把持单元及双极处理器具制造技术

把持单元包括至少表面整体由绝缘材料形成的支承部和以能够以摆动轴线为中心相对于所述支承部摆动的方式设置的摆动部。所述摆动部包括：钳构件侧相对面，其与处理部相对；以及钳构件侧电极部，该钳构件侧电极部通过被传递有高频能量，从而作为电极发挥作用。所述支承部从顶端方向、所述钳构件的打开方向以及两个宽度方向覆盖所述摆动部，所述摆动部仅在所述钳构件侧相对面暴露于外部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及能够相对于探头的处理部开闭的把持单元及对被把持在探头的处理部与把持单元之间的处理对象进行处理的双极处理器具。
技术介绍
在专利文献1中公开了一种双极处理器具，其包括在顶端部设有处理部的探头和作为能够相对于处理部开闭的把持单元的钳构件，该双极处理器具通过使用高频电流(高频能量)来进行处理。在该双极处理器具中，经由探头向处理部传递(供给)高频能量，由此，处理部作为探头侧电极部(第1电极部)发挥作用。另外，在钳构件(把持单元)上设有支承部和能够相对于支承部摆动的摆动部。摆动部以能够借助作为连结构件的弹簧以与钳构件的宽度方向平行的摆动轴线为中心摆动的方式连结于支承部。经由设于护套的导电部和钳构件的支承部向摆动部传递(供给)高频能量，由此，摆动部作为钳构件侧电极部(第2电极部)发挥作用，其中，上述护套贯穿有探头。在摆动部上设有与处理部相对的钳构件侧相对面，当在探头的处理部与钳构件之间把持着生物体组织等处理对象时，钳构件利用摆动部的钳构件侧相对面与处理对象抵接。由于设有与处理对象抵接的钳构件侧相对面的摆动部能够以摆动轴线为中心进行摆动，因此即使在钳构件侧相对面的顶端部(钳构件的顶端部)抵接于处理对象的情况下，钳构件与处理部之间的对处理对象的把持力也与钳构件侧相对面的基端部(钳构件的基端部)抵接于处理对象时大致相同。即，即使钳构件侧相对面的与处理对象抵接的位置在与钳构件的延伸设置轴线平行的方向(顶端方向和基端方向)上发生了变化的情况下，钳构件与处理部之间的把持力也保持大致均匀。现有技术文献专利文献专利文献1：美国专利申请公开第2011/0278343号说明书
技术实现思路
专利技术要解决的问题在上述专利文献1中，在作为把持单元的钳构件的暴露面的朝向宽度方向的部位，支承部和摆动部暴露于外部。因此，在钳构件的暴露面(外表面)的朝向宽度方向的部位，在支承部与摆动部之间形成有间隙。由此，在处理过程中使探头的处理部和钳构件移动时，生物体组织易于卡挂或堵塞于支承部与摆动部之间的间隙。由于生物体组织卡挂或堵塞于支承部与摆动部之间的间隙，因此处理过程中的处理性能降低。另外，经由支承部向成为钳构件侧电极部的摆动部供给高频能量。因此，在支承部的暴露面(外表面)在除处理对象以外的部位与生物体组织等接触时，从支承部的暴露面放出高频电流。在该情况下，流向被把持在钳构件的摆动部与处理部之间的处理对象的高频电流的电流密度变低，利用高频能量进行处理的处理性能降低。通过对支承部的暴露面进行绝缘涂覆等绝缘表面处理，从而防止高频电流自支承部的放电。但是，在钳构件中，需要从支承部向摆动部传递高频能量。因此，支承部的表面的与摆动部相对的部位(支承部的内表面)需要具有导电性，不能进行绝缘表面处理。即，在支承部中，仅对表面(暴露面和内表面)的一部分进行绝缘表面处理。因此，在制造钳构件时，支承部的表面处理复杂化。由此，钳构件(把持单元)的制造复杂化，钳构件的制造成本升高。本专利技术是着眼于上述问题而做成的，其目的在于提供一种把持单元，其能确保在使用高频电流对被把持在该把持单元与处理部之间的处理对象进行处理的处理过程中的处理性能，且能够容易地进行制造。而且，提供一种具有该把持单元的双极处理器具。用于解决问题的方案为了达到上述目的，本专利技术的一技术方案是一种把持单元，其从基端方向向顶端方向沿着延伸设置轴线延伸设置，能够相对于设于探头的顶端部的处理部开闭，其中，该把持单元包括：支承部，其至少表面整体由绝缘材料形成，从而防止经由所述表面传递高频能量；摆动部，其包括：钳构件侧相对面，其与所述处理部相对；以及钳构件侧电极部，其通过被传递有所述高频能量，从而作为与形成于所述处理部的探头侧电极部不同的电极发挥作用，该摆动部以能够以摆动轴线为中心相对于所述支承部摆动的方式进行设置，所述钳构件侧相对面具有由所述钳构件侧电极部形成的钳构件侧电极面；以及连结构件，在将与所述延伸设置轴线垂直并且与所述把持单元的开闭方向垂直的两个方向设为宽度方向的情况下，该连结构件以所述支承部从所述顶端方向、所述把持单元的打开方向以及两个所述宽度方向覆盖所述摆动部，并且所述摆动部仅在所述钳构件侧相对面暴露于外部的状态，将所述摆动部以能够摆动的方式连结于所述支承部。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供一种把持单元，其能确保在使用高频电流对被把持在该把持单元与处理部之间的处理对象进行处理的处理过程中的处理性能，且能够容易地进行制造。而且，能够提供一种具有该把持单元的双极处理器具。附图说明图1是表示第1实施方式的双极处理装置的结构的概略图。图2是概略表示第1实施方式的振子单元的结构的剖视图。图3是概略表示第1实施方式的保持单元的内部结构的剖视图。图4是概略表示第1实施方式的护套的顶端部、探头的顶端部以及钳构件的结构的立体图。图5是以与宽度方向垂直的截面概略表示第1实施方式的护套的顶端部、探头的顶端部以及钳构件的结构的剖视图。图6是以分解成单独构件的状态概略表示第1实施方式的护套的顶端部和钳构件的结构的立体图。图7是以与长度轴线垂直的截面概略表示第1实施方式的处理部及钳构件的结构的剖视图。图8是以与延伸设置轴线垂直的截面概略表示第1实施方式的钳构件的结构的剖视图。图9是以与宽度方向垂直的截面概略表示第2实施方式的护套的顶端部、探头的顶端部以及钳构件的结构的剖视图。图10是以与钳构件的开闭方向垂直的截面概略表示第2实施方式的护套的顶端部和钳构件的结构的剖视图。图11是以分解成单独构件的状态概略表示第2实施方式的钳构件的结构的立体图。图12是以与延伸设置轴线垂直的截面概略表示第2实施方式的钳构件的结构的剖视图。图13是概略表示第1变形例的护套的顶端部、探头的顶端部以及钳构件的结构的立体图。图14是概略表示第2变形例的护套的顶端部、探头的顶端部以及钳构件的结构的立体图。图15是以与长度轴线垂直的截面概略表示第3变形例的处理部和钳构件的结构的剖视图。图16是以与延伸设置轴线垂直的截面概略表示第4变形例的钳构件的结构的剖视图。图17是概略表示第5变形例的钳构件的结构的立体图。图18是以罩构件自支承部卸下的状态概略表示第5变形例的钳构件的结构的立体图。图19是以与延伸设置轴线垂直的截面概略表示第5变形例的钳构件的结构的剖视图。具体实施方式(第1实施方式)参照图1～图8说明本专利技术的第1实施方式。图1是表示本实施方式的双极处理装置(高频处理装置)1的结构的图。如图1所示，双极处理装置1具有双极处理器具(手持件)2。双极处理器具2具有长度轴线C。在此，与长度轴线C平行的方向的一方是顶端方向(图1的箭头C1的方向)，与顶端方向相反的方向是基端方向(图1的箭头C2的方向)。双极处理器具2是使用超声波振动来对生物体组织等处理对象进行处理的超声波处理器具。另外，双极处理器具2是使用高频能量(高频电流)对处理对象进行处理的高频处理器具。双极处理器具2具有保持单元3。保持单元3包括沿着长度轴线C延伸设置的筒状壳体部5、与筒状壳体部5形成为一体的固定手柄6以及以能够相对于筒状壳体部5转动的方式安装于筒状壳体部5的可动手柄7。随着可动手柄7以安装于筒状壳体部5的安装位置为中心进行转动，可动手柄7相对于固定手柄6进行打开动作或闭合动作。另外本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种把持单元，其从基端方向向顶端方向沿着延伸设置轴线延伸设置，能够相对于设于探头的顶端部的处理部开闭，其中，该把持单元包括：支承部，其至少表面整体由绝缘材料形成，从而防止经由所述表面传递高频能量；摆动部，其包括：钳构件侧相对面，其与所述处理部相对；以及钳构件侧电极部，其通过被传递有所述高频能量，从而作为与形成于所述处理部的探头侧电极部不同的电极发挥作用，该摆动部以能够以摆动轴线为中心相对于所述支承部摆动的方式进行设置，所述钳构件侧相对面具有由所述钳构件侧电极部形成的钳构件侧电极面；以及连结构件，在将与所述延伸设置轴线垂直并且与所述把持单元的开闭方向垂直的两个方向设为宽度方向的情况下，该连结构件以所述支承部从所述顶端方向、所述把持单元的打开方向以及两个所述宽度方向覆盖所述摆动部，并且所述摆动部仅在所述钳构件侧相对面暴露于外部的状态，将所述摆动部以能够摆动的方式连结于所述支承部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.14 JP 2014-0517631.一种把持单元，其从基端方向向顶端方向沿着延伸设置轴线延伸设置，能够相对于设于探头的顶端部的处理部开闭，其中，该把持单元包括：支承部，其至少表面整体由绝缘材料形成，从而防止经由所述表面传递高频能量；摆动部，其包括：钳构件侧相对面，其与所述处理部相对；以及钳构件侧电极部，其通过被传递有所述高频能量，从而作为与形成于所述处理部的探头侧电极部不同的电极发挥作用，该摆动部以能够以摆动轴线为中心相对于所述支承部摆动的方式进行设置，所述钳构件侧相对面具有由所述钳构件侧电极部形成的钳构件侧电极面；以及连结构件，在将与所述延伸设置轴线垂直并且与所述把持单元的开闭方向垂直的两个方向设为宽度方向的情况下，该连结构件以所述支承部从所述顶端方向、所述把持单元的打开方向以及两个所述宽度方向覆盖所述摆动部，并且所述摆动部仅在所述钳构件侧相对面暴露于外部的状态，将所述摆动部以能够摆动的方式连结于所述支承部。2.根据权利要求1所述的把持单元，其中，所述支承部的内部由导电材料形成，从所述支承部的所述内部经由所述连结构件向所述钳构件侧电极部传递所述高频能量。3.一种双极处理器具，其中，该双极处理器具包括：权利要求2的把持单元；探头，其具有所述处理部，所述探头侧电极部形成于所述处理部；高频传递部，所述探头以所述处理部朝向所述顶端方向突出的状态贯穿该高频传递部，该高频传递部由导电材料形成；以及连接构件，其将所述高频传递部与所述支承部之间连接起来，从所述高频传递部向所述支承部的所述内部传递所述高频能量。4.根据权利要求1所述的把持单元，其中，所述支承部整体由绝缘材料形成，所述把持单元还具有中继构件，该中继构件由导电材料形成，以未暴露于所述外部的状态在所述把持单元的所述开闭方向上设于所述支承部与所述摆动部之间，所述摆动部以能够以所述摆动轴线为中心摆动的方式安装于该中继构件，所述钳构件侧电极部具有电接触面，该电接触面利用所述摆动部的摆动与所述中继构件相接触，从而从所述中继构件向该电接触面传递所述高频能量。5.一种双极处理器具，其中，该双极处理器具包括：权利要求4的把持单元；探头，其具有所述处理部，所述探头侧电极部形成于所述处理部；高频传递部，所述探头以所述处理部朝向所述顶端方向突出的状态贯穿该高频传递部，该高频传递部由导电材料形成；以及连接构件，其将所述高频传递部与所述中继构件之间连接起来，从所述高频传递部向所述中继构件传递所述高频能量。6.根据权利要求4所述的把持单元，其中，所述连结构件以所述摆动部能够以与所述宽度方向平行的所述摆动轴线为中心摆动的状态将所述摆动部连结于所述支承部，所述中继构件的顶端位于比所述摆动轴线靠顶端方向侧的位置。7.根据权利要求1所述的把持单元，其中，在将两个所述宽度方向设为第1宽度方向和第2宽度方向的情况下，所述钳构件侧相对面包括形成所述钳构件侧相对面的第1宽度方向侧的端部的第1端部形成面和形成所述钳构件侧相对面的第2宽度方向侧的端部的第2端部形成面，所述支承部包括：第1支承壁部，其从所述第1宽度方向侧覆盖所述摆动部，在定义了通过使所述第1端部形成面向所述第1宽度方向侧延长而得到的第1假想面的情况下，该第1支承壁部以其不从所述第1假想面向所述把持单元的闭合方向突出的状态进行设置；以及第2支承壁部，其从所述第2宽度方向侧覆盖所述摆动部，在定义了通过使所述第2端部形成面向所述第2宽度方向侧延长而得到的第2假想面的情况下，该第2支承壁部以其不从所述第2假想面向所述把持单元的所述闭合方向突出的状态进行设置。8.根据权利要求1所述的把持单元，其中，所述连结构件以所述摆动部能够以与所述宽度方向平行的所述摆动轴线为中心摆动的状态将所述摆动部连结于所述支承部。9.根据权利要求1所述的把持单元，其中，所述钳构件侧相对面...

【专利技术属性】
技术研发人员：森崎一浩，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP