触控基板消影检测方法及制造方法、触控基板及触控装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种触控基板消影检测方法、触控基板制造方法、触控基板以及触控装置，该触控基板消影检测方法包括：使用光学测试设备测试位于触控基板的触控区域之外的区域中的具有不同结构的测试块的光反射率的差异；以及根据所述差异判定所述触控基板的消影效果；其中，所述具有不同结构的测试块中的每个测试块包括与触控区域中的不同结构分别相同的结构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施例涉及触控
，具体涉及一种触控基板消影检测方法、触控基板制造方法、触控基板以及触控装置。
技术介绍
目前，电容触控屏已成为很普遍的电子产品，OGS(One Glass Solution，单玻璃触控)成为其中一种主流技术方案。OGS是指在触控屏的保护玻璃上直接形成ITO(indium tin oxide，氧化铟锡)导电膜及传感器的一种技术。在OGS触控屏的可视区域有由ITO形成的通道图案，ITO通道图案的可见程度(在专业术语中称为消影等级)关乎着用户的使用感受，因此需要在触控屏的制造过程中对其消影等级进行检测。目前对于OGS触控屏的消影等级的检测方法为：生产至小片产品时，采用目视检测判级。此种检测方法有两个弊端：1)不能对制程中的消影不良产品进行及时拦截和改善，从而造成不必要的生产损失；2)目视检测判级误差较大，不能准确地进行消影等级判定。在诸如On-cell等其他触控屏技术中也存在着类似的问题。可见，本领域中需要一种能够克服现有技术的上述缺点的改进的消影检测技术方案。
技术实现思路
在一个方面，提供了一种触控基板消影检测方法，包括：使用光学测试设备测试位于触控基板的触控区域之外的区域中的具有不同结构的测试块的光反射率的差异；以及根据所述差异判定所述触控基板的消影效果；其中，所述具有不同结构的测试块中的每个测试块包括与触控区域中的不同结构分别相同的结构。在另一个方面，提供了一种触控基板制造方法，包括：在触控基板的制造过程中，在触控基板的触控区域之外的区域中形成具有不同结构的测试块，其中，所述具有不同结构的测试块中的每个测试块包括与触控区域中的不同结构分别相同的结构。在又一个方面，提供了一种触控基板，包括：位于其触控区域之外的区域中的具有不同结构的测试块，其中，所述具有不同结构的测试块中的每个测试块包括与触控区域中的不同结构分别相同的结构。在再一个方面，提供了一种触控装置，其包括根据本专利技术的任何一个实施例所述的触控基板。根据本专利技术的实施例的技术方案能够在触控基板的制造过程中及时地对触控基板的消影等级进行检测，及时地对消影不良产品进行拦截，避免了不必要的生产损失；此外，由于可以采用光学测试设备进行消影检测，因而能够更为准确地进行消影等级判定；再者，在一些实施例中，由于所述至少两个测试块可以在对应的叠层结构形成的同时形成，不需要增加额外的工艺步骤，因此是一种简单和低成本的技术方案。附图说明图1示出了单个OGS触控基板的内部触控可视区域；图2示出了根据本专利技术的实施例的一种触控基板消影检测方法；图3示意性地示出了触控基板的制造过程；图4示出了根据本专利技术的第一类实施例的至少两个测试块的设置；以及图5示出了根据本专利技术的第二类实施例的至少两个测试块的设置。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的解决方案，下面结合附图对本专利技术的具体实施例所提供的触控基板消影检测方法、触控基板制造方法、触控基板以及触控装置作进一步详细描述。显然，所描述和图示的实施例及其中的各种具体特征仅是对本专利技术的示例性说明，而不是对本专利技术的限制。基于所述示例性说明，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例及其具体特征，都属于本专利技术保护的范围。现参照图1，其示出了单个OGS触控基板的内部触控可视区域。如图1中所示，所述内部触控可视区域包括如下三种不同的叠层结构区域：区域1、区域2、以及区域3。其中，区域1可包括由导电的ITO材料构成的ITO导通块，其用作触控电极；区域2可包括ITO蚀刻线，其将相邻的ITO导通块分割开；区域3为桥点区域，其通过金属或ITO材料的桥状结构将相对的两个ITO导通块相连接。区域1、2、3对光的反射率存在差异，如果这三个区域的反射率差异大，则消影等级差。由于ITO蚀刻线很窄，通常只有30-300μm，ITO桥点一般也只有100μm，因此很难通过光学测试设备来测试消影等级，目前大多通过人眼判断。现参照图2，其示出了根据本专利技术的实施例的一种触控基板消影检测方法。如图2中所示，该方法包括以下步骤：在步骤201，使用光学测试设备测试位于触控基板的触控区域之外的区域中的至少两个测试块的光反射率的差异；在步骤202，根据所测试的所述至少两个测试块的光反射率的差异，判定所述触控基板的消影效果，其中，所述具有不同结构的测试块中的每个测试块包括与触控区域中的不同结构分别相同的结构。也就是说，在触控基板的制造过程中，在触控基板的触控区域之外的区域中形成专门用于进行光学测试的至少两个测试块，所述至少两个测试块分别具有与对应的叠层结构区域相同的叠层结构(这里，相同的叠层结构是指测试块具有与叠层结构区域的叠层结构完全相同或部分相同的叠层结构，也可称为相同或相似的叠层结构)，从而分别具有与对应的叠层结构区域相同或相似的光反射率，并且具有适合于光学测试的大小，这样，就可以通过使用光学测试设备测试所述至少两个测试块的光反射率的差异来估计触控基板的触控区域中的不同叠层结构区域之间的光反射率的差异，克服了由于触控基板的触控区域中的不同单个叠层结构区域尺寸过小而不适合直接使用光学测试设备测试其光反射率差异的缺点，从而可以准确地判定消影等级。此外，由于所述至少两个测试块分别具有与对应的叠层结构区域相同或相似的叠层结构，因此可以在触控基板的制造过程中，在形成所述叠层结构区域的同时形成所述至少两个测试块(例如，通过简单地添加用于形成所述至少两个测试块的掩膜图案)，因而可以方便和低成本地形成所述至少两个测试块，且可以在制造过程中及时地判定产品的消影等级。在一些实施例中，所述触控基板可以为OGS面板。在其他实施例中，所述触控基板也可以为其他类型的触控基板，例如On-cell触控基板等。图3示意性地示出了触控基板的制造过程。如图3中所示，该制造过程包括如下步骤：在步骤301，大板进料；此后，可对大板执行相关的工艺步骤在步骤302，在产品可视区形成第一道膜层；此后，可在产品可视区顺序形成其他膜层。在步骤303，在产品可视区形成最后一道膜层；在步骤304，在产品可视区形成最后一道膜层之后，执行本专利技术的消影判定；此后，可对形成有膜层的大板执行本领域中所知的相关工艺步骤。在步骤305，大板制程结束；在步骤306，对大板进行切割；此后，可对切割形成的小片执行本领域中所知的相关工艺步骤。在步骤307，小片制程结束。也就是说，该触控基板的制造过程可分为两个阶段，分别称为大板制程和小片制程。在大板制程中，在具有适当尺寸的大块裸玻璃上依次形成若干道膜层及其结构，例如依次形成黑矩阵(BM)层、ITO层、绝缘层、桥点、保护层等，从而形成上述区域1、区域2和区域3。如本领域的技术人员可知的，每道膜层及其结构的形成通常包括如下步骤：在基板上镀膜，涂覆光阻剂，使用掩膜图案进行曝光，使用显影液显影，使用蚀刻液进行蚀刻，使用去光阻液去除剩余光阻剂等。在小片制程中，将大板切割为小片(可称为单元面板)，磨边，并进行绑定，从而形成单片触控基板。本专利技术的触控基板消影检测方法可以具有两类实施例。在第一类实施例中，在单元面板的周边区域形成所述至少两个测试块。而在第二类实施例中，在所述大板的空白区域形成所述至少两个测试块。应注意的是，在任何一个实施例中，所述至少本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控基板消影检测方法，包括：使用光学测试设备测试位于触控基板的触控区域之外的区域中的具有不同结构的测试块的光反射率的差异；以及根据所述差异判定所述触控基板的消影效果；其中，所述具有不同结构的测试块中的每个测试块包括与触控区域中的不同结构分别相同的结构。

【技术特征摘要】
1.一种触控基板消影检测方法，包括：使用光学测试设备测试位于触控基板的触控区域之外的区域中的具有不同结构的测试块的光反射率的差异；以及根据所述差异判定所述触控基板的消影效果；其中，所述具有不同结构的测试块中的每个测试块包括与触控区域中的不同结构分别相同的结构。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述测试块包括对应于所述触控区域中的导通块的测试块，以及对应于所述触控区域中的蚀刻线的测试块。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述测试块还包括对应于所述触控区域中的桥点区域的测试块。4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述测试块为矩形或正方形，且其最短边长大于或等于1毫米。5.根据权利要求1所述的方法，还包括：通过位于触控基板的触控区域之外的区域中的定位标志，所述光学测试设备定位所述测试块。6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述测试块是在所述触控基板的制造过程中在形成所述触控区域中的结构区域的同时形成的。7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述测试块是通过在用于形成所述触控区域中的结构区域的相应膜层的掩膜上增加用于形成所述至少两个测试块的图案形成的。8.根据权利要求1至7中任何一个所述的方法，其中，所述触控基板的制造过程包括大板制程，其中在大板上形成至少两个单元面板，以及小片制程，其中将所述大板切割成为至少两个单元面板，所述测试块在所述大板制程中形成在大板的空白区域。9.根据权利要求1至7中任何一个所述的方法，其中，所述触控基板的制造过程包括大板制程，其中在大板上形成多个单元面板，以及小片制程，其中将所述大板切割成为多个单元面板，所述测试块在所述大板...

【专利技术属性】
技术研发人员：范文金，张雷，郭总杰，刘洋，吕奎，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34