一种用于细胞灌注培养的反应器基座制造技术

技术编号:13751011 阅读:151 留言:0更新日期:2016-09-24 14:46
本实用新型专利技术实施例提供一种用于细胞灌注培养的反应器基座,涉及细胞培养技术领域,为了解决现有技术中反应器培养室温度很难恒定,且不方便使反应器周围的气体环境保持在特定的状态下的问题而发明专利技术。一种用于细胞灌注培养的反应器基座,包括由导热材料制成的基座本体,所述基座本体的上表面开设有用于安装反应器的反应器安装槽,所述反应器安装槽内设有用于通入气体的气体流道,所述基座本体上开设有与所述气体流道连通的进气口。本实用新型专利技术用于安装细胞培养反应器。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及细胞培养
,尤其涉及一种用于细胞灌注培养的反应器基座
技术介绍
现有的细胞培养方式分为两种,一种为静态培养,通常使用培养瓶或者培养皿;另一种为灌注式培养,即将细胞接种于反应器内,可为细胞或组织源源不断的提供培养液供其生长。静态培养的方式中,培养液需定期更换,静态培养系统不能保持环境恒定,人工操作的效率和精度不高,且易对培养环境造成污染,而灌注式培养可减少人工操作从而减少污染的几率,同时由于连续不断的为细胞提供新鲜培养液,细胞生长的环境比较恒定。如图1所示,为现有的一种细胞灌注式培养反应器的结构示意图,包括主体01、培养室02、进液管03、出液管04和反应器盖05;培养室02置于主体01内;进液管03穿过主体01的一侧与培养室02连通;出液管04穿过主体01的另一侧与培养室02连通。但是,现有技术中存在以下问题:一般的细胞培养要求恒定的温度,因此,常要对培养室02加热,并使培养室02的温度保持恒定,而现有技术的反应器周围没有设置其它结构,很难保证反应器培养室02的温度恒定,同时,根据不同的实验要求,还需要使反应器培养室02处于不同的特定气体环境中,而现有技术的反应器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于细胞灌注培养的反应器基座,其特征在于,包括由导热材料制成的基座本体,所述基座本体的上表面开设有用于安装反应器的反应器安装槽,所述反应器安装槽内设有用于通入气体的气体流道,所述基座本体上开设有与所述气体流道连通的进气口。

【技术特征摘要】
1.一种用于细胞灌注培养的反应器基座,其特征在于,包括由导热材料制成的基座本体,所述基座本体的上表面开设有用于安装反应器的反应器安装槽,所述反应器安装槽内设有用于通入气体的气体流道,所述基座本体上开设有与所述气体流道连通的进气口。2.根据权利要求1所述的用于细胞灌注培养的反应器基座,其特征在于,所述基座本体上开设有气体浓度检测口。3.根据权利要求1所述的用于细胞灌注培养的反应器基座,其特征在于,所述基座本体的上表面开设有用于安装培养液输入管的输入管安装槽以及用于安装废液输出管的输出管安装槽,所述反应器安装槽位于所述输入管安装槽和输出管安装槽之间且分别与所述输入管安装槽和输出管安装槽贯通。4.根据权利要求3所述的用于细胞灌注培养的反应器基座,其特征在于,所述反应器包括多个反应孔,所述气体流道的位置与所述反应孔的位置对应。5.根据权利要求4所述的用于细胞灌注培养的反应器基座,其特征在于,所述反应器安装...

【专利技术属性】
技术研发人员:张海礁崔雪峰
申请(专利权)人:天津卫凯生物工程有限公司
类型:新型
国别省市:天津;12

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