【技术实现步骤摘要】
201610317866
【技术保护点】
一种位移测量校正装置，其特征在于，所述装置包括：光栅位移传感器，所述光栅位移传感器用于进行位移测量；电控单元，所述电控单元用于获得所述光栅位移传感器所测量的第一位移信息；校正单元，所述校正单元用于获得所述第一位移信息，并根据所述第一位移信息获得误差补偿信息；数据处理单元，所述数据处理单元用于获得来自光栅位移传感器的第二位移信息和所述误差补偿信息，并根据所述第二位移信息和所述误差补偿信息实现对所述第二位移信息的校正。
【技术特征摘要】
1.一种位移测量校正装置，其特征在于，所述装置包括：光栅位移传感器，所述光栅位移传感器用于进行位移测量；电控单元，所述电控单元用于获得所述光栅位移传感器所测量的第一位移信息；校正单元，所述校正单元用于获得所述第一位移信息，并根据所述第一位移信息获得误差补偿信息；数据处理单元，所述数据处理单元用于获得来自光栅位移传感器的第二位移信息和所述误差补偿信息，并根据所述第二位移信息和所述误差补偿信息实现对所述第二位移信息的校正。2.如权利要求1所述的位移测量校正装置，其特征在于，所述光栅位移传感器还包括：标尺光栅；传感器读数头，所述传感器读数头用于获得与所述标尺光栅之间相对运动的位移测量信息。3.如权利要求2所述的位移测量校正装置，其特征在于，所述装置还包括：所述校正单元用于获得所述传感器读数头对所述标尺光栅的多次全量程测量信息，并根据所述多次全量程测量信息采用平均拟合的方法获得系统运动轨迹误差补偿信息；所述数据处理单元获得所述系统运动轨迹误差补偿信息并对第二位移信息进行差值校正，实现系统运动轨迹误差的校正。4.如权利要求2所述的位移测量校正装置，其特征在于，所述装置还包括：所述校正单元用于获得所述传感器读数头对所述标尺光栅的多次全量程测量信息，并根据所述多次全量程测量信息采用频谱分析的方法获得周期性误差频率；并根据所述周期性误差频率和所述多次全量程测量信息的精度信息拟合获得周期性误差校正曲线；所述数据处理单元获得所述周期性误差校正曲线，并根据所述周期性误差校正曲线和第二位移信息实现系统周期性误差的校正。5.如权利要求2...
【专利技术属性】
技术研发人员：高金磊，宗明成，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11
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