一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的喷墨打印到像素内部的墨水易攀爬到像素界定层导致浪费墨水且成膜均一性差的问题。本发明专利技术的有机电致发光显示基板的像素界定结构包括亲水材料层、多孔介质材料层、疏水材料层，其中，亲水材料层与有机电致发光显示基板的衬底相接触，至少部分所述疏水材料层的疏水材料渗透到多孔介质材料层内部。喷墨打印时，墨水打印到像素区域中，由于像素界定结构中具有疏水材料层，其疏液性能好，墨水不会扩展攀爬或残留到侧面的像素界定结构上；其中可以通过控制疏水材料渗透到所述多孔介质材料层内部的深度以控制墨水攀爬的高度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示
，具体涉及一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
如图1、2所示，有机电致发光(OLED)显示基板包括像素区域1，以及像素区域1周边的非像素区域2，其中，每个像素区域1包括依次设置在衬底100上的阳极、多层发光功能层、阴极。发光功能层主要有真空蒸镀、溶液制程两种形成方式。真空蒸镀适用于形成由有机小分子构成的发光功能层，其成膜均匀好、技术相对成熟、但是设备投资大、材料利用率低、大尺寸产品掩膜版的对位精度低。溶液制程，包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，其适用于形成由聚合物材料或可溶性小分子构成的发光功能层，其特点是设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。其中，在利用喷墨打印的方式在所述阳极上形成发光功能层时，由于墨水具有流动性，为了减少墨水溢到相邻像素区域1中，一般在非像素区域2设置像素界定层3，以形成多个包围每个像素区域1的空间，喷墨打印的发光功能层墨水通过喷墨打印的方式喷涂在上述空间内，即喷涂在所述阳极表面。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：实际喷墨打印过程中，使用的墨水数量远远大于理论计算结果，其原因是喷墨打印到像素内部的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机电致发光显示基板，包括衬底，以及衬底上的像素界定结构，其特征在于，所述像素界定结构包括亲水材料层、疏水材料层，以及所述亲水材料层与所述疏水材料层之间的多孔介质材料层，其中，所述亲水材料层与所述衬底相接触，至少部分所述疏水材料层的疏水材料渗透到所述多孔介质材料层内部。

【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光显示基板，包括衬底，以及衬底上的像素界定结构，其特征在于，所述像素界定结构包括亲水材料层、疏水材料层，以及所述亲水材料层与所述疏水材料层之间的多孔介质材料层，其中，所述亲水材料层与所述衬底相接触，至少部分所述疏水材料层的疏水材料渗透到所述多孔介质材料层内部。2.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述多孔介质材料层厚度为500-1500nm。3.根据权利要求2所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述疏水材料层渗透到所述多孔介质材料层内部的深度为300-1200nm，且所述疏水材料层渗透到所述多孔介质材料层内部的深度小于多孔介质材料层厚度。4.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述亲水材料层厚度为50-300nm。5.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述疏水材料层未渗透至多孔介质材料层内的厚度为0-100nm。6.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述多孔介质材料层的孔径为50-200nm。7.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述亲水材料层由SiO2构成。8.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在
\t于，所述多孔介质材料层由Al2O3构成。9.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述疏水材料层由疏水材料固化后形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯文军，代青，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11