【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种曝光装置，具体涉及一种激光直写垂直双面曝光装置。
技术介绍
直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的问题，本技术提供一种激光直写垂直双面曝光装置，提升工作效率，更好的提高了产能。为了实现上述目的，本技术采用的技术方案是：一种激光直写垂直双面曝光装置，包括底座和曝光装置，曝光装置有两组，均设置在底座的上表面，曝光装置与底座所呈夹角为直角，在两组曝光装置的中间位于底座上表面设置滑移座，曝光装置为多棱镜集成组件，多棱镜集成组件上设置多棱镜投影光路。进一步的，所述的多棱镜集成组件上的多棱镜投影光路有多列，且相邻两列多棱镜投影光路交叉布置。进一步的，所述的两组曝光装置呈中心对称。本技术的有益效果是：能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，增加了工作的效率。附图说明图1为本技术的结构示意图；图2为本技术的俯视图；图中：1、多棱镜投影光路，2、多棱镜集成组件，3、PCB板件，4、底座，5、滑移座。具体实施方式下面...
【技术保护点】
一种激光直写垂直双面曝光装置，其特征在于，包括底座（4）和曝光装置（2），曝光装置（2）有两组，均设置在底座（4）的上表面，曝光装置（2）与底座（4）所呈夹角为直角，在两组曝光装置（2）的中间位于底座（4）上表面设置滑移座（5），曝光装置（2）为多棱镜集成组件，多棱镜集成组件上设置多棱镜投影光路（1）。
【技术特征摘要】
1.一种激光直写垂直双面曝光装置，其特征在于，包括底座（4）和曝光装置（2），曝光装置（2）有两组，均设置在底座（4）的上表面，曝光装置（2）与底座（4）所呈夹角为直角，在两组曝光装置（2）的中间位于底座（4）上表面设置滑移座（5），曝光装置（2）为多棱镜集成组件，多棱镜集成组件上设置...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐巍，赵华，张伟，王翰文，马汝治，
申请(专利权)人：江苏影速光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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