酯基(-NCO)的含量为10wt％至20wt％，较佳为8wt％至15wt％。另外，在每一分子的交联剂中，异氰酸酯基的数目≥3。具体而言，在一实施方式中，交联剂例如包括由式3表示的化合物：其中R为芳香族基或脂肪族基，n为1至6。另外，在光学胶组成物中，交联剂的含量可视所用的丙烯酸系聚合物、及丙烯酸系寡聚体的种类与光学胶组成物的应用而调整。在一实施方式中，以100重量份的丙烯酸系聚合物计，交联剂的含量为0.05重量份至0.07重量份，较佳为0.07重量份。当以100重量份的丙烯酸系聚合物计，交联剂的含量过低时，则由光学胶组成物制得的光学胶膜(相关描述将于下文中说明)容易具有耐候性及加工性不佳的问题；而当交联剂的含量过高时，则由光学
胶组成物制得的光学胶膜可能具有不佳的填补特性。丙烯酸系寡聚体为经由紫外光照射后会进行聚合反应的光固化树脂。在本实施方式中，丙烯酸系寡聚体具有至少一不饱和基团。详细而言，丙烯酸系寡聚体包括具有单官能压克力基团的聚氨基甲酸酯、具有多官能压克力基团的聚氨基甲酸酯或其组合，且丙烯酸系寡聚体的平均分子量≥1000，较佳为1000至10000。具体而言，在一实施方式中，丙烯酸系寡聚体例如包括由式4表示的化合物：其中X为芳香族基或脂肪族基，1≤m≤6。另外，作为丙烯酸系寡聚体也可使用市售产品，例如CN962、CN929、CN983、CN972(日本沙多玛株式会社(SATOMER Co.,Ltd.)制造)或UN-350、UN-3320HA、UN-1255(日本根上工业公司制造)。另外，在本实施方式中，光学胶组成物可仅包括单一种类的丙烯酸系寡聚体，或是可包括两种以上的丙烯酸系寡聚体。详细而言，当组合使用两种以上的丙烯酸系寡聚体时，该些本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学胶组成物，其特征在于，包括：丙烯酸系聚合物，所述丙烯酸聚合物具有选自羟基、胺基及羧酸基中的至少一种的基团；交联剂，所述交联剂具有异氰酸酯基团；丙烯酸系寡聚体，所述丙烯酸系寡聚体具有至少一不饱和基团；以及光起始剂，其中以100重量份的所述丙烯酸系聚合物计，所述丙烯酸系寡聚体的含量为1重量份至7重量份。

【技术特征摘要】
2015.04.10 TW 1041115991.一种光学胶组成物，其特征在于，包括：丙烯酸系聚合物，所述丙烯酸聚合物具有选自羟基、胺基及羧酸基中的至少一种的基团；交联剂，所述交联剂具有异氰酸酯基团；丙烯酸系寡聚体，所述丙烯酸系寡聚体具有至少一不饱和基团；以及光起始剂，其中以100重量份的所述丙烯酸系聚合物计，所述丙烯酸系寡聚体的含量为1重量份至7重量份。2.根据权利要求1所述的光学胶组成物，其特征在于，所述丙烯酸系聚合物的平均分子量为20万至100万，所述丙烯酸系聚合物的分子量分布(Mw/Mn)为4至12。3.根据权利要求1所述的光学胶组成物，其特征在于，相对于所述丙烯酸系聚合物的重量，羟基的含量为15wt％至40wt％。4.根据权利要求1所述的光学胶组成物，其特征在于，所述丙烯酸系聚合物包括由式1、式2表示的化合物：其中a为1至50000、b为1至20000、c为1至1000、d为1至1000。5.根据权利要求1所述的光学胶组成物，其特征在于，相对于所述交联剂的重量，异氰酸酯基(-NCO...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐国腾，吕志聪，萧泽宏，林亿昌，陈嘉峰，锺利正，
申请(专利权)人：博威电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71