双面抛光机的下盘清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种双面抛光机的下盘清洗装置，属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着不容易清洗的问题。本双面抛光机的下盘清洗装置设置在抛光机的下盘处，其特征在于，包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二，所述的支架一上具有进水组件，所述支架二呈环形且套在下盘外侧，所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件，上述的进水组件与出水件相联。本装置清洗方便。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于机械
，涉及一种双面抛光机的下盘清洗装置。
技术介绍
目前，研磨抛光机适用的行业越来越广泛，作为研磨抛光的中间介质抛光液的种类也越来越多，它不仅仅局限于普通的抛光液，而是更多的增添了特殊药水的抛光液，这样就产生了很多的问题，其中一个就是产品的取料。当一批产品抛光完毕后，我们需要迅速地将药液清洗干净，一是方便人工取料，更重要的是药液的抛光是定时定量的，若抛光好后，产品还是停留在药液中，对产品的质量会有很大的影响。但是人工纯水冲洗有很大的不便，而且还会有不均匀的现象。中国专利其公开号CN103084250A提供了一种具有清洗剂添加装置的厨用垃圾处理器，包括：机壳、研磨机构和驱动电机；上外壳和下外壳组成的机壳内包裹研磨机构与驱动电机，研磨机构与驱动电机轴向相连；所述上外壳的端口设有卡槽可与落水口进行卡接；所述驱动电机的转轴从研磨机构底面的轴孔中伸入研磨机构内；所述研磨机构上设有用于连接水管进行清洁的进水口；所述研磨机构连接着辅助清本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面抛光机的下盘清洗装置，设置在抛光机的下盘处，其特征在于，包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二，所述的支架一上具有进水组件，所述支架二呈环形且套在下盘外侧，所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件，上述的进水组件与出水件相联。

【技术特征摘要】
1.一种双面抛光机的下盘清洗装置，设置在抛光机的下盘处，
其特征在于，包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二，所述
的支架一上具有进水组件，所述支架二呈环形且套在下盘外侧，
所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件，上述的进水
组件与出水件相联。
2.根据权利要求1所述的双面抛光机的下盘清洗装置，其特
征在于，所述进水组件包括进水管、阀门、流量控制阀，上述的
阀门和流量控制阀依次通过进水管相串联，所述进水管的进口用
于与水源相联，所述进水管的出口通过连接管与上述的出水件相
联。
3.根据权利要求2所述的双面抛光机的下盘清洗装置，其特
征在于，所述进水管的进口处还具有过滤器。
4.根据权利要求3所述的双面抛光机的下盘清洗装置，其特
征在于，所述的支架一呈平板状，上述的进水管、阀门、流量控
制阀和过滤器通过紧固件连接在支架一上。
5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑勇，魏永利，朱枫，高敬帅，
申请(专利权)人：浙江森永光电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33