具有不规则图案的光罩及其制法制造技术

一种具有不规则图案的光罩及其制法。该光罩包含一个透明基材，以及一层遮光层。该遮光层包括数条设置在该透明基材上的遮光条。所述遮光条彼此交错相配合界定出数个间格。每一个间格为无周期性且至少两边不等长的多边形。所述无周期性且至少两边不等长的多边形的间格图案，能利用成本低廉的纺丝法快速制得，故该光罩能被量产且成本低廉，而利用该光罩所制得的金属网格透明导电膜，因同样具有不规则图案，应用于各种显示屏时皆不易产生叠纹现象，相当具有竞争力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光罩，特别是涉及一种具有不规则图案的光罩及其制法。
技术介绍
透明导电膜是一种常用于触控装置与显示屏等多媒体产品，目前最常见用于制造透明导电膜的材料为铟锡氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)，然而ITO的价格相当高(ITO内会含有75wt％的铟，而每公斤的铟价格约800美元)，且所制成的透明导电膜会具有低面电阻(<50Ω/□)、膜色偏黄、用于可挠式产品时易碎裂等问题。随着物联网产业的崛起与行动智能设备普及，200ppi以上高解析智能装置需求日益殷切，对于ITO的需求也大幅增加，惟具有前述问题的ITO已逐渐无法符合这些行动智能产品的需求。因此，如何制造出一种非ITO类的透明导电膜，是一门值得研究的技术。目前，金属网格透明导电膜被认为是取代ITO类透明导电膜最具潜力的产品，然而金属网格透明导电膜其主要缺点有二：其一是容易产生叠纹现象，其二是不易控制界定网格的线条的线宽，然而不论是前者或后者，使用现有生产技术解决上述两个问题时都会导致生产成本的增加。所述的叠纹现象(moiré phenomenon)是指两个或两个以上的规则图案彼此重叠时，形成光学干涉纹的现象。现有的金属网格透明导电膜皆具有规则图案，故当显示屏采用金属网格透明导电膜作为电磁波遮蔽膜或应用于触控面板时，金属网格透明导电膜会与显示屏产生的画素图案、显示屏的电极图案或其他光学膜的图案彼此干扰，幷产生前述的叠纹现象，使得显示屏无法正确显示讯息给使用者。应用金属网格透明导电膜时，是否容易出现叠纹现象，与界定出金属网格的线条的宽度有关。若线条的线宽过粗，或者线条形成的交叉点(节点)过粗，皆容易产生叠纹现象。因此，目前解决上述问题的方法是要依照显示屏的尺寸及画素显示方法，设计相对应的线宽、节距、以及角度的金属网格图案以避免叠纹现象产生。因此，具有同一
种规则图案的金属网格透明导电膜无法通用于尺寸不同或画素执行方法不同的显示屏上，故必须依客户的不同需求而量身订作，无法以量产的方式降低制造成本幷提高竞争力。除了须客制化而无法量产外，控制界定出金属网格的线条的线宽也是一大问题。既有的金属网格透明导电膜的制程主要能分为印刷制程及黄光微影制程两种方式。采用印刷制程虽然能省去蒸镀、曝光、显影、蚀刻等工序及设备投资，直接在基材上印刷出所需图形，而能有较低的制造成本优势，但不易控制线条的宽度的精细度，易有产生叠纹现象的问题，且无法制造出肉眼无法分辨的线宽低于5μm的线条。至于黄光微影制程，虽然能提供较精细的网格及相对前者具有更细线宽的线条，但因线条的线宽在5μm以下的光罩其生产成本相当昂贵，而使得金属网格透明导电膜的生产成本一直居高不下。综上所述，如何开发出一种生产成本低廉且能量产制造出不易产生叠纹现象的金属网格透明导电膜的光罩，是一相当具有经济利益的研究课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种具有不规则图案的光罩及其制法，该制法能制造出具有不规则图案的光罩，而该光罩生产成本低廉，且能制造出不易产生叠纹现象且能通用于各式显示屏的金属网格透明导电膜。本专利技术具有不规则图案的光罩，包含一个透明基材，以及一层遮光层，该遮光层包括数条设置在该透明基材上的遮光条，所述遮光条彼此交错相配合界定出数个间格，每一个间格为无周期性且至少两边不等长的多边形。本专利技术所述的具有不规则图案的光罩，每一条遮光条的平均宽度为0.05μm～20μm，每一格间格的平均宽度为1μm～500μm。本专利技术所述的具有不规则图案的光罩，所述间格分别具有直线或弧线的边。本专利技术具有不规则图案的光罩，包含一个透明基材，以及一层遮光层，该遮光层包括数个分别设置在该透明基材上的遮光块，所述遮光块分别为无周期性且至少两边不等长的多边形。本专利技术所述的具有不规则图案的光罩，所述遮光块相配合界定出数条彼此交错的间隙，且每一个遮光块的平均宽度为1μm～500μm，每一条间隙的平均宽度为0.05μm～20μm。本专利技术所述的具有不规则图案的光罩，所述遮光块分别具有直线或弧线的边。本专利技术具有不规则图案的光罩的制法，包含一个步骤A：准备一个表面设置有一层遮光层的透明基材,该制法还包含一个步骤B：将一种光阻材料以纺丝法沉积至该遮光层上，并形成一层光阻层、一个步骤C：蚀刻移除该遮光层未受该光阻层覆盖的部分，以及一个步骤D：移除该光阻层。本专利技术所述的具有不规则图案的光罩的制法，在该步骤B中，是以静电纺丝法、熔喷法或溶液喷纺法将该光阻材料沉积至该透明基材上。本专利技术具有不规则图案的光罩的制法，包含一个步骤A：准备一个透明基材,该制法还包含一个步骤B：将一种光阻材料以纺丝法沉积至该透明基材上形成一层光阻层，该光阻层与该透明基材相配合界定出数个中空的网格，所述网格分别为无周期性且至少两边不等长的多边形、一个步骤C：将一种遮光材料沉积至该光阻层上及所述网格中，以及一个步骤D：移除该光阻层及该遮光材料附着于该光阻层上的部分。本专利技术所述的具有不规则图案的光罩的制法，在该步骤B中，是以静电纺丝法、熔喷法或溶液喷纺法将该光阻材料沉积至该透明基材上。本专利技术的有益效果在于：利用成本低廉的纺丝法即能快速地制备出线宽细致的所述遮光条，故该光罩能被量产且成本低廉，且由所述遮光条或所述遮光块所界定出或形成的不规则无周期性且至少两边不等长的多边形的图案，能使制得的金属网格透明导电膜，因同样具有不规则图案而不易产生叠纹现象，还能通用于各式显示屏，而具有适于大量制造的经济价值，故确实能达成本专利技术的目的。附图说明图1是本专利技术具有不规则图案的光罩及其制法的一个第一实施例
的一个扫描式电子显微镜影像；图2是该第一实施例的一个制法的一个步骤流程图；图3是该第一实施例的该制法的一个各步骤的示意图；图4是该第一实施例的该制法的一个纺丝步骤完成后的一个半成品的一个扫描式电子显微镜影像；图5是本专利技术具有不规则图案的光罩及其制法的一个第二实施例的一个制法的一个步骤流程图；及图6是该第二实施例的该制法的一个各步骤的示意图。具体实施方式下面结合附图及实施例对本专利技术进行详细说明，要注意的是，在以下的说明内容中，类似的元件以相同的编号来表示。参阅图1，本专利技术具有不规则图案的光罩及其制法的一个第一实施例包含一个透明基材1，以及一层遮光层2。该遮光层2包括数条设置在该透明基材1上的遮光条21。所述遮光条21彼此交错相配合界定出数个分别呈无周期性且至少两边不等长多边形的间格211。参阅图2、图3及图4，该第一实施例是由以下的制法制得：一个备材步骤31、一个纺丝步骤32、一个蚀刻步骤33，以及一个移除步骤34。在该备材步骤31中，是准备一个表面设置有一层遮光层2的透明基材1。在市面上能购得沉积有该遮光层2的该透明基材1。当然，在实施上也能自行将遮光材料沉积至该透明基材1上，以形成该遮光层2。所述的遮光材料为金属铬，其表面反射率为10至15％。所述的遮光层2的平均厚度T11为0.1μm，对于波长为450nm的光线而言，其光学密度为3.0。当所述遮光条21的光学密度小于1.8时，会有多余的光线穿透所述遮光条21，而使得光罩的图案无法良好地转印到其他材料上，也就是会产生失真的情况，而当所述遮光条21的光学密度大于4.0时，也就是所述遮光条21的厚度太厚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有不规则图案的光罩，包含一个透明基材；其特征在于：该光罩还包括一层遮光层，该遮光层包括数条设置在该透明基材上的遮光条，所述遮光条彼此交错相配合界定出数个间格，每一个间格为无周期性且至少两边不等长的多边形。

【技术特征摘要】
2015.01.09 TW 1041007461.一种具有不规则图案的光罩，包含一个透明基材；其特征在于：该光罩还包括一层遮光层，该遮光层包括数条设置在该透明基材上的遮光条，所述遮光条彼此交错相配合界定出数个间格，每一个间格为无周期性且至少两边不等长的多边形。2.如权利要求1所述的具有不规则图案的光罩，其特征在于：每一条遮光条的平均宽度为0.05μm～20μm，每一格间格的平均宽度为1μm～500μm。3.如权利要求1所述的具有不规则图案的光罩，其特征在于：所述间格分别具有直线或弧线的边。4.一种具有不规则图案的光罩，包含一个透明基材，其特征在于：该光罩还包含一层遮光层，该遮光层包括数个分别设置在该透明基材上的遮光块，所述遮光块分别为无周期性且至少两边不等长的多边形。5.如权利要求4所述的具有不规则图案的光罩，其特征在于：所述遮光块相配合界定出数条彼此交错的间隙，且每一个遮光块的平均宽度为1μm～500μm，每一条间隙的平均宽度为0.05μm～20μm。6.如权利要求4所述的具有不规则图案的光罩，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李炳寰，
申请(专利权)人：亚树科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71