温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供了一种双面抛光机的下盘清洗装置，属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着不容易清洗的问题。本双面抛光机的下盘清洗装置设置在抛光机的下盘处，其特征在于，包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二，所述的支架一上具有进水组件，所述支架...
该专利属于浙江森永光电设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江森永光电设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。